JPS59125677A - 発光受光装置 - Google Patents

発光受光装置

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JPS59125677A
JPS59125677A JP58000502A JP50283A JPS59125677A JP S59125677 A JPS59125677 A JP S59125677A JP 58000502 A JP58000502 A JP 58000502A JP 50283 A JP50283 A JP 50283A JP S59125677 A JPS59125677 A JP S59125677A
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JP
Japan
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light
light emitting
receiving
receiving transistor
transistor
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Application number
JP58000502A
Other languages
English (en)
Inventor
Michihiko Arai
新井 亨彦
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/12Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto

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  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) この発明は、発光受光トランジスタを3個以上用いてL
−NAND 、H−NOR論理機能を果す光学的論理集
積化回路装置に好適な発光受光装置に関する。
(従来技術) 従来、半導体装置を用いた光学的論理回路は半導体レー
ザを用いた高度な技術を用いたものが考えられていた。
それらの装置においては、半導体レーザ特有の制御の困
難性があり、また製作法の困難性、使用法の困難性、集
積化の困難性など、種々の難点があった。
また、他の方法で、pnpn型負性抵抗受光発光装置を
用いたものが考えられたが、その特性の制御、使用法の
困難性などの欠点があった。
(発明の目的) この発明は、これらの欠点を除去し、簡易に構成出来、
制御性に勝れ、使用条件範囲が広く、安定な動作を有す
る入出力光分離可能なL−NAND。
H−NORの光論理集積化回路装置としての機能を呈す
る発光受光装置を提供することを目的とする。
(発明の構成) この発明の発光受光装置は、導光路から入射された入力
信号光の光量に応じて第1の発光受光トランジスタをオ
ン、オフのスイッチング動作を行なわせ、この第1の発
光受光トランジスタのスイッチング動作に応じて鄭2の
発光受光トランジスタをオン、オフさせ、第2の発光受
光トランジスタのオン、オフ動作とは反対に第3の発光
受光トランジスタ全オン、:6′フぜせ、この第3の発
光受光トランジスタのオン時に出方信号光を出射(7て
導光路よシ取り出丁ようにしたものでめる。
(実施例) 以下、この発明の発光受光装置の実施例について開面に
基づき説明する。第1図(a)はその第1の実施例の模
式図である。その構成(は電気的要素と光学的要素をと
もに含んでいる。図中Q1.Q2. Q−は発光トラン
ジスタであり、化合物半導体例えばGaAs 、 At
GaA、s + InP ’、 InGaAsP  な
どm−v族化合物半導体で作られでおり、電気的には通
常のパイポーラトランジスタと同様な電流増巾作用を有
しており、光学的′には広IA波長範囲に亘る受光感度
をもつ光電変換機能を有し、力・っ比較的狭い波長範囲
の発光をする電流−光変換機能を有するトランジスタで
ある。また大電流を通電するとペース領域は、付近でレ
ーザ発光をする場合もある。
図中、電気回路はTTL型論理回路を構成しである。し
たがって、この回路は電気的には通常行われているよう
な変形もある。
A1はコレクタ側バイアス端子、A2はエミッタ側グラ
ンド端子である。B1はベース側バイアス端子、B2は
電気出刃あるいはモニタ端子であQlこれらの端子は不
可欠の端子ではないが、ろっ)こ方が制御性や安定性を
考え−〔伺カD的電気的素子を接続する便宜金屑)−ゐ
。R+ 、 & 、 Rsは電気抵抗てあシ、これらの
抵抗R8〜R3は、それぞれ発光受光トランジスタQ1
〜Q、の電気的動作条件を決起するためのものである。
さらに、他の抵抗やダイオードやトランジスタを付加し
た回路変形は、簡単化のため省略する。
上記発光受光トランジスタのQ、のベースはペース側バ
イアス端子B、に接続されている。この発光受光トラン
ジスタQ1とQ、のエミッタはエミッタ側グランド端子
A2に接続されCいる。
発光受光トランジスタQ1のコレクタは発光受光トラン
ジスタQ2のエミッタに接続されでいる。この発光受光
トランジスタQ2のコレクタは発光受光トランジスタQ
3のベースに接続されておシ、発光受光トランジスタQ
3のペースは抵抗R8を介してエミッタ側グランド端子
A2に接続されている。
発光受光トランジスタQ2のペースは抵抗R1を介して
、コレクタ側バイアス端子A1に接続されている。発光
受光トランジスタQ、のコレクタは抵抗R2全介し1コ
レクタ側バイアス端子AIに接続妊れでいるとともに、
電気出力あるいはモニタ端子B2に接続埒れている。
一方、Fl + F2 * F3+ F4は導光路(フ
ァイ・ぐ)で、たとえば光学ガラスや透明樹脂などで構
成される。
G+ 、 G2 、 Gs 、G4はある波長領域のみ
低減衰量で通過させ、他の波長領域では高減衰量で通過
を阻止する光学フィルタで、干渉フィルタや回折格子や
光学ガラスフィルタなどで実現可能のものである1、各
導光路F、〜F4にはそれぞれ光学フィルタ01〜G4
が配置されている。導光路F1〜F8の各一端は入射光
ロエ1〜■3にそれぞれ対向しておシ、導光路F1〜F
3の他端は光の導入部27(第1図(b)参照)に対向
している。
同様にして、導光路F4の一端は光の射光部28(第1
図(b)参照)に対向しており、この導光路F4の他端
は出射光ロエ。に対向している。
また、Cは発光受光トランジスタQ、、Q2.Q3間を
互に光学的に絶縁分離させるだめの遮光部で、たとえば
、光学的吸収材、たとえば、黒色樹脂や液体、粉末、黒
色固体などの絶縁体で構成し得るものである。なお、光
学フィルタG1〜G4は不可欠なものではない。
次に、以上のように構成されたこの発明の発光受光装置
の動作について説明する。いま、波長λ、。
λ2.λ3の入力信号がそれぞれ入射光口I、、 L、
 I3より入射するとし、光学フィルタG、 、 G2
. G3と導光路F、 、 F2. F3を通過し、波
長λ3.λ2.λ3の入力信号光は論理信号光として発
光受光トランジスタQ1に入射する。
一方、発光受光トランジスタQ3から発光した波長λ4
の光は、ファイバF4および光学フィルタG4 k通シ
出射ロエ。よ多出力信号光として出射する。
なお、波長λ1〜λ4はほぼ同一の波長の場合もある。
また、出力信号光は1個のみの場合もあるし、また同時
に複数個の導光路を発光受光トランジスタQ、に接続し
て同時に複数個の出力信号光を得ることもできるが、簡
単化のため省略しておく。
発光受光トランジスタQ、とQ2とQ3とは電気的スイ
ッチ回路を構成している。したがって、入射光口I、 
、 I2. I3よシ入射する入力信号光の光量の和が
小さい場合には、発光受光トランジスタQ、がオフ状態
となシ、この場合は発光受光トランジスタQ2のベース
からコレクタを通や、発光受光トランジスタQ、のペー
ス電流が供給されるので、この発光受光トランジスタQ
、がオン状態となり、出力出射光口■4より出力信号光
が射出される。
次に、入射光口I、、I2,1.よυの入力信号光の何
れかまたはそれらの和が大きくなる場合には、発光受光
トランジスタQ、がオン状態となシ、発光受光トランジ
スタQ2のベースからエミッタを通シ、発光受光トラン
ジスタQ+にコレクタ電流が供給されるため、この発光
受光トランジスタQ2にはオン状態となり、発光受光ト
ランジスタQ、のベース電位が低下する。したがって、
発光受光トランジスタQ、がオフとなシ発光セす、消光
状態とガる。
以上のことから、入射光口I、、I、、、1.よシ入力
信〜号光と出力出射口14よりの出力信号光とは、光量
の大小によ!J f−H」および「L」レベル、!: 
−f ;bと、L−NAND 、 H−N’ OR(r
)論理機能1有していることになる。
なお、ベースバイアス側端子B1の電気的・ぐ・イアス
信号を開いてもスイッチングレベルの設定1’i、fえ
得る。
第1図(1))は、第1図(a)の模式図に対応了る具
体的構成を示す横断面図である。この構成列では、抵抗
R1〜Rs l’j:外部接続として示は1%でいない
が、この第1図の)中に示されている絶縁性化合物半導
体基板19の内部または上部層の化合物半導体層11〜
23中に不純物拡散やイオン注入法などを用いて単一基
板内に構成し得る。
まだ、純抵抗以外に等測的に抵抗であればよいので、ト
ランジスタやダイオードなどを用いて代用することも可
能であるが、本質的要件ではないので、その具体例は簡
略化のため詳述を省いた。
化合物半導体層11〜26は発光受光トランジスタQ、
〜Qsk構成している。絶縁性化合物半導体基板19は
たとえばGaAsやInPで作成されて、その上にNP
Nの発光受光トランソスタQ1〜Q3ヲ同時に単一基板
上に構成している。
この絶縁性化合物半導体基板19の上に各発光受光トラ
ンジスタQ+ = Qsのコレクタ部を構成する化合物
半導体層14.18,23、さらにその上にベース部と
なる化合物半導体層13.17,22、エミッタ部をな
す化合物半導体層12,16,21、エミッタ電極を良
好なオーミック接続できるように−rるためのコンタク
ト層としての化合物半導体!11,15.20’rエピ
タキシャルに成長させる。
次に、ペース電極を上部より取り出すためのベース層と
同じp(−1:たけPNP)ランヅスタの場合はn)形
の不純物を拡散法あるいはイオン注入法などを用いて変
質させた層としての化合物半導体層24,25.26’
、ベース層としての化合物半導体層13,17.22迄
達するよう形成する3、その後、エミッタ部の一部を化
学的または物理的メサエッチングによシ取り除くか、あ
るいはイオン注入法などを用いた絶縁化によりエミッタ
ベース間の一部絶縁化とベース層への光の導入丑たは射
出部27.28を形成する。
したがって、この部分は単に其空や気体であってもよい
が、望ましくは各入出力信号光の波長において透明であ
って、かつ出来得る限9半導体や導光路に近い屈折率を
肩する樹脂や液体や固体で構成されることである。
その後、発光受光トランジスタQ1〜Q、のコレクタ電
極を設けるためのエツチング、および発光受光トランジ
スタQ、〜Q、を互に電気的絶縁を行ムうだめのエツチ
ングを行なう。
その後、各層のオーミック電極を蒸着法、メッキ法、ミ
ンク法などを用いて付加する。
一般には、エミツタ層としての化合物半導体層12.1
6.21Uペ一ス層としての化合物半導体層13.17
,22よシ大きなエネルギャップを有することが望まし
く、これによってエミッタからの小数キャリアの注入効
率を向上させ得る。
たとえば、ベース層としての化合物半導体層13゜17
.22がGaAsまたはInPで作られた場合、エミツ
タ層としての化合物半導体層12.16.21にはそれ
ぞれAtGaAsまたはInGaAsPなどが用いられ
るなどである。
また、同時にこのように行なうと、ベース層で吸収され
るべき光の波長に対して、エミツタ層は光学的に透明に
なし得て、よシ光電変換効率を高めることが可能となる
。エミッタコンタクト層としての化合物半導体層11,
15.20は本質的には不要であるが、エミツタ層とし
ての化合物半導体層12,16.21に直接オーミック
電極がとシ難い場合の補助的な層として用いられるもの
である。
ベース層としての化合物半導体層13,17゜22の組
成は一般には同−組成で同時に作成されるのが通例であ
るが、入出力信号光に対する波長特性を種々変更したい
場合には異なるものとするように作成させる。
これは、たとえば、選択エピタキシャル成長法を用いて
母材結晶の組成を変える方法や、同一組成結晶を成長後
不純物を選択的に拡散あるいはイオン注入法を用いて変
化させることによって達成可能である。
また、このベース層は発光受光トランジスタQ。
〜Q3の電気的および光学的特性に特に重要な作用を行
う層であり、■−v族化合物半導体に対しては特に■族
元素を不純物として用いると、特に望ましい特性が屡々
得られる。
すなわち、少数キャリア拡散長が長く、発光あるいは受
光の変換効率が高い特性が得られる。
また、第1図(b)の遮光部Cの部分は発光受光トラン
ジスタQ1〜Q、および導光路F、〜F4間相互の光相
互および電気的絶縁を行うだめの物質で前述の材料によ
って構成されるものである。
これによって、入出力間の分離と同時に各発光受光トラ
ンジスタQ1〜Q3の誤動作を避けることが可能となる
さらに、図中には導光路F1〜F4はすべて上部よシ取
p出す構造を示しているが、絶縁性化合物半導体基板1
9の下方部にF′4として示すように取p付けることも
可能であること、あるいは特にレーザ発光させる場合に
は横方向に出力取り出し用の導光路F4を取り付けるこ
とが望ましい。
また、遮光部Cは半導体部の上部のみ付カロしでいるが
、よシ完全な光学的遮蔽を行うために下方部および横方
向部にも付加する方が望ましい。
なお、光学フィルタ部01〜G4は簡略化のため外部接
続として省略した。
第2図(a)は第1図(a)における発光受光トランジ
スタQ、〜Q3の一部または全部をダーリントン接続さ
せることによってより犬なる増巾率と入力インビーダン
スを得る形式(Qi 、Qi’ )に変えた場合の他の
実施例の主要部を示すものである。
また、第2図缶)は第1図(a)における各発光受光ト
ランジスタのペースとコレクタとの間にダイ冴−ドDi
ft付加した場合の他の実施例である。
このダイオードDiはショットキバリアダイ万一トする
いは発光受光トランジスタのペースコレクタ間の順方向
電圧降下より小さいj―方同電圧降下を有する通常のp
n接合ダイオード、たとえば、ペースコレクタの構成材
料よりより小さなエネルギギャップを有する半導体材料
を用いたダイオードで構成される。
これによって、発光受光トランジスタの過大なペース駆
動電流の流入がなくなり、過大な少数キャリア注入が減
少し、蓄積効果によるスイッチング時間遅れが著しく短
かくなる利点を生ずる。。
第2図(a)と第2図(b)とは互に独立の考え方?・
汀するものであジ、しだがって、これらは組み合せて用
いてもよい。具体的な構成のための構造図は簡易化のた
め省略する。
第3図は、第1図(a)の実施例を変形した他の実施例
の模式図である。この実施例では第1図(a)における
発光受光トランゾスタQ+をQ、l+ Q10 + Q
10からなる3個の発光受光トランジスタに置きかえた
形式と考えられる。それに対応して入力信号用の導光路
F、 、 F2. F3がそれぞれ伺加されている。他
の構成はほぼ第1図(a)と同様である。
この場合の利点は入力信号光の波長が異なる場合、それ
ぞれの波長において最もよい感度′fc有する発光受光
トランジスタを対応させ得ること、人力信号先回路間の
光の相互作用を減せらノしること、受光感度を高められ
ることなどの利点をmする。
なお、第1図(a)および第3図の谷実施例では、入力
信号部は3個出力信号部は1個のみ図示したがこの数は
これに限定さnるものではない。
以上説明したように、各実施例においては、発光受光ト
ランゾスタの能動素子が電気的光学的に多機能な特性を
有するので、比較的簡単な回路で単純な構成により同一
基板上に多数個構成可能である。
また、電気的制御性も容易に得られる利点をも有すると
ともに、光学的な入出力信号であるため、電気的には他
の回路と全く絶縁した状態で動作可能であシ、その独立
性および制御性に大きな利点を有する。
したがって、これらの装置は並列的および直列的接続も
可能であシ、かつ同一平面上に多数個集積化できる。
また、前記実施例はnpn発光受光トランソスタを用い
た例のみが示されているが、pnp形でも同様に構成実
施できることは容易に考えられるので省略した。
(発明の効果) 以上のように、この発明の発光受光装置によれば、導光
路を通して入射された入力信号光の光量に応じて第1の
発光受光トランジスタをオン、オフのスイッチング動作
を行わせ、この第1の発光受光トランジスタのオン時に
第2の発光受光トランジスタをオンさせて第3の発光受
光トランゾスタをオフと1〜、かつ第2の発光受光トラ
ンジスタのオフ時に第3の発光受光トランゾスタをオン
させて出力信号光を出射させ、この出力信号光を導光路
を通して取り出すようにしたので、簡易にして多機能性
かつ制御性を有する光学的光論理回路装置の機能を呈す
ることができる。
これにともない、他の光学的比較器や遅延回路、光掃引
回路、光センサ、ディスプレイ回路混合増巾、発振回路
などの諸装置へ広範囲に応用可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)はこの発明の発光受光装置の一実施例の構
成を示す模式図、第1図(b) f’i第1図(a)の
発光受光装置の構造を示す横断面図、第2図(a)は同
上発光受光装置における発光受光トランジスタの部分を
二つの発光受光トランジスタでダーリントン接続した場
合の部分的模式図、第2図(b)は同上発光受光装置に
おける発光受光トランジスタの部分を発光受光トランジ
スタのペース−コレクタ間に順方向電圧降下の小さいク
ランプ用のダイオードを接続した場合の部分的模式図、
第3図は同上発光受光装置のさらに異なる実施例の模式
図である。 Q+ −Qs + Qo〜Qhs + Qi+ Qi’
・・・発光受光トランジスタ、F、−F4・・・導光路
、G、−G4・・・光学フィルタ、C・・・遮光部、1
1〜26・・・化合物半導体層、27・光の導入部、2
8・・・光の射出部。 特許出願人 沖電気工業株式会社 手続補正書 昭和5澤「で0月25目 特許庁長官若杉和夫 殿 1、事件の表示 昭和58年 特 許 願第 502    ±2・発明
の名称 発光受光装置 3、補正をする者 事件との関係     特 許 出願人(029)沖電
気工業株式会社 4、代理人 5、補正命令の日刊−昭和  年  月  日 (自発
)6、補正の対象 明WI書の特許請求の範囲および発明の詳細な説明細書
の「2、特許請求の範囲」を別紙の通シ訂正する。 2)明細書3頁7行「第2」を1第1」と訂正する。 3)同6頁7行「射光部」を1射出部」と削正する。 4)同8頁5行「には」を「は」と訂正する。 5)同11頁3行「ミンク」を「シンク」と言J正する
。 6)同15頁14行「3個出方信号部」を13個、出力
信号部」と削正する。 2、特許請求の範囲 入力信号光を導く第1の導光路と、この第1の導光路を
通して入射された上記入力信号光の光量に応じてオン、
オフのスイッチング動作を行iう第1の発光受光トラン
ジスタと、この第1の発光受光トランジスタのスイッチ
ング動作に応動して、オン、オフのスイッチング動作を
行々う第2の発光受光トランジスタと、この第1の発光
受光トランジスタのオン、オフ動作とは反対のオン、オ
フ動作を行ないかつオン時に出力信号光を出射する第3
の発光受光トランジスタと、この第3の発光受光トラン
ジスタの出射した出力信号光を導き出す第2の導光路と
、上記第1ないし第3の発光受光トランジスタを互いに
光学的に絶縁分離する遮光手段とよシなる発光受光装置

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 入力信号光を導く第1の導光路と、この第1の導光路を
    通して入射された上記入力信号光の光量に応じてオン、
    オフのスイッチング動作を行なう第1の発光受光トラン
    ジスタと、この第1の発光受光トランジスタのスイッチ
    ング動作に応動して、オン、オフのスイッチング動作を
    行なう第2の発光受光トランジスタと、この第2の発光
    受光トランジスタのオン、オフ動作とは反対のオン、オ
    フ動作全行ないかつオン時に出力信号光を出射する第3
    の発光受光トランジスタと、この第3の発光受光トラン
    ジスタの出射した出力信号光を導き出す第2の導光路と
    、上記第1ないし第3の発光受光トランジスタを互いに
    光学的に絶縁分離する遮光手段とよシなる発光受光装置
JP58000502A 1983-01-07 1983-01-07 発光受光装置 Pending JPS59125677A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5023552A (ja) * 1973-06-05 1975-03-13
JPS519569A (ja) * 1974-07-12 1976-01-26 Nippon Signal Co Ltd Ronrikairo

Patent Citations (2)

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