JPS59111309A - コイル組立体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般にコイル組立体にかかわ夛、さらに詳しく
は、磁気材料の被覆が使用されるコイル組立体にかかわ
る。本発明を特に１本組立体が調節可能のインダクタン
スとして１更用されるチップ誘導子すなわちマイクロコ
イルについて開示する。

多くのタイプの電子回路では、電気構成部分のパラメー
ターを調節する必要かめる。しばしば。

異なるタイプの回路では、構成部分の値は組み立てまた
は製作のときに「調整」される。抵抗器の抵抗値とコン
デンサーのキャパシタ／スを調節することは最も容易で
１．そして誘導子を特殊の値に「調整」することはよシ
困難である。

例えば、厚膜回路では、一般にチップ誘導子すなわち１
マイクロコイルと呼ばれる１便用される誘導子は、調整
可能のコイルとするのに費用がかかるので、普通、固定
インダクタンスのものでる用がかか夛、そして磁心調節
を行な５ために非常に小さい溝つきねじの使用によって
調整される。

ねじの調節はほとんど手によって行なわれねはならない
ので、これらのコイルは容易に自動調整されない。

典型的な現在便用されるチップ誘導子のもう一つの難点
は、コイルの遮蔽がないことである。コイルとコイルの
近くの他のサーキットリーとの間の電磁結合は１回路の
作用に悪影響を与え、そしてしばしばコイルの遮蔽が回
路に追加されねばならない。もしコイルの遮蔽が便用さ
れるならば。

それは追加の貴重な回路空間を占める。

本発明の全般的目的は、別個の遮蔽を便用する必要のな
い前記タイプの回路のような回路の、遮蔽されたコイル
組立体を得ることでるる。

本発明のもう一つのおもな目的は、現在利用可能のもの
よシ小さく、そしてまた自動装置の使用によって望みの
インダクタンスに調節されることのできる調整可能のコ
イル組立体を得ることである。

本発明の一実施例では、遮蔽されたコイル組立体は、磁
心、磁心の上の巻線、および磁心と磁気材料の被覆を通
る低磁気抵抗の閉磁気ループをつくるために少なくとも
二つの位置で磁心に接触する。磁心の上の磁気材料の仮
債の形をとっている。

本発明の一つの有利な実施例では、磁気材料の被覆が、
磁気材料によって与えられる遮蔽を高めるためにコイル
の多くの側に付けられている。

本発明のもう一つの実施例では、自動的に調整可能のコ
イル組立体は、磁心、磁心の上の巻線。

および磁ｊｕと磁気材料の被覆を通る低磁気抵抗の閉磁
気ルーズをつくるために少なくとも二つの位置で磁心に
接触する。磁／ｂの上の磁気材料の形をとシ、磁気材料
の被覆の一部分は、コイルを望与のインダクタンスに「
調整」するためにレーザーの使用によって除去される。

本発明の他の目的と利点、およびそれらの達成方法は１
次の詳細な説明を読み、そして図面を参照することによ
って明らかになるであろう。

本発明は、それに種々な改変を加えて別の形にすること
ができるが、特定の説明的実施例を一例として図面に示
し、そし゛てここに詳しく説明する。

しかし１本発明を開示した特別の形に限定しようとする
ものでなく１反対に１本発明は前掲特許請求の範囲によ
って明らかにした本発明の主旨と範囲にはいるすべての
改変、同等物、および代用物を含むものと理解されたい
。

次に第１図から第６図までについて述べると。

コイル組立体１０は巻線１２を巻いた磁心１１を含んで
いる。磁心１１は、中央の巻線部分１３゜肩の部分１４
　、１６．およびそこから外方へ延びる足の部分１７．
１８を有するＨ磁心である。

巻線１２の各端は、それぞれの足１７．１８のおのおの
の底の金属被覆された地帯にはんだ付けされたリード線
１９．２’ｌに終わっている。図示の形では、磁ノＬ？
は約２．０３ミ！ｊ（０，０８インチ）の高さと幅、お
よび約２．５４ミリ（０，１０インチ）の長さを有して
いる。

これまでに説明したように、コイル組立体１０は、事実
上従来厚膜回路に便用さ扛る固定インダクタンスのマイ
クロコイルである。本発明の一つの面によれば、コイル
組立体１０は、コイル１２の頂部にあって磁心の肩１４
，１６に接触する磁気材料の仮徨２２をさらに含んでい
る。被覆２２は、磁心１１と被覆２２を通して１巻線１
２の申に低磁気抵抗の閉磁気ループをつくる。本発明の
図示の形では、磁気被覆２２は、肩１４．１６の間の巻
線の上方の地帯内の非磁気材料２３によって巻線１２か
ら隔置されている。これは、磁気被覆２２が巻線１２の
回の間で磁心１１に接触することを防ぐ。

コイル組立体１０の特殊の構造では、磁気制科の被覆２
２は、＃５５エポキシペース１４にカーｚｆ？＝ル「Ｃ
」粉末１００（重量による）の割合かう成っている。＃
５５エボ′キシはエマーソンアントカミングの＃９触媒
を有する＃５５ベースである。コイル組立体のこの構造
では、非磁気材料２３は、カーボニル粉末を飽加されな
い同じ＃５５エポキシであり、そして磁気材料の被覆２
２の厚さは約０．２５ミリ（０，０１イ／テ）である。

本発明のもり一つの面によれば、横の切欠き２４が磁気
材料の被覆２２の一部分を横切って備えられている。典
型的に、厚膜使用者はそれらの生産過程で、厚膜基板の
上にスクリーン（５ｃｒｅｅｎ　）される抵抗器を調整
するためのレーず一機械を有している。都合よく、この
同じレーザー装置は被覆２２の中に切欠き２４をつくる
ために使用される。切欠きの大きさ、したがって磁気材
料を通る低磁気抵抗の進路の効果的制限は、インダクタ
ンスを含むコイル組立体の磁気パラメーターを決める。

したがってコイル組立体は、在来のレーず一装置によっ
て自動的に調整され、被覆２２の中のレーザーの切シロ
は、コイルのインダクタンスを所要値まで減らす与えら
れた長さにつくられる。

したがってコイル組立体１０は典型的に、必要なインダ
クタンスより高いインダクタンスで使用者に供給され１
次いで使用者によって所要値まで下方へ調整される。

図示のマイクロコイル組立体１０は、厚膜回路に特に使
用されるので、誘導予が基準の「拾い上げて置く」装置
によって厚膜基板に自動的に組み立てられることができ
ることが有利である。したがって切られる前の被覆２２
の頂に沿う組立体の頂は、真空式「拾い上げて置く」装
置による取シ扱いを容易ならしめるために平らになって
いる。

好ましくもまた１巻線１２の二つの部分の間に空所２６
が設けられ、空所２６はレーず−の切９０２４がつくら
れる位置の下に横たわっている。

したがって、もし切シロが深すぎても、コイル１２の回
は破損されない。一つ以上のレーず−の切シロが追加の
調整範四のために使用される。仁の場合、一つ以上の空
所２６も設けられることができる。

コイル組立体１０のもう一つの、　＃ｌ在あまシ好まし
くない形では、磁気材料（マグネチックス社のＰＰＲ２
Ｆ磁気材料のよりな）の０．０５０８ミリ（０，００２
インチ）の箔が、エポキシによって第１図から第６図ま
でに示すものに似た巻かれた磁心の頂に張りつけられて
おシ、そして箔はコイルのインダクタンスを調節するた
めにのちに切欠きをつけられる。箔２１と切欠き２８（
第４図）の場合、切欠きをつけられた被覆２２の場合の
ようニ、コイル組立体のインダクタンスは、　磁／Ｌ？
Ｏ］Ｊｌに磁気材料を付加するとともに増加する。箔を
使用するコイル組立体のＱは比較的低く、そして現在便
用される箔にとっては、箔を利用するコイル組立体の便
用は、１メガヘルツ未満の振動数を使用するものにおそ
らく限定されるであろう。

Ｗｅと箔の両方のコイル組立体では、磁心１１の材料は
磁性または非磁性のいずれでもよい。例えば、磁性のフ
ェライト磁心または非磁性のセラミック磁ＩＬ？を使用
することができる。もちろん磁心材料は、二つのリード
線’１９．２１が磁ノυによって電気的に短絡されない
ようにほぼ電気的に非伝導性でなければならない。

第５図に示す本発明の形では、磁心の上の巻線の上の磁
気材料の被覆によって与えられる遮蔽から追加の利益が
得られる。図示のように磁心３１は、上方へ延びる肩３
２と下方へ延ひる足３３ばか９でなく、横の突８３４ｙ
３６を含んでいる。

したがって、磁心３１は、種々な外方へ延びる部分によ
って各端で限られた中間の巻線部分金有する「ボビン」
にだいたいつくられている。

第５図のコイル組立体３０では、非磁気材料３７は巻線
３８から外方へ頂部と側部の地帯を満たしている。磁気
拐科の被覆３９は１次いで組立体３０の側部と頂部の上
に置かれる。磁心３１は。

第１図から第４図までに示すコイル組立体に利用される
ものとはぼ同じ、非磁気または磁気材料のいずれでもよ
い。例えば、第１図に示すような１面だけになく、３面
に磁気被覆材料を付けることは、コイル組立体３ｏの磁
気遮蔽を著しく増す。

【図面の簡単な説明】

第１図は１本発明によるコイル組立体の正面図。 第２図は、第１図のコイル組立体の頂面図。 第６図は、第１図の線６−６における第１図のコイル組
立体の横断面図。 第４図は、第１図から第６図までのものから改変された
コイル組立体の部分的正面図、そして第５図は、第１図
から第３図までのコイル組立体のさらに一つの改変され
た形の横断面図である。 図面の符合１０，３０は「コイル組立体」。 １１．３１は「磁心Ｊ、１２．３８は［巻線Ｊ。 １３はＵ＠線部分Ｊ、１４，１６，３２，３３゜３６は
「肩Ｊ、１７．１８．３３唸「足Ｊ、１９゜２１は「リ
ード線Ｊ、２２，３ｇは「磁気材料の被覆Ｊ、２３．３
７は「非磁気材料Ｊ、２４．２８は「切欠き」または「
切り口」、２６は「空所」。 ２７は「磁気材料の箔」を示す。 代理人　浅　村　　　皓

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　　コイル組立体にして、磁心、前記磁Ｉひの上
   の巻線、および前記磁心と磁気材料の被覆を通る低磁気
   抵抗の閉磁気ルーｆｔ一つくるために少なくとも二つの
   位置で前記磁心に接触する。前記巻線から間隔を置いた
   。＃Ｊ記磁心の上の前記磁気材料の被覆を包含する。こ
   とを特徴とするコイル組立体。 （２、特許請求の範囲第１項記載のコイル組立体におい
   て、前記磁気材料の被覆と前記巻線の間に置かれた非磁
   気材料をさらに包含する。ことを特徴とするコイル組立
   体。 （３）特許請求の範囲第２項記竪のコイル組立体におい
   て、前記磁心は、前記巻線を受ける巻線部分と、前記巻
   線の両端に外方へ延びる肩の部分を含み、そして前記非
   磁気材料は、前記層の部分の間に前記磁心の前記巻線部
   分に沿って前記巻線の上に置かれる。ことを特徴とする
   コイル組立体。 （４）特許請求の範囲第６項記載のコイル組立体におい
   て、前記磁心は、その前記巻線部分の両側に上方へ延び
   る屑と下方へ延びる足を有するＨ磁ノｌｓでめシ、前記
   磁気材料の被覆は、前記磁心の前記巻線部分に沿って前
   記非磁気材料の上に置かれ。 そして前記二つの肩に延びてそれらに接触し、そして前
   記巻線からの一つのリード線が前記磁ノυの前記足のお
   のおのに終わる。ことを特徴とするコイル組立体。 （５）特許請求の範囲第６項記載のコイル組立体におい
   て、＠記磁心の前記巻線部分は長方形横断面を有し、そ
   して前記層の部分は、＠記磁心のＭｆＪ記巻線巻線部分
   して全体的に横の複数の方向に延び。 そして前記磁気材料の被覆は前記磁ノし・の複数の側に
   滴って延びる。ことを特徴とするコイル組立体。 （６）特許請求の範囲第１項記載のコイル組立体におい
   て、前記磁心のＡｆＪ記巻線巻線部分方形横断面を有し
   、そして前記層の部分は、前記磁心のｌ１ｉＪ記巻線部
   分に対して全体的に横の複数の方向に延び。 そして前記磁気材料の被覆はＫｒＪ記磁ノｂの複数の側
   に延びる。ことを特徴とするコイル組立体。 （７）特許請求の範囲第１項記載のコイル組立体におい
   て、＠記磁心は非磁性体である。ことを特徴とするコイ
   ル組立体。 （８）特許請求の範囲第６項記載のコイル組立体におい
   て、前記磁心は非磁性体である。ことを特徴とするコイ
   ル組立体。 （９？　　特許請求の範囲第５項記載のコイル組立体に
   おいて、前記磁心は非磁性体である。ことを特徴とする
   コイル組立体。 ＱＯ）　　特許請求の範囲第３項記載のコイル組立体に
   おいて、前記磁気材料の＃覆は、カーボニルｒＣＪ粉末
   とエポキシの混合物である。ことを特徴とするコイル組
   立体。 ｔｔＵ　　％許請求の範囲第１０項都載のコイル組立体
   において、前記非磁気材料はエポキシでおる。ことを特
   徴とするコイル組立体。 ０２１　　特許請求の範囲第１１項記載のコイル組立体
   において、＠記磁心は非磁性体である。ことを特徴とす
   るコイル組立体。 （１３１コイル組立体にして、磁心、前記磁心の上の巻
   線、および前記磁心と磁気材料の被覆を通る低磁気抵抗
   の閉磁気ループをつくるために少なくとも二つの位置で
   前記磁心に接触する。前記磁心の上の前記磁気材料のＭ
   覆を包含し、前記磁気材料の被豊は、前記閉磁気ルーズ
   の磁気抵抗を変えるように一部分を除去され、それによ
   って除去される磁気材料の量は前記コイル組立体の磁気
   パラメーターを決める。ことを特徴とするコイル組立体
   。 （１４１％許請求の範囲第１６項記載のコイル組立体に
   おいて、前記磁気制料の被覆と前記巻線の間に置かれた
   非磁気材料をさらに含与、それによって前記磁気材料の
   被覆を、前記巻線と間隔を置いた関係に維持する。こと
   を特徴とするコイル組立体。 （取　特許請求の範囲第１３項記載のコイル組立体にお
   いて、前記巻線は、第一の方向に延びる前記磁心の巻線
   部分の上に置かれ、前記磁気材料の被覆から除去される
   前記部分は、前記第一の方向に対して全体的に横に延び
   るある大きさに作られた切欠きでロシ、前記巻線は、そ
   の部分が前記切欠きの下方に横たわらない空所を残すよ
   うに前記磁心の上に置かれる。ことを特徴とするコイル
   組立体。 （ｌ［ｉｌ　　％許請求の範囲第１５項記載のコイル組
   立体において、前記切欠きはレーデ−によってつくられ
   る、ことを特徴とするコイル組立体。 （ｔ７）特許請求の範囲第１５項記載のコイル組立体に
   おいて、前記磁気材料の被覆はほぼ平らな上面を有する
   。ことを特徴とするコイル組立体。 （２）特許請求の範囲第１７項記載のコイル組立体にお
   い・て、前記磁４７は、その前記巻線部分の両端に下方
   へ延びる足を含み、それらのおのおのに前記巻線からの
   リード線゛がｉｂ付けられている。ことを特徴とするコ
   イル組立体。 ａ９　　特許請求の範囲第１８項記載のコイル組立体に
   おいて、高配磁心は、その前記巻線部分の両端に上方へ
   延びる肩を有するＨ磁心でめ９．前記肩のおのおのは前
   記磁気材料の被覆に結合されている。ことを特徴とする
   コイル組立体。 （２旬　　特許請求の範囲第１６項記載のコイル組立体
   において、前記磁心は非磁性体である。ことを特徴とす
   るコイル組立体。 Ｃ２１：　　特許請求の範囲第１４項記載のコイル組立
   体において、前記磁気材料の被覆は、カーボニル「Ｃ」
   粉末とエポキシの混合物である。ことを特徴とするコイ
   ル組立体。 （２２１特許請求の範囲第２１項記載のコイル組立体に
   おいて、＠記非磁気利料はエポキシである。ことを特徴
   とするコイル組立体。 Ｑ濠　磁心と前記磁〕ひの上の巻線を含むコイル組立体
   の磁気パラメーターを決める方法にして。 前記磁心と磁気制料のＭ、４″ＩＬを通る低磁気抵抗の
   閉磁気ループをつくるために少なくとも二つの位置で前
   記磁ノむに接触する。前記磁気材料の仮値を前記磁心に
   付け、そして 望魯の磁気パラメーターを決めるために、前記磁気材料
   の被覆の一部分を選択的に除去する。 諸段階を包含する。ことを特徴とするコイル組立体の磁
   気パラメーターを決める方法。 （２４１特許請求の範囲第２３項記載の方法において。 前記除去段階で、前記磁気材料の除去はレーザーの使用
   によって行なわれる。ことを特徴とするコイル組立体の
   磁気パラメーターを決める方法。 ＋２５１　　％ＦＩＦ請求の範囲第２６項記載の方法に
   おいて。 被覆を付ける前記段階の前に、前記磁気材料の被覆を付
   けるべき位置に前記巻線に非磁気材料を付ける追加の段
   階を含む、ことを特徴とするコイル組立体の磁気パラメ
   ーターを決める方法。 （２）　コイル組立体にして、磁心、前記磁心の上の巻
   線、および前記磁心と磁気材料の箔を通る低磁気抵抗の
   閉磁気ルーズをつくるために少なくとも二つの位置で前
   記磁心に接触する。前記磁心の上の前記磁気材料の箔を
   包含し、前記磁気材料の箔は、前記閉磁気ループの磁気
   抵抗を変えるように一部分を除去され、それによって除
   去される磁気材料の量は前記コイル組立体の磁気パラメ
   ーターを決める。ことを特徴とするコイル組立体。