JPS59122462A - ５−チアプロスタグランジンｅ↓１類の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は５−チアプロスタグランジンＥｌ類の製造法に
関する。更に詳しくは、７位と８位との間に二重結合を
有する５−チア−ミーグロスタグ２ンジンＥＩ類を選択
的に還元するかあるいは７位に水酸基を有する７−ヒド
ロキシ−５−チアプロスタグランジンＥ、類から水酸基
を除去し、次′いて選択的に還元することにより５−チ
アブロスタグ２ンジンＥｌ類を製造する新規な製造法に
関する。 天然プロスタグランジン類は生物学的および　６− 薬理学的に高度な活性をもつオータコイドであり、それ
ゆえにそれらの誘導体に関する研究が数多く行なわれて
いる。以前本発明者はプロスタグランジンＥ、の有する
薬理学的な欠点を克服した新しいプロスフグランジン類
を得るべく鋭意研究した結果、５−チアプロスタグラン
ジン類およびその製造法を見出した。 本発明者らが別途出願した５−チアプロスタグランジン
類およびその製造法によれば、この本のの製造工程はた
とえばチャート１に示すととくである。 この製造法によれば、出発物である保護された４−ヒド
ロキシ−２−シクロベンテノンよシ得られるセレン誘導
体からビニル誘導体を得、チャートＩ ＯＨ’ ＦＩ さらにラジカル反応によりチオール類を付加させ、目的
物である５−チアブロスタグ２ンジン類を得るものであ
る。 しか−しながら仁の製造法においてビニル誘導体に対し
チオール類をラジカル的に付加させる反応は、その反応
条件において高い温度を必要とすることなどにより、副
生成物が生じ、収率の低下及び生成物の分離が困難であ
るなどという欠点を有している。 本発明者らはかかる点に着目し、５−チアプロスタグラ
ンジンＥ１類の有利か化学合成法す寿わち（ｎ反応条件
が温和である；０副生成物が生じない；（■）全収率が
高い等の利点を有する合成法を見出すべく鋭意研究した
結果、保護され　８− た４−ヒドロキシ−２−シクロベンテノンより一段階の
反応で高収率で得られる７−ヒドロキシ−５−チアプロ
スタグランジンＥＩ類から、そのヒドロキシル基を脱離
除去して５−チアーΔ１−グロスタグランジンＥ、類と
し、次いで選択的に還元することにより５−チアプルス
タブ２ンジン鳥類が容易にかつ高収率で得られることを
見出し、本発明に到達したものである。 すなわち、本発明は下記式〔Ｉ〕 〇 　９− で表わされる５−チアーΔ７−ゲロスタグ２ンジンＥ１
類を選択的に還元し、次いで必要に応じて脱保護及び／
又は加水分解反応に付することを特徴とする下記式［１
０ で表わされるグロスタグランジン４類の製造法、並びに
下記式０ｆｆ） で表わされる７−ヒドロキシ−５−チアプロスタグラン
ジンＥ、類を、塩基性化合物の存在下に有機スルホン酸
の反応訴導体と反応せしめて相１０− 当スる７−有機スルホニルオキシプロスタグランジンＥ
１類を生成せしめ、次いで塩基性化合物の存在下に処理
し、次いで必要に応じて脱保護及び／又は加水分解反応
に付し、下記式〔１〕で表わされる５−チアー△７−プ
ロスタグランジンＢ、類を得、次いで選択的に還元し、
更に必要に応じて脱保護／又は加水分解反応に付するこ
とを特徴とする、下記式（ＩＴ） で表わされる５−チアプロスタグランジンＥ、類の製造
法である。 本発明方法において用いられる上記式〔川〕で表わされ
る７−ヒドロキシ−５−チア−プロスタグランジンＥｌ
類は、下記する方法（チャート■）により保護された４
−ヒドロキシ−２−シクロベンテノンより一段階の反応
により高収率でかつ容易に得られる。 チャート■ Ｏ８ｉ乎　　Ｏａｔ主 上記式（ＩＩＩにおいて、Ｒ’ｔｉ水素原子又は炭素数
１〜１０のアルキル基を表わす。炭素数１〜ｌＯのアル
キル基としては例えば、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル、ヘキシル、デシル基などを挙げることができる。 これらのうちでもＲ１は水素原子、メチル、エチル基が
好ましい。 上記式（ｎＴ：］　において、Ｒ２け買換もしくは非置
換の炭素数１〜１０のアルキル基又は置換もしくけ非置
換の炭素数５〜６のシクロアルキル基を表わす。非置換
の炭素数１〜１０のアルキル基としては、直鎖状又は分
岐状のいずれで本よく、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル。 ペンチル、ヘキシル、２−ヘキシル、　　２−メｆルヘ
キシル、ヘゲチル、オクチル、デシル基すどが挙げられ
る。非置換の炭素数５〜６のシクロアルキル基トしてけ
シクロペンチル、シクロヘキシル基が挙げられる。 非置換の炭素数１〜１０のアルキル基又は非置換の炭素
数５〜６のシクロアルキル基の置換基としては、例えば
弗素、塩素、臭素などのハロゲン原子；アセトキシ基、
プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリ
ルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基
。 バレリルオキシ基、カプロイル基などのアシロキシ基；
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、クロロメチル基、ジ１３− クロロメチル基、トリフルオロメチル基などのアルキル
基：メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基等が拳けられ
る。 かかるＲ２としては、ペンチル基、２−メチルヘキシル
基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基が好ましい
。゛ Ｒ１１、Ｒ４１Ｆｉ保護基を表わす。保論基としては、
後述する本発明において実施される反応および後処理行
程中において脱離することなく安定に存在しうる保誰基
であればいかなる保護基でもよい。保護基としては例え
ばトリメチルシリル。 トリエチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリルなどのト
リ（Ｃｔ〜Ｃ４）アルキルシリル基；ｔ−ブチルジフェ
ニルシリル基などのジフェニル（ＣＩ〜Ｃ４）アルキル
シリル等の）　’）　（Ｃ＋　−Ｃ１ｌ　）炭化水素シ
リル基（シリルエーテル型保護基）、あるいはメトキシ
メチル、１−エトキシエチル、２−メドキシー２−プロ
ピル、２−エトキシ−２−プロピル、（２−メトキシエ
トキシ）メチル。 １４− ベンジルオキシメチル、２−テトラヒドロピラニル、２
−テトラヒドロフラニル、６，６−シメチルー３−オキ
サ−ビシクロ（３＋ｔ＋’ｌ）ヘキス−４−イル基など
の酸素原子と共にアセタール結合を形ＪＲする基（アセ
タール型保護基）などが挙げられる。こ九らのなかでＬ
−プテルンメチルシリル、２−テトラヒドロピラニル、
ｌ−エトキシエチル、２−メトキシ−２−プロピル基。 （２−メトキシエトキシ）メチルが好ましい。 ■ｐｌ、　Ｒ４１において用いられる保股基は同一であ
っても異なっていてもよい。 このような７−ヒドロキシ−５−チアプロスタグランジ
ンＥ１類を、塩基性化合物の存在下に有機スルホン酸の
反応性誘導体と反応せしめる。 ここで用いる塩基性化合物としては、例えば有機アミン
、ＩＰ！ｊＫ第５級有第５ミ有が好ましく使用される。 かかる有機アミンの例としては、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、　　１ｓｏ−プロピルジメチルアミン
、ジ１ａｏ−プロピル　シクロヘキシルアミン、ジｌ５
ｏ−プロピル　エチルアミン。 ピリジン、２，６−ルチジン、　　２，４．６−コリジ
ン。 ４−　（Ｎ、Ｎ−ジメチル）アミノピリジン、１，５−
ジアザビシクロ［４，３，Ｏｌノナ−５−エン。 １．４−一ンアザビシクロＩ）、ｚ、２］オクタンの如
キ有機アミンが挙げもハ、る。なかでもトリエチルアミ
ン、ピリジン、２．６−ルチジン＋　　’　　（ＮＩＮ
　−２メチル）アミノピリジンが好ましい。 反応は、通常非プロトン性不活性有機溶媒中で好まし〈
実施される。かかる溶媒としては、例えばジクロルメタ
ン、クロロポルム、四塩化炭素、ｌ、２−ジクロルエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素；エチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水１；ヘキサン、
ペンタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素；酢酸
エチルなどのエステル類；ジメチルホルムアミド；ジメ
チルスルホキシド；ヘキサメチルホスホルアミド々どが
好ましく用いられる。 とれらのうち、ハロゲン化炭化水素が特に好ましい。 有機スルホン酸ハライド、有機スルホン酸無水物が好捷
しい。 かかる有機スルホン酸ハライドとしては、例えば、メタ
ンスルホン酸塩化物、エタンスルホン酸臭化物、ｎ−ブ
タンスルホン酸塩化物、ｔ−ブタンスルホン酸塩化物、
トリフルオロメタンスルホン酸塩化物、ノナフルオロブ
タンスルホン酸塩化物、ベンゼンスルホン酸塩化物、ｐ
−トルエンスルホン酸塩化４に、４−７’ロモベンゼン
スルホン酸塩化物、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸
塩化物、４−クロロ−３−二トロベンゼンスルホン酸塩
化物、　　２，３．４−　ト’）　ｌロロベンゼンスル
ホン酸ｔＭ化物、２−フェニルエタンヌルホン酸塩化物
などが挙げられる。なかテモメタンスルホン酸塩化物、
トリフルオロメタンスルホン酸ｆｆｌ　化物、　　ベン
ゼンスルホン酸塩化物、ｐ−）ルエンスルホン酸塩化物
が好オシい。 １７− 有機スルホン酸無水物としては、例えばメタンスルホン
酸無水物、エタンスルホン酸無水物。 トリフルオロメタンスルホン酸無水物、ノナフルオロブ
タンスルホン酸無水物、ベンゼンスルホン酸無水物、Ｐ
−）ルエンスルホン酸無水物。 トリフルオロメタンスルホン酸−ベンゼンスルホン酸混
合酸無水物、トリフルオロメタンスルポン酸−ｐ−）ル
エンスルホン酸混合酸無水物。 トリフルオロメタンスルホン酸−４−二トロベンゼンス
ルホン酸混合酸無水物などが挙げられる。なかでもメタ
ンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無
水物、ｐ−ｈルエンスルホン酸無水物が好ましい。 反応は上記式〔ｌ旧で表わされる７−しドロキシ−５−
チアプロスタグランジンＥ、類の７位の水酸基と有機ス
ルホン酸の反応性誘導体との反応であり、化学量論的に
ＥＦ、両者の化合物は等モルで反応する。実際に反応を
行なうに際しては、７−ヒドロキシ−５−チアプロスタ
グランジンＥ、類に対して、有機スルホン酸の反応性誘
導体　１８− を１〜５０倍モル、好ましけ１〜ｌＯ倍モル使用する。 反応温度は一２０〜１００℃、好ましくは０〜５０℃で
ある。反応時間は１〜６０時間、好ましくは２〜１２時
間である。 かくして上記第１の反応によシ、上記式〔１旧の７−ヒ
ドロキシ−５−チアプロスタグランジンｈ類の７位の水
酸基が有機スルホニルオキシ基に変換された相当する７
−有機スルホニルオキシ−５−ナアブロスタグランジン
Ｅ□類が生成される。次いで７−有機スルホニルオキシ
−５−チアプロスタグランジン４類は塩基性化合物に」
：って処理される。７−有機スルホニルオキシ−５−チ
アプロスタグランジンＥ、類はかかる処理によって、相
当する有機スルホン酸を脱離し、７位の炭素原子と８位
の炭素原子との間に二重結合が生成した５−チアー△７
−プロスタグランジンＥＩ類が得られる。この第２の反
応は、上記第１の反応と同様の塩基性化合物を用い、＃
１ぼ同じ温度で進行せしめることができる。 ＠１及び８ｇ２の反応は、第１の反応で生成した７−４
８スルホニルオキシ−５−チアプロスタグランジンＥＩ
＠を単離したのち、第２の反応を行なってもよく、ある
いは第１の反応で生成Ｌｉ７−有機スルホニルオキシ−
５−チアプロスタグラ・ンジンＥ、類を反応系から単離
ぜず、同じ反応系中で、場合によっては反応系中に新た
に塩基性化合物を加えて第２の反応を実施することもで
きる。 尚、第１及び第２の反応において用いられる塩基性化合
物は異なっていてもよい。すなわち例えば、第１の反応
においてピリジン、トリエチルアミン、イソプロピルジ
メチルアミンなどの比較的弱い塩基性化合物を用い、陳
２の反応において、４−ジメチルアミノピリジン、１，
５−ジアザビシクロ（’＋”＋’）ノナ−５−エンなど
の強い塩基性化合物を用いて反応を行なうこともできる
。 反応終了後、目的物は通常の方法で処理することＫより
分離精製される。すなわち、例えば抽出、洗浄、乾燥、
濃縮、クロマトグラフィー等の組合わせＫよる方法によ
り分離される。 得られる目的物は更に必要に応じて脱保護及び／又は加
水分解反応に付してもよい。 水酸基の保護基（１ｍ１　　および／またはＲ４１）の
除去、すなわち脱保膿反応は、保護基が水酸基の酸素原
子と共にアセタール結合を形成する基の場合には、例え
ば酢酸、Ｐ−）ルエンスルホン酸のピリジニウム塩又は
陽イオン交換樹脂等を触媒とし、例えば水、テトラヒド
ロフラン。 エチルエーテル、ジオキサン、アセトン、アセトニトリ
ル等を反応溶媒とすることにより好適に実施される。脱
保鰻反応は通常−７８℃＋３０℃の温度範囲で１０分〜
３日間程度行なわれる。保護基がトリ（０１〜Ｃｇ）炭
化水素−シリル基の場合には、例えば酢酸、ナト２プチ
ルアンモニウムフルオリド、セシウムフルオリド等、好
ましくはテトラプチルアンモニウムフルオリド、セシウ
ムフルオリドを用いて、好ましくはトリエチルアミン等
の塩基性化合物の存在下に２１− 反応を行なうことＫよって保護基が除去される。 かかる反応を行なう際に用いる溶媒としては、水、子ト
ラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、アセト
ン、アセトニトリル等、好ましくけテトラヒドロフラン
、エチルエーテル。 ジオキサン、アセトン、アセトニトリルが挙げられる。 また反応温度１反応時間け、上記した如き保設基が水酸
基の酸素原子と共にアセタール結合を形成する基の場合
の脱保護反応とほぼ同様である。 ５−チアー△７−プロスタグランジンＥ１類の１位のカ
ルボキシル基の保護基の除去、すなわち１位のＲ１がＣ
１〜Ｃ８゜のアルキル基である場合の核エステル基の加
水分解反応は、例えばリパーゼ等の酵素を用い、水又は
水を含むｍ媒中で一１０℃〜＋６０℃の温度範囲で１０
分〜２４時間程度処理することＫより行々われる。 反応後、通常の方法により後処理した後、クロマトグラ
フィー等の分離操作を行なうことにより、脱保護及び／
又は加水分解された５−チ２２− アー△７−プロスタグランジンＥ１類が得られる。 かくして上記式ＣＤで表わされる５−チアーｄ−プロス
タグランジンＥ、類が得られる。かかる化合物は次いで
選択的に還元される。 選択的に還元する方法としては、例えば亜鉛−釧、亜鉛
−銅等の亜鉛系還元剤による還元；ラネーニッケルによ
る接触還元又は有機スズ水素化物による還元が好ましく
挙げられる。 亜鉛還元剤を用いる場合には、反応は氷酢酸の共存下に
行なわれる。用いられる亜鉛系還元剤の量は原料化合物
〔１〕に対し１〜１０００倍モル、好ましくは５〜２０
０倍モルであり、氷酢酸は１〜２０００倍モル、好まし
くは１０〜１０００倍モルの範囲である。この時使用す
る溶媒としては、例えばメタノール、エタノール。 インプロピルアルコール等のアルコール類；ジメトキシ
エタン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、酢酸あるいはこれらの混合溶媒が好ましく、特に好ま
しいのは、メタノール、イソプロピルアルコール、酢酸
である。溶媒の使用量は反応をすみやかに進行させるの
に十分な量があれば良く、通常は原料化合物〔１〕Ｋ対
し１〜２０００倍容量、好壕しくは５〜１０００倍容量
が用いられる。反応温度は使用する原料、試薬、溶媒に
よって異なるが、Ｏ℃〜１１５℃の範囲、好１しくはｌ
Ｏ℃〜８０℃の範囲で行なわれる。反応時間は条件によ
り異なるが１〜４８時間程度が好ましく、さらに好まし
いのは、３時間〜２４時間である。反応の進行は薄層ク
ロマトグラフィー等の方法によシ追跡される。反応終了
後、上記式［ＩＴ）で表わされる５−チアープロスタグ
ランジンｈ類は、反応液を通常の方法で処理することに
より分離精製される。すなわち、例えば抽出、洗浄、乾
燥。 凝縮、クロマトグラフィー等の組合わせによる方法によ
り分離精製される。 ラネーニッケルは原料に対し通常２〜３゜ｗｌチ、好ま
しくは５〜２Ｑ　ｗｔ％の範囲で用いられる。水素添加
反応の圧力は通常、常圧〜５気圧、好ましくは常圧〜３
気圧の範囲で行なわれる。この時に使用する溶媒として
は例えばメタノール、エタノール、ブタノール等のアル
コール類；ジオキサン、テトラヒドロフラン岬のエーテ
ル類；酢酸エチル等のエステルｍｕ酢ｅニジメチルホル
ムアミド；またはこれらの混合溶媒が好ましく用いられ
る。特に好ましくはメタノールが用いられる。溶媒の使
用量は反応をすみやかに進行させるのに十分な量があれ
ば良く、通常は原料化合物〔

【〕Ｋ対し１〜２００倍容
量、好ましくは５〜１００倍容量が用いられる。反応温
度は使用する原料、試薬、溶媒等によって異なるが、θ
℃〜６０℃の範囲、好ましくはｌＯ℃〜４０℃の範囲で
行なわれる。反応の進行は薄層クロマトグラフィー等の
方法によシ追跡される。反応終了後、上記式［ｒＩ）で
表わされるブロスタグ２ンジンＥ、類は、反応液を通常
の方法で処理するととＫよシ分離精製される。すなわち
、例えば、濾過濃縮、クロマトグラフィー等の組合わせ
による方法により分離精製される。 ２５− 有機スズ水素化物による還元において用いられる有機ス
ズ類は水素化トリブチルスズ、水素化トリフェニルスズ
、水素化トリエチルスス２どが用いられ、そのｔは原料
（ｒ）　Ｋ対して１当量から１０００当量用いられ、好
ましくけ１当量から１０００当量である。反応溶媒は必
要に応じて用いてもよく、アルコール系の溶媒などが用
いられるが、一般には無溶媒反応が好ましい。 反応を円滑に進行させるために遊離基開始剤を用いても
よく主にα、α′−アゾビスインブチロニトリルやビス
−１−ブチルバーオキシドなどが用いられ、その量は出
発原料〔１〕に対して０．０１当量〜１０当量、好まし
くは０．１当ｔ〜１当量である。 反応温度はθ℃〜２００℃の範囲で行われ、好ましくけ
３０℃〜１３０℃の範囲で行われる１反応の進行は薄層
りｐマドグラフィー等の方法により追跡される。反応終
了後、上記式〔■〕で表わされる５−チアブロスタグ２
ンジンＥ、類は、反応液を通常の方法で処理することに
よυ分離２６− 精製される。すなわち、例えば、濾過濃縮、クロマトグ
ラフィー叫の組合わせによる方法により分離精製される
。 得られる目的物け、更に必要に応じて前述した如き脱保
護及び／又は加水分解反応に付してもよい。かくして目
的とする上記式〔ｌＴ）で表わされる５−チアプロスタ
グランジンＥ、類が得られる。 本発明によれば、温和な反応条件により、高収率で５−
チアプロスタグランジンＥ、類を得ることができる。 以下本発明を実施例により説明する。 参考例１ ａ　（ａ）　−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシル１−
ヨード−１−オクテン６．０７　ｆ　（１６，５ｍｍｃ
＋１）を３０−の無水エーテルにとかしアルゴン気中＝
７８℃にてｔ−ブチルリチウム１６．５ｍｌ（２Ｍ溶液
）（３３ｍｍｏ＋）を加えその１ま１時間撹拌する。 次に１−ペンチニル銅（ｒ）　２．１　ｓ　ｔ　（ｔ　
６．５ｍｍｏｌ）及びヘキサメチルホスホラストリアミ
ド５．４　ｆ　（３３ｍｒｒ＋ｏｌ　）の２５ｍの無水
エーテル溶液を加え、さらに−７８℃で１時間撹拌した
。 ４−ｔ−７’チルジメチルシリルオキシ−２−シクロベ
ンテノン３．１８　？　（１５ｍｍｏｌ）の無水エーテ
ル溶液２０　ｒｄを加え一７８℃で３０分間。 −５０℃で１０分間撹拌１〜だ。７−オキソ−５−チア
ヘプタン酸メチルエステル２．９　ｔ　（１６，５ｎＩ
ｒｎｏ１）の無水エーテル１０ｍ１！溶液を一５０℃に
冷却して加え、−５０℃〜−４０’Ｃで４０分撹拌した
。ｐＨ４に調整した酢酸−酢酸す）　ＩＪウム緩衡液へ
反応液をあけ、ヘキサン抽出した。無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濃縮後シリカゲルクロマトグラフィーにて
分離精製し、？−ヒドロキシー５−チアプロスタグラン
ジンＥ、１１゜１５　−ビス−１−ブチルジメチルシリ
ルエーテル及びその鏡像体の１５−エビ体の混合物５．
２２（収率５５係）を得た。 ＴＬＣＲｒ：ｏ、４ｓ　（溶媒；ヘキサン：酢酸エチル
＝ａ　：　ｉ　） Ｉ　Ｒ（ｃｒｎ、　ｎｅａｔ　）　： ３５００．２（＋５０．２８８０，１７４０，１４６０
゜１４４０．１３６０，１２５０゜ ＮＭＲ（δＰＰｔｎ　ｉｎ　ＣＤＣ４）　：０．９　（
ｓ　、　１８Ｈ）、　０．９〜１．７（ｒｎ　、　Ｉ　
Ｉ　Ｈ）。 １．７〜３．１　（ｍ　、　１０Ｈ）、　３．７　（ｇ
　、　ａ■）。 ３．７〜４．４（ｍ、３Ｈ）、５．６５（ｍ、２Ｈ）。 実施例１ 合成 ７−ヒドロキシ−５−チアプロスタグランジンＥ１メチ
ルエステル１１．１５−ビス−ｔ−ブチル２９− ジメチルシリルエーテル及びその伊像体の１５−エビ体
の混合物１．２５９　（１，９８ｍｍｏｌ）を１０ｍ／
の無水ジクロロメタンにとかし、４−ジメチルアミノピ
リジン１．６５　ｆ　（１３，５ｍｍｏｌ　）を加え、
０℃にてメタンスルホニルクロリド０．５　ｔｎｌ　（
６，７ｍｒｎｏｌ　　）を加え、０℃で５時間撹拌し、
さらに室温にて１時間投拌した。水を加え、ジクロロメ
タンで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
後シリカゲルクロマドグ２フイーにて分＃Ｎ製し、５−
チアー△７−プロスタグランジンＥ、メチルエステルＩ
Ｉ、１５−ビス−ｔ−ブチルジメチルシリルエーテル及
びその鏡像体の１５−エビ体ｆ得た。そのうち７℃体を
５９０〜（収率４９チ）および７２体を１５０１ｍｌ（
収率１２％）を得た。 ＴＬＣｆＥ体、Ｒｆ：０．６５（溶媒；ヘキサン：酢酸
エチル−３＝１） ７２体、Ｒｆ：０．６８（溶媒；ヘキサン：酢酸エチル
＝３：１） ７℃体 ３０− −１ １Ｒ（ｃｒｎ　　、ｎｅａｔ　）； ２９８０．２Ｂ７０，１７４０，１６４０，１４６０゜
１３６０、　１２５５゜ ＮＭＲ（δｌｌＰｍ　　ｉｎ　ＣＤＣ４）　；０．９（
ｓ、ＩＦＩＩ（）、０．７〜２．１（ｍ、１３）Ｔ）。 ２．１〜２．８（ｍ、６Ｈ）、３．０〜３．５（ｍ、３
Ｈ）。 ３．７０　（ｓ　、　３Ｈ）、　　３．９〜４．３　（
ｍ　、　２Ｈ）。 ５．５５　（ｍ　、　２Ｈ）、　　６．＋ｌ（ｄｔ　、
　Ｉｌｆ、　Ｊ　＝７．５　。 ２．０　） ７２体 １ １Ｒ（閏　　、ｎｅａｔ　）； ２９８０．２８７０．１７４１＋、１４５０，１２５５
ＮＭＲ（δｐｐｍ　　ｉｎ　ＣＤＣ／４１　）　：０．
９　（ａ　、　１８）Ｔ）、　　０．７〜２．１　（ｍ
　、１３Ｈ）。 ２．１〜２．７　（ｍ　、　６Ｈ）、　　３．０〜３．
６　（ｍ　、　３Ｈ）。 ３．７　（ａ　、　３Ｈ）、　　３．７〜４．３５　（
ｍ　、　２７（）。 ５．３−５．９（ｍ、ＩＨ）、５．５５（ｍ、２Ｈ）実
施例２ （Ｗｇ）　−７，８−デヒドロ−５−チアプロスタグラ
ンジンＥ、メチルエステル１１．１５−ビス−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルエーテル１２０■（０，２ｒ＋ｖｒ＋
ｏｌ　）をイソプロパツール２ｆＩｕ！にとかじ、酢酸
０．４ｍ／！を加えて、撹拌しながら亜鉛末】、４？　
（２１ｍｍｏｌ　）を加え室温で５時間撹拌する。 飽和炭酸水素す）　ＩＪウム溶液を加えて反応を終結さ
せ、エーテル抽出を行々う。乾燥後溶媒を留去し、薄層
クロマトグラフィー（Ｒｆ；　０．７５ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル−３：１）で分離精製し、５−チアプロスタ
グランジンＥ１メチルエステル１１．１５−ビス−ｔ−
ブチルジメチルシリルエーテル５９■（収率４９％）を
得た。 ＮＭＲ（δＩ）ｐｍ　Ｉｎ　ＣＤＣ４）　：０．９（ａ
、１８Ｈ）、１．１〜１．６（ｍ、１５Ｈ）。 １．７〜２．８　（ｍ　、　９Ｈ）、　３．７　（ｓ　
、　３　Ｈ）。 ４．１５　（ｍ　、　２Ｈ）、　　５．６５　（ｍ　、
　２Ｈ）実施例３ （７Ｂ）　−７，８−デヒドロ−５−チアプロスタグラ
ンジンＥ１メチルエステル１１．１５−ビス−を一ブチ
ルジメチルシリルエーテル９１ｑ（０，１５ｍｍｏ＋　
）に水素化トリブチルスズ１　ｍｌ　（３，７ｍｍｏｌ
）およびビス−ｔ−ブチルバーオキシド２０■（０，２
ｍｍｏｌ’）を加え１００〜１１０℃にて１０分間撹拌
する。冷却し、直接シリカゲルクロマトグラフィーに供
し、５−チアブロスタグ２ンジンＥ、メチルエステル１
１．１５−ビス−ｔ−７’チルジメチルシリルエーテル
５９Ｗ（収率６５％）を得た。 実施例４ ５−チア−プロスタグランジンＥ、メチルニス３３− チルおよびその８，１１．１２−エビ体の合成精製の５
−チアープロスタグランジン均メチルエステル１１．Ｉ
ｓ−ビスーｔ−プｆルシメチルシリルエーテル及びその
８，１１．１２−エビ体の混合物３６■を１４艷のアセ
トニトリルに溶解し、室温にてフッ化水素酸（４７％水
溶液）を０，７−加え３０分撹拌する。反応後戻酸水素
す）　＋Ｊウム水溶液で中和し、通常の抽出操作を行々
う。 減圧下に溶媒を留去し、粗生成物を薄層クロマトグラフ
ィー（シクロヘキザン、／酢酸エチル−１／４）で精製
し、５−チア−プロスタグランジンＥ、メチルエステル
７■（収率３０．９％）とその８．１１．１２−エビ体
７．５　ｍｇ（収率３３％）を得た、。 ＴＩ、Ｃ（シリカゲル：シクロヘキサン／酢ＦＩｆｆエ
チル−１／４）：５−チア−プロスタグランジンＥｌメ
チルニスデルＲｆ＝０．１５．８，１１゜１２−エビ体
Ｒｆ＝　０．２０　） ゴ２− ３４− ＮＭＲ（ｉｎ　　ＣＤＣ／４　、　１００　ＭＨｚ　）
　：０．＜１（ｍ、３ＴＩ）、１．２〜１．６（ｍ、１
２Ｈ）。 １．８〜２．８　（ｒｎ　、　１０Ｈ）、　　３．６７
　（１、３Ｈ）。 ４．１〜４．２　（ｍ　、　２Ｈ）、　　５．７　（ｍ
　、　２Ｈ）。 Ｍａｓｓ（７０ｅｖ、ｍ／ｌ）、３６８（Ｍ’−１８）
。 ３５０．２６７．２３５ ０８．１１．１２−エビ体 ＮＭＲ（ｌｈ　ＣＤＣＪ！４．１００　ＭＨｚ　）　：
０．９　（ｍ、　３Ｈ）、　　１．１＝１．６　（ｍ　
、　１２Ｈ）、　　１．８〜２Ｊ（ｍ、ｌ０Ｈ）、３．
６７　（ｓ　、３Ｈ）、４．１〜４．２５（ｍ、２Ｈ）
、５．７　（ｍ、２Ｈ）。 Ｍａ　ｓ　ｓ　（７０ｔｖ、ｍ／ｌ）：３６８（Ｍ’−
１８）、３５０，２６７．２３５゜３５− ４５４−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 Ｌ　下記式〔■〕 で表わされる５−テアーΔ７−ゲロスタグランジンＥ、
   類を選択的に還元し、次いで必要に応じて脱保護及び／
   又は加水分解反応に付することを特徴とする下肥式〔■
   〕 で表わされる５−チアプロスタグランジンＥ。 類の製造法。 ２、　選択的還元を、亜鉛系還元剤、有機スズ水素化合
   物又はラネーニッケルによって行なう特許請求の範囲第
   １項記載の５−チアブロスタグ２ンジンＥ＋ｌＪＩの製
   造法。 ３、　上記式〔■〕において　Ｒ１は水素原子、メチル
   基又はエチル基である特許請求の範囲第１項又は第２項
   記載の５−チアプロスタグランジンに、類の製造法。 ４、　上記式（ｒ）において、Ｒ１がペンチル基、２−
   メチルヘキシル基、シクロペンチル基又ハシクロヘキシ
   ル基である特許請求の範囲第１項〜第３項のいずれか１
   項記載の５−チアプロスタグランジンＥｌ類の製造法。 ＆　上記式〔【〕において、１３　、　Ｂ４が同一もし
   くは異なシ２−テトラヒドロビ２ニル基、１−ブチルジ
   メチルシリル基、ｌ−エトキシエチル基、２−メトキシ
   −２−プロピル基又ハ（２−メトキシエトキシ）メチル
   基である特許請求の範囲第１項〜第４項のいずれか１項
   記載の５−チアプロスタグランジンＥ、類の製造法。 ６、　下記式［ｍ） で表わされる７−ヒドロキシ−５−チアプロスタグラン
   ジンＥｌ類を、塩基性化合物の存在下に有機スルホン酸
   の反応性誘導体と反応せしめて相当する７−有機スルホ
   ニルオキシ−５−チア−プロスタグランジンＥ類を生成
   せしめ、次いで塩基性化合物の存在下に処理し、次いで
   必要に応じて脱保誦及び／又は加水分解反応に付し、下
   記式〔１〕 で表わされる５−チアー△７−プロスタグランジンＥｌ
   類を得、次いで選択的に還元し、更に必要に応じて脱保
   譲／又は加水分解反応に付することを特徴とする、下記
   式〔旧 で表わされる５−チアプロスタグランジンＥ１類の製造
   法。 ７、　選択的還元を亜鉛系還元剤、有機スズ水素化合物
   又はラネーニッケルによる接触還元によって行なう特許
   請求の範囲第６項記載の５−チアプロスタグランジンＥ
   １類の製造法。 ８、　有機スルホン酸の反応性誘導体がメタンスルホニ
   ルクロＩＪ）”、Ｐ−）ルエンスルホニルクロリド又は
   無水メタンスルホン酸である特許請求の範囲第６項又は
   ７項記載の５−チアプロスタグランジンＥ、類の製造法
   。 ９、　塩基性化合物がアミン類である特許請求の範囲第
   ６項〜第８項のいずれか１項記載の５−チアプロスタグ
   ランジンＥ１類の製造法。 １０、上記式（ＩＩＩ）　においてＲ鵞がペンチル基、
   ２−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、　又ｔｔシ
   クロヘキシル基である特許請求の範囲第６項〜第９項の
   いずれか１項記載の５−チアゾ　５− ロスタグランジンＥｌ類の製造法。 １１、　　上記式Ｃｍ）　において、Ｒ８、１４が同一
   もしくは異なシ２−テトラヒト目ピラニル基、　　１−
   ブチルジメチルシリル基、１−エトキシエチル基、２−
   メトキシ−２−プロピル基又は（２−メトキシエトキシ
   ）メチル基である特許請求の範囲第６項〜第１０項記載
   のいずれか１項記載の５−チアグロスタグランジンＥ。 類の製造法。