JPS59117243A - 半導体装置用パツケ−ジの製造方法 - Google Patents

半導体装置用パツケ−ジの製造方法

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Publication number
JPS59117243A
JPS59117243A JP22640182A JP22640182A JPS59117243A JP S59117243 A JPS59117243 A JP S59117243A JP 22640182 A JP22640182 A JP 22640182A JP 22640182 A JP22640182 A JP 22640182A JP S59117243 A JPS59117243 A JP S59117243A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
package
semiconductor device
electrode plate
chemical etching
insulating resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22640182A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshinobu Tashiro
田代 嘉宣
Fumio Minowa
箕輪 文雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
International Rectifier Corp Japan Ltd
Infineon Technologies Americas Corp
Original Assignee
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
International Rectifier Corp Japan Ltd
Infineon Technologies Americas Corp
International Rectifier Corp USA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Mining and Smelting Co Ltd, International Rectifier Corp Japan Ltd, Infineon Technologies Americas Corp, International Rectifier Corp USA filed Critical Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Priority to JP22640182A priority Critical patent/JPS59117243A/ja
Publication of JPS59117243A publication Critical patent/JPS59117243A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4846Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、半導体装置用パッケージの製造方法に係り、
特にパッケージの高ぎが数mm以下の半導体装置用パッ
ケージを得ることを特徴とする製造方法に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
近年、電子機器類の小型化は著しく、それに伴い電子機
器類に組み込まれる半導体装置等の電子部品の小型化の
要請が強い。
たとえば半導体装置では、かかる要請を満すために樹脂
モールド化が進んでいるが、モールド°工程において必
然的にモールドするための金型を必要とし、金型内の樹
脂の流れやモールド後の製品の取り出し等の制約から完
成された樹脂モールドの最小寸法は、高さ2〜3 mm
程度が限度であった。
電子機器類に使用するこの種の半導体装置の使用数量が
多くなると、上記の程度の縮少率では:未だ十分な装置
の小型化が実現できない。
また、上記の樹脂モールド形半導体装置は、一般に半導
体ベレットとリード部とが金属細線を用いてワイヤボン
デングされるが、樹脂モールド時に金属細線が切断され
やすい。
さらに、樹脂モールド後の製品に樹脂のパリが形成され
、このパリを除去する作業を必要とし、作業工数を増大
させ、製品コストを高揚させていた。
〔発明の目的〕
本発明は、上記の事情に基づきなされたもので、半導体
装置の樹脂モールド部が従来のそれに比較して著しく小
型化された半導体装置用パッケージを得ることを特徴と
する製造方法を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
すなわち、本発明は絶縁樹脂層の両面または片面に金属
層を有する積層板上にホトレジストにより所定のパター
ンを形成し、これを写真製版により選択的に化学エツチ
ングして互いに連続した多数の半導体装置用パッケージ
を得ることを特徴とする半導体装置用パッケージの製造
方法である。
〔発明の実施例〕
以下に、本発明の一実施例につき図面を参照して説明す
る。
第1図において、1は、絶縁樹脂層であり、たとえば、
ポリイミド系樹脂より成り、この樹脂層1の一方または
双方の表面、この実施例では双方の表面に薄金属製の電
極板21.22が設けられている。
上記樹脂層1に設けられた下部の電極板22には第2図
に示すように公知の化学エツチング法等により、紙面に
対して直角方向の線状の溝3が形成される。
この溝3によって電極板22a、 22bが互に絶縁分
離され、同時に第3図に示す上部の金属板210部分の
みを残し、他は除去される。これは、一方の金属板20
表面にホトレジストによって所定のパターンを形成し、
写真製版(Photol i thographie 
)により選択的に化学エツチングして形成される。
すなわち線状の溝3が形成されていない他方の電極板2
1側から化学エツチング法等により、一方の電極板22
側に向って堀り込み、四部4を形成する(第3図参照)
かくして、第4図、第5図および第6図に示すような半
導体用パッケージ5が完成するが、これは、前記パッケ
ージ5を拡大して示したもので、実際に次のようにして
形成される。
すなわち、第7図の表面図あるいは第8図の裏面図に示
すように公知のフォトレジスト技術により、所定のマス
クパターンを形成し、その後、化学エツチング法等によ
り縦横に整列された多数の半導体装置用パッケージ5を
形成する。
この状態で、第9図に示すように個々のパッケージ5内
に半導体ペレット6を収容し、あらかじめ形成した半導
体ペレット60表面のソルダ層(図示せず)を溶融して
、前記パッケージ5内の底面の所定の位置(図示2b)
に半導体ペレット6を固定する。このペレット60表面
電極部(図示せず)と電極板2aとを金属細線7を用い
てワイヤボングする。その後、個々の半導体パッケージ
5内に樹脂8を充填し、硬化させる。
最後に第7図、第8図に示す電極板2の接続部9かも切
り離して個々の半導体装置とする。
〔発明の効果〕
本発明は、上記のように絶縁樹脂層の両面または片面に
金属層を有する積層板上にホトレジストにより所定のパ
ターンを形成し、これを写真製版により選択的に化学エ
ツチングして互いに連続した多数の半導体装置用パッケ
ージを得られるようにしたものであり、個々の半導体装
置を製作する場合に従来のようにモールド用の金型を不
要とし、した−がって著しく小型化したモールド型半導
体装置を得ることが可能となる。すなわち、パッケージ
の高さが1朋以下のものの製作が可能となり、電子機器
類の小型化に寄与するところが大きい。
さらに、本発明によれば一度に多数の半導体装置用パッ
ケージが形成されるので、それを用いて短時間に多量の
モールド形半導体装置を製作することができ、生産効率
を向上させることが可能となる。
なお、本発明の実施例では、1個の半導体ペレットを収
容したダイオード形式の半導体装置用のパッケージを製
造する方法について図示し、かつ説明したが、勿論これ
に限定されるものではなく、たとえば電極板を4つの島
に分離し、この島にそれぞれ半導体ペレットを固定し、
所定の結線を施こしていわゆるダイオードブリッジ回路
を形成した複合半導体装置のパッケージの製造方法にも
応用可能である。また、絶縁性樹脂もポリイミド系樹脂
に限らず、化学エツチングが可能な樹脂であれば良いこ
とはいうまでもない。
さらに本発明の実施例では、絶縁性樹脂の両面に電極板
を形成し、一方の面の電極板を残して補強を図ったが、
たとえば下部の電極板の厚さを変える等して上部電極板
を省略することも可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第3図は本発明に係る半導体装置用パッケ
ージの製造方法を工程順に示す断面図、第4図は、上記
の方法により・製作された半導体装置用パッケージの1
つを示す平面図、第5図はその裏面図、第6図は、その
斜視図、第7図および第8図は、互いに多数連結された
個々に切断される前の本発明方法によって製造された半
導体パッケージを示し、第7図は、その平面図、第8図
は、その裏面図、第9図は、上記のパンケージを用いて
半導体装置を組立てた場合の一部切欠断面図である。 ■・・絶縁性樹脂、   21.22・・電極板、3・
・・溝、       4・・・凹 部、5・・・半導
体装置用パッケージ、 6・・・半導体ペレット、7・・・金属細線、8・・・
樹 脂 出願代理人 弁理士 菊 池 五 部 第 l 図 4  ン /4,7 一二二二。 25 ≠ヒ J        Z ν2 Za f 第 5 図 第 6 図 2/ 第 ′/ 図 22(1226 第 7 図 第 6 図 184m

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1ン  絶縁樹脂層の両面または片面に金属層を有す
    る積層板を写真蝕刻法により連続した多数の半導体装置
    用パッケージを得ることを特徴とする半導体装置用パッ
    ケージの製造方法。 (2)前記絶縁樹脂層は、ポリイミド系樹脂で形成され
    ていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半
    導体装置用パンケージの製造方法。
JP22640182A 1982-12-24 1982-12-24 半導体装置用パツケ−ジの製造方法 Pending JPS59117243A (ja)

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JPS59117243A true JPS59117243A (ja) 1984-07-06

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ID=16844542

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