JPS59119551A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は’Ｊ（＝記録媒体に関する。

背敬技術 ビテオディスク装置ｄ等に用いられる光記録媒体（光デ
ィスク）の−例全第１図から説明する。図において・ｌ
ａ、ｌｂは内表面全光学的平面に研暦しだ円板状の基板
、２ａ、　、　２　ｂは基板１ａ、ｌｂ内表面に蒸ＮＪ
等の手段により形成したＴｅやＥｉ　、　Ｃｄ等の低融
点金属の薄膜、３ａ、３ｂは各基板１　ａ、　、　１　
ｂσ）間隔を保ち、基板と同心的に配置されて接着材（
図示せず）により気密性全保つ環状のスペーサを示す。

尚、基板１ａ、ｌｂ間の気密空間には薄膜２ａ、２ｂの
、酸化を防止するために窒素ガスが封入されている。

ところで、このディスクは基板１ａ、、ｌｂ外部からレ
ーザスポット光を照射して薄膜２ａ、２ｂを選択的に溶
融してピット（渾み）を形成し情報が記録されるが、薄
膜２ａ、２ｂに用いられる低融点金属は低光出力で書き
込みが可能なこと、ピットの形状が良好なこと等の条件
を満たす必要があって、ＴｅやＯ（］等に限定されてい
る。

ところがＴｅやＯｄ＆ｉｄ化し易く、薄膜２　ａ、２　
ｂ全形成後の保管に注意をする必要があり、酸化すると
書き込み品質がばらつくという問題があった。

またＴｅやＣｄは有毒であるため、取り扱いに注意を要
し、光ディスクの製造が煩雑になるという問題があった
。

本発明は上記間頃点に鑑み提案されたもので、上記欠点
を除いた光記録媒体を提供す、る。

本発明は葦板上に低融点金属薄膜と昇華性有機物薄膜全
順次積層したこと全特徴とする。

本発明は上記構成により、金属薄膜の酸化が防ｆＪ−，
ハれ、保管場所や保管条件全厳蕾に規制する必要がなく
、また書き込み品質も安定する。

また、面前なＴθや０ｄ（７’）薄膜が昇華性有機物薄
膜にて被覆キれているため、基板の取り扱いが容易で光
ディスクの製造も容易にできる。

光間を実施するだめの最良の形態 以Ｆに本発明の実施例全第２図及び第３図から説明する
。１図において４は表面を光学的平面に研暦した基板、
５は基板４の光学的平面４ａ上に形成したＴθやＣｄ等
の低融点＠属博膜、６は址４博膜５上に積層した昇華性
有機物薄膜全示す。なお第１図と同一符号は同一！７示
し説明全省略する。くり（・弓薄膜５は蒸層あるいはス
パッタによって形成され、昇華性有機物薄膜６は蒸層あ
るいはスピンコード等で形成される。この昇華性有機物
薄膜６は昇華点が金属薄膜５の融点以Ｆのものが望まし
く、例えば顔料として知られている銅−フタロンアニン
（ｎ華点４３０〜４５０”Ｃ）　、スフアリリン酸１透
４体（昇華点２６０〜２６５”Ｃ）等音用いることがで
きる。

これにより、酸化し易い歌属薄膜５の酸化が昇華性有機
物薄膜６によって防止され、保管が容易となり、書き込
み品質も安定する。

まだ有毒な薄膜６が安定した昇華性有機物薄膜６によっ
て被覆されているため、基板の取り扱いが容易で、光デ
ィスクの製造が容易となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は光記録媒体の一例全示す側断ＩＩＪｉ図、第２
図及び第３図は本発明の実施例を示す側断面図である。 ４・　基板、 ５・・・・低融点金属薄膜、 ６・　昇華性有機物薄膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基４反上に低融点金属薄膜と昇華性有機物薄膜を順次積
   層形成したこと全特徴とする光記録媒体。