JPS59107071A - 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置 - Google Patents
被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置Info
- Publication number
- JPS59107071A JPS59107071A JP57217496A JP21749682A JPS59107071A JP S59107071 A JPS59107071 A JP S59107071A JP 57217496 A JP57217496 A JP 57217496A JP 21749682 A JP21749682 A JP 21749682A JP S59107071 A JPS59107071 A JP S59107071A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- main chamber
- holder
- assembly
- horizontally
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、例えは太陽放射スペクトル域で吸収が大き
く、熱放射スペクトル域で放射率が小さい特性を有する
、反応性蒸着膜を被処理物の外表面に形成する装置に関
する。
く、熱放射スペクトル域で放射率が小さい特性を有する
、反応性蒸着膜を被処理物の外表面に形成する装置に関
する。
従来の被処理物の外衣面に反応性蒸着膜を形成する装置
（特願昭５２−６８３８２号）は、装置の主要部が一体
に形成されたものとなっているため、保守、管理が非常
に面倒で作業性が惑く、又火炉生産には不向きで実用性
に乏しい。
（特願昭５２−６８３８２号）は、装置の主要部が一体
に形成されたものとなっているため、保守、管理が非常
に面倒で作業性が惑く、又火炉生産には不向きで実用性
に乏しい。
この発明は、上６１点に鑑み、保守、管理を容易にし、
作業性を良くし大蓋生産に向く被処理物の外表面に反応
性蒸着膜を形成する装置を提供するもので、その要旨は
被処理物を水平に支持するホルダーと、当該ホルクーと
共に被処理物に自転。
作業性を良くし大蓋生産に向く被処理物の外表面に反応
性蒸着膜を形成する装置を提供するもので、その要旨は
被処理物を水平に支持するホルダーと、当該ホルクーと
共に被処理物に自転。
公転を与える自転０公転機構と、ホルダーの基部側にメ
インチャンバー閉鎖用の垂直蓋とを具えたカル−セルア
ッセンブリと、金属電極をオーバーハング状態に水平に
支持したマニフォールドチャンバーと、上記被処理物と
金属電極を包囲する長さと直径を有し、外周部にフィー
ルドコイル層を有する横向き筒形のメインチャンバーと
の３部とカラなり、マニフォールドチャンバーは床ｍＪ
上に定着し、メインチャンバーは当該マニフォールドチ
ャンバーに分離自在に水平に連結し、カル−セルアッセ
ンブリはメインチャンバーに対して移動ｏＪ能としたと
ころにある。
インチャンバー閉鎖用の垂直蓋とを具えたカル−セルア
ッセンブリと、金属電極をオーバーハング状態に水平に
支持したマニフォールドチャンバーと、上記被処理物と
金属電極を包囲する長さと直径を有し、外周部にフィー
ルドコイル層を有する横向き筒形のメインチャンバーと
の３部とカラなり、マニフォールドチャンバーは床ｍＪ
上に定着し、メインチャンバーは当該マニフォールドチ
ャンバーに分離自在に水平に連結し、カル−セルアッセ
ンブリはメインチャンバーに対して移動ｏＪ能としたと
ころにある。
以下、この発明を図面に示す実施例に基づき詳細に説明
する。
する。
図面において、１けカル−セルアッセンブリで、カル−
セルアッセンブリ１は管体からなる被処理物２を水平に
支持するホルタ−３と、当該ホルダー３と共に被処理物
２に自転、公転を与える自転ψ公転機構４と、ホルダー
３の基部側に後述するメインチャンバー閉鎖用の垂直蓋
５とを具えている。
セルアッセンブリ１は管体からなる被処理物２を水平に
支持するホルタ−３と、当該ホルダー３と共に被処理物
２に自転、公転を与える自転ψ公転機構４と、ホルダー
３の基部側に後述するメインチャンバー閉鎖用の垂直蓋
５とを具えている。
史に許しくけ、垂直蓋５の中央に垂直蓋５に直交する回
転軸６を導通して設け、垂直蓋５の表側に突出している
回転軸６の端部にはプーリー１を設け、同裏側に突出し
ている回転軸６の端部には回転軸６の回転によシ回転す
る回転板８を設け、この回転板８には、軸心に対し同一
円周方向に適宜間隔で前記被処理物２を軸方向水平に支
持するホルダー３の基部を回転自在に設け、このホルダ
ー３の基部には遊星歯車９を設け、この遊星歯車９を、
前記垂直蓋５の裏面に設けたリング状のギヤ１０に噛合
させ、前記回転軸６を回転することにより、回転板８に
設けたホルダー３を公転させ、同時に前記遊星歯車９が
ギヤ１０により回転させられることによシホルダー３が
自転し、ホルダー３に支持された被処理物２に自転、公
転を与える構成となっている。１１Ｖｉ回転軸６を回転
させるモーターである。
転軸６を導通して設け、垂直蓋５の表側に突出している
回転軸６の端部にはプーリー１を設け、同裏側に突出し
ている回転軸６の端部には回転軸６の回転によシ回転す
る回転板８を設け、この回転板８には、軸心に対し同一
円周方向に適宜間隔で前記被処理物２を軸方向水平に支
持するホルダー３の基部を回転自在に設け、このホルダ
ー３の基部には遊星歯車９を設け、この遊星歯車９を、
前記垂直蓋５の裏面に設けたリング状のギヤ１０に噛合
させ、前記回転軸６を回転することにより、回転板８に
設けたホルダー３を公転させ、同時に前記遊星歯車９が
ギヤ１０により回転させられることによシホルダー３が
自転し、ホルダー３に支持された被処理物２に自転、公
転を与える構成となっている。１１Ｖｉ回転軸６を回転
させるモーターである。
１２Ｈマニフオールドチヤンバーで、マニフォールドチ
ャンパー１２Ｖｉ一端を開にし、他端を閉じた筒状体１
３の開口側に２本の平行する金ｐＡＴｈ。
ャンパー１２Ｖｉ一端を開にし、他端を閉じた筒状体１
３の開口側に２本の平行する金ｐＡＴｈ。
極１４をホルタ−１５によυ軸方向水平にオーバーハン
グ状態に支持した構成となっている。上記２本の金Ｍ［
極１４には、その内部に冷却水を導通する水路１６が形
成されている。１７は２本の電極１４間を遮蔽する遮蔽
板であり、この遮蔽板１７内にも冷却水を導通する水路
１８が形成されている。１９は前記筒状体１３の開口端
部に形成したフランジである。
グ状態に支持した構成となっている。上記２本の金Ｍ［
極１４には、その内部に冷却水を導通する水路１６が形
成されている。１７は２本の電極１４間を遮蔽する遮蔽
板であり、この遮蔽板１７内にも冷却水を導通する水路
１８が形成されている。１９は前記筒状体１３の開口端
部に形成したフランジである。
２０はメインチャンバーで、メインチャンバー２０は前
記被処理物２と金九奄極１４を包囲する長さと直径を有
し、外周部にフィールドコイル層２１を有する横向き筒
形をもって構成されている。
記被処理物２と金九奄極１４を包囲する長さと直径を有
し、外周部にフィールドコイル層２１を有する横向き筒
形をもって構成されている。
更に詳しくは、金属筒からなる主筒体２２の外周ｍ１部
に、端部に雌ねじを刻設したポス２３を、該主筒体２２
の円周方向と軸心方向に夫々所定の間隔をあけて放射状
に突設して、絶縁キャップ２４を頭部に具えたボルト付
きのサポータ−２５を上記ボス２３に求遠心方向に進退
自在に螺合し、フィールドコイル７１２１を外周部に持
つ複数個のフィールドチャンバー２６を上記サポータ−
２５を介して主筒体２２の外周に同心上に支承した構成
となっている。２７．２８は主筒体２２の両側開口端部
に形成した７ランジである。
に、端部に雌ねじを刻設したポス２３を、該主筒体２２
の円周方向と軸心方向に夫々所定の間隔をあけて放射状
に突設して、絶縁キャップ２４を頭部に具えたボルト付
きのサポータ−２５を上記ボス２３に求遠心方向に進退
自在に螺合し、フィールドコイル７１２１を外周部に持
つ複数個のフィールドチャンバー２６を上記サポータ−
２５を介して主筒体２２の外周に同心上に支承した構成
となっている。２７．２８は主筒体２２の両側開口端部
に形成した７ランジである。
以上のカル−セルアッセンブリ１とマニフォールドチャ
ンパー１２とメインチャンバー２０の３部材であって、
マニフォールドチャンパー１２は床面上に支持体２９に
より水平に支持され、このマニフォールドチャンパー１
２にメインチャンバー２０が分離自在に水平に連結され
る。この連結は、マニフォールドチャンパー１２に形成
された７ランジ１９とメインチャンバー２０に形成され
たフランジ２７とを接合しボルト（図示せず）締めによ
り行なわれるようになっている。３０はメインチャンバ
ー２０を支持する支持体である。又カルーセルアツセン
ブ！Ｊ１ｉｈ、前記マニフォールドチャンパー１２に連
結じているメインチャンバー２０に対し、後述するレー
ルに載ってメインチャンバー２０の開口部に正対して移
動可能となっておシ、メインチャンバー２Ｑの開口部に
カル−セルアッセンブリ１の垂直蓋５をフック（図示せ
ず）により固定し、上記開口部を閉鎖するようになって
いる。３１はカル−セルアッセンブリを支持する支持体
で、この支持体３１の底部には３６０°回転する軸３２
に支えられた方向を自由に変えられる車輪３３が設けて
あり、後述するレール上を転動するようになっている。
ンパー１２とメインチャンバー２０の３部材であって、
マニフォールドチャンパー１２は床面上に支持体２９に
より水平に支持され、このマニフォールドチャンパー１
２にメインチャンバー２０が分離自在に水平に連結され
る。この連結は、マニフォールドチャンパー１２に形成
された７ランジ１９とメインチャンバー２０に形成され
たフランジ２７とを接合しボルト（図示せず）締めによ
り行なわれるようになっている。３０はメインチャンバ
ー２０を支持する支持体である。又カルーセルアツセン
ブ！Ｊ１ｉｈ、前記マニフォールドチャンパー１２に連
結じているメインチャンバー２０に対し、後述するレー
ルに載ってメインチャンバー２０の開口部に正対して移
動可能となっておシ、メインチャンバー２Ｑの開口部に
カル−セルアッセンブリ１の垂直蓋５をフック（図示せ
ず）により固定し、上記開口部を閉鎖するようになって
いる。３１はカル−セルアッセンブリを支持する支持体
で、この支持体３１の底部には３６０°回転する軸３２
に支えられた方向を自由に変えられる車輪３３が設けて
あり、後述するレール上を転動するようになっている。
３４はメインチャンバー２０の真下床面上に水平に敷設
したレールで、このレール３４はメインチャンバー２０
の軸心線と平行な主レール３５と、これと直交する待機
レール３６とからなっており、主レール３５と待機レー
ル３６との交叉部にはレールポイント３７が回転自在に
設置されており、各レールポイント３７はリンク３８に
連結され、エアシリンダ３９によシ同時に主レール３５
及び待機レールあ方向に９０°旋回するようになってい
る。このレール３４上を前記カル−セルアッセンブリ１
か移動する。
したレールで、このレール３４はメインチャンバー２０
の軸心線と平行な主レール３５と、これと直交する待機
レール３６とからなっており、主レール３５と待機レー
ル３６との交叉部にはレールポイント３７が回転自在に
設置されており、各レールポイント３７はリンク３８に
連結され、エアシリンダ３９によシ同時に主レール３５
及び待機レールあ方向に９０°旋回するようになってい
る。このレール３４上を前記カル−セルアッセンブリ１
か移動する。
４０１−、！：上部にメインチャンバー載島゛部４１を
設けた台車で、底部に前記カル−セルアッセンブリ１を
支持する支持体３１の底部に設けた車輪３３と同じ構造
の車輪４２が設けられており、上記レール３４上を走行
自在となっている。この台車４０は必要が無い場合はレ
ール３４から外されている０次に、上記実施例に基づい
てこの発明の詳細な説明する。
設けた台車で、底部に前記カル−セルアッセンブリ１を
支持する支持体３１の底部に設けた車輪３３と同じ構造
の車輪４２が設けられており、上記レール３４上を走行
自在となっている。この台車４０は必要が無い場合はレ
ール３４から外されている０次に、上記実施例に基づい
てこの発明の詳細な説明する。
カル−セルアッセンブリ１は、被処理物２を支持するホ
ルダー３と、当該ホルダー３と共に被処理物２に自転、
公転を与える自転・公転機構４と、メインチャンバー２
０の閉鎖用の垂直蓋５とを具えたものからなっているの
で、レール上カル−セルアッセンブリ１を移動させるこ
とによシ、メインチャンバー２０の開閉と同時にメイン
チャンバー２０への被処理物２の搬送、搬出が行なえ、
又カル−セルアッセンブリ１の移動時に、カル−セルア
ッセンブリ１を支持する支持体３１の底部に設けた車輪
３３をレールポイント３７上に位置させ、レールポイン
ト３７を切換えることにより、カル−セルアッセンブリ
１の向きを変えることなく主レール３５から待機レール
３６への移動が行なえる。又レール３４上に台車４０を
載せ、台車４０の上部に設けたメインチャンバー置載部
４１にメインチャンバー２０を支持する支持体３０の横
桟４３を載せ、メインチャンバー２０とマニフォールド
チャンパー１２から分離移動することが行なえる。
ルダー３と、当該ホルダー３と共に被処理物２に自転、
公転を与える自転・公転機構４と、メインチャンバー２
０の閉鎖用の垂直蓋５とを具えたものからなっているの
で、レール上カル−セルアッセンブリ１を移動させるこ
とによシ、メインチャンバー２０の開閉と同時にメイン
チャンバー２０への被処理物２の搬送、搬出が行なえ、
又カル−セルアッセンブリ１の移動時に、カル−セルア
ッセンブリ１を支持する支持体３１の底部に設けた車輪
３３をレールポイント３７上に位置させ、レールポイン
ト３７を切換えることにより、カル−セルアッセンブリ
１の向きを変えることなく主レール３５から待機レール
３６への移動が行なえる。又レール３４上に台車４０を
載せ、台車４０の上部に設けたメインチャンバー置載部
４１にメインチャンバー２０を支持する支持体３０の横
桟４３を載せ、メインチャンバー２０とマニフォールド
チャンパー１２から分離移動することが行なえる。
以上、この発明を上記実施例に基づいて説明したが、こ
の発明は被処理物を水平に支持するホルダーと、当該ホ
ルタ゛−と共に被処理物に自転、公転を与える自転・公
転機構と、ホルタ−の基部側にメインチャンバー閉鎮用
の垂直蓋とを具えたカル−セルアッセンブリと、金Ｍ電
極をオーバーハング状態に水平に支持したマニフォール
ドチャンバーと、上記被処理物と金ＰＡｔ極を包囲する
長さと直径を有し、外周部にフィールドコイル層を有す
る横向き筒形のメインチャンバーとの３部とからなシ、
マニフォールドチャンバーは床面上に定着し、メインチ
ャンバーは当該マニフォールドテヤンパーに分離自在に
水平に連結し、カル−セルアッセンブリはメインチャン
バーに対して移動可能としたものであるから、カル−セ
ルアッセンブリをメインチャンバーに対して移動させる
ことにより、メインチャンバーの開閉と同時にメインチ
ャンバーへの被処理物の搬送、搬出を行なうことができ
、しかもホルダーへの被処理物の脱着作業はカル−セル
アッセンブリをメインチャンバーから移動させることに
より、メインチャンバーによる障害を受けずに行なうこ
とができる等、作業性に富み、大賞生産に適し、更にメ
インチャンバーからカル−セルアッセンブリを移動させ
、そしてマニフォールドテヤンバーからメインチャンバ
ーを分離移動させることによシ、それらの清掃、補修、
取替等の作業が簡単に行なえるのでメンテナンスが非常
に容易となるといった効果を廟する。
の発明は被処理物を水平に支持するホルダーと、当該ホ
ルタ゛−と共に被処理物に自転、公転を与える自転・公
転機構と、ホルタ−の基部側にメインチャンバー閉鎮用
の垂直蓋とを具えたカル−セルアッセンブリと、金Ｍ電
極をオーバーハング状態に水平に支持したマニフォール
ドチャンバーと、上記被処理物と金ＰＡｔ極を包囲する
長さと直径を有し、外周部にフィールドコイル層を有す
る横向き筒形のメインチャンバーとの３部とからなシ、
マニフォールドチャンバーは床面上に定着し、メインチ
ャンバーは当該マニフォールドテヤンパーに分離自在に
水平に連結し、カル−セルアッセンブリはメインチャン
バーに対して移動可能としたものであるから、カル−セ
ルアッセンブリをメインチャンバーに対して移動させる
ことにより、メインチャンバーの開閉と同時にメインチ
ャンバーへの被処理物の搬送、搬出を行なうことができ
、しかもホルダーへの被処理物の脱着作業はカル−セル
アッセンブリをメインチャンバーから移動させることに
より、メインチャンバーによる障害を受けずに行なうこ
とができる等、作業性に富み、大賞生産に適し、更にメ
インチャンバーからカル−セルアッセンブリを移動させ
、そしてマニフォールドテヤンバーからメインチャンバ
ーを分離移動させることによシ、それらの清掃、補修、
取替等の作業が簡単に行なえるのでメンテナンスが非常
に容易となるといった効果を廟する。
図面は、この発明の一実施例を示すもので、第１図はこ
の発明を構成する３部を連結した状態を示す概略正面図
、第２図は第１図のｎ−ｎｌ一部省略拡大断面図、第３
図は第１図のｌｌｌ−１一部省略拡大断面図、第４図は
第１図のＩＶ−ＩＶ線一部省略拡大断面図、第５図はこ
の発明を構成する３部を分離移動させる状態を示す説明
図、第６図はマニフォールドチャンバーからメインチャ
ンバーを分離した状態を示す説明図、第７図はレールを
敷設したこの発明の概略平面図、第８図は第７図に示す
レールの切換部を示す拡大平面図、第９図はカル−セル
アッセンブリを支持する支持体の底部に設けた車輪を示
す拡大縦断面図、第１０図はメインチャンバーを移動さ
せる台車を示す概略正面図である。 １・・・カルーセルアッセンブ１ハ２・・・被処理物、
３・・・ホルダー、４・・・自転・公転機構、５・・・
ｉ直値、１２・・・マニフォールドチャンバー、１４・
・・金＃４電極、２０・・・メインチャンバー、２１・
・・フィールドコイル層 特許出願人 日東工器株式会社 第２図 第４図 第９図 第１Ｏ図 ０ 手続補正書く方式） １ 事件の表示 昭和５７年 特 許 願第２１７４９６号２、発明の名
称 被処理物の外表面に反応性蒸ＮＭを形成する装置３
補正をする者 事件との関係 出願人 イ１ 所 東京都大１］］ ＩＺ仲池」−２丁目９
番４号氏 名（名ｂ・） 日 東 工 器
株 式 会 ｒ十４、代理人 青 ［有］ ６、 補正により増加する発明の数 （１） 別紙のとおりタイプ印書により鮮明に記載し
ｆＣ願書を提出する。 （２） 別紙のとおジ濃墨を用いて鮮明に描いた図面
全提出する。 ９添付書類の目録 （１）願 書 正剃各１通（２）図
面 １通手糸売−？１ｌｊＩＥ書
（１１発） １１／（和５９年 ３月 ９）］ 特１１乍［ｊ−長官若杉和夫殿 １、事件の表示 特願昭５７−２１７４９６号 ２発明の名称 被処理物の外表面に反応性蒸着膜を形成する装置３補止
をする者 事件との関係 出願人 住 所 東京都大田区仲池Ｊ：２Ｔ［−１９番４号
氏名 日東土器株式会社 ４、代理人 目発補正 ７、補正の内容 （１） 明細書第４頁第１４行目に、「一端を開にし
」とあるのを「−・端を開口し、」と補正する。 （２） 明細ｆ３第４頁第２０行目に、「電極１４間
を」とあるのを、 ［金属電極１４間を」と補正する。 （３） 明細書第６頁第１行目に、「部材であって、
」とあるのを「部材にあって、Ｊと補正する。 （４） 明細書第６頁第１６行目〜回頁第１７行目に
、［カル−セルアセンブリをＪとあるのを「カル−セル
アセンブリ１を」と補正する。 （５） 明ａｌ！ｊ第８頁第１４行目に３ 「メイン
チャン／へ一置載部４１Ｊとあるのを「メインチャンバ
ー載置部４１」と補正する。 （６〕 明細書第８頁第１６行目〜回頁第１８行目に
、「メインチャンバー２０とマニフォールドチャンパー
１２から分離移動することが行なえる。Ｊとあるのを［
メインチャン／ヘ−２０とマニフォールトチャンパー１
２とを分離することにより、メインチャンパー２０をマ
ニフォールトチャンパー１２から分離移動することが行
なえる。」と補ｉＥする。 （７） 図面中温４ロ、第６図および第１０図を別紙
のとおり補正する。 ８、添付書類の目録
の発明を構成する３部を連結した状態を示す概略正面図
、第２図は第１図のｎ−ｎｌ一部省略拡大断面図、第３
図は第１図のｌｌｌ−１一部省略拡大断面図、第４図は
第１図のＩＶ−ＩＶ線一部省略拡大断面図、第５図はこ
の発明を構成する３部を分離移動させる状態を示す説明
図、第６図はマニフォールドチャンバーからメインチャ
ンバーを分離した状態を示す説明図、第７図はレールを
敷設したこの発明の概略平面図、第８図は第７図に示す
レールの切換部を示す拡大平面図、第９図はカル−セル
アッセンブリを支持する支持体の底部に設けた車輪を示
す拡大縦断面図、第１０図はメインチャンバーを移動さ
せる台車を示す概略正面図である。 １・・・カルーセルアッセンブ１ハ２・・・被処理物、
３・・・ホルダー、４・・・自転・公転機構、５・・・
ｉ直値、１２・・・マニフォールドチャンバー、１４・
・・金＃４電極、２０・・・メインチャンバー、２１・
・・フィールドコイル層 特許出願人 日東工器株式会社 第２図 第４図 第９図 第１Ｏ図 ０ 手続補正書く方式） １ 事件の表示 昭和５７年 特 許 願第２１７４９６号２、発明の名
称 被処理物の外表面に反応性蒸ＮＭを形成する装置３
補正をする者 事件との関係 出願人 イ１ 所 東京都大１］］ ＩＺ仲池」−２丁目９
番４号氏 名（名ｂ・） 日 東 工 器
株 式 会 ｒ十４、代理人 青 ［有］ ６、 補正により増加する発明の数 （１） 別紙のとおりタイプ印書により鮮明に記載し
ｆＣ願書を提出する。 （２） 別紙のとおジ濃墨を用いて鮮明に描いた図面
全提出する。 ９添付書類の目録 （１）願 書 正剃各１通（２）図
面 １通手糸売−？１ｌｊＩＥ書
（１１発） １１／（和５９年 ３月 ９）］ 特１１乍［ｊ−長官若杉和夫殿 １、事件の表示 特願昭５７−２１７４９６号 ２発明の名称 被処理物の外表面に反応性蒸着膜を形成する装置３補止
をする者 事件との関係 出願人 住 所 東京都大田区仲池Ｊ：２Ｔ［−１９番４号
氏名 日東土器株式会社 ４、代理人 目発補正 ７、補正の内容 （１） 明細書第４頁第１４行目に、「一端を開にし
」とあるのを「−・端を開口し、」と補正する。 （２） 明細ｆ３第４頁第２０行目に、「電極１４間
を」とあるのを、 ［金属電極１４間を」と補正する。 （３） 明細書第６頁第１行目に、「部材であって、
」とあるのを「部材にあって、Ｊと補正する。 （４） 明細書第６頁第１６行目〜回頁第１７行目に
、［カル−セルアセンブリをＪとあるのを「カル−セル
アセンブリ１を」と補正する。 （５） 明ａｌ！ｊ第８頁第１４行目に３ 「メイン
チャン／へ一置載部４１Ｊとあるのを「メインチャンバ
ー載置部４１」と補正する。 （６〕 明細書第８頁第１６行目〜回頁第１８行目に
、「メインチャンバー２０とマニフォールドチャンパー
１２から分離移動することが行なえる。Ｊとあるのを［
メインチャン／ヘ−２０とマニフォールトチャンパー１
２とを分離することにより、メインチャンパー２０をマ
ニフォールトチャンパー１２から分離移動することが行
なえる。」と補ｉＥする。 （７） 図面中温４ロ、第６図および第１０図を別紙
のとおり補正する。 ８、添付書類の目録
Claims (1)
- 被処理物を水平に支持するホルダーと、尚該ホルダーと
共に被処理物に自転、公転を与える自転・公転機構と、
ホルダーの基部側にメインチャンバー閉鎖用の垂直蓋と
を具えたカル−セルアッセンブリと、金属電極をオーパ
ーツ・ング状態に水平に支持したマニフォールドチャン
バーと、上記被処理物と金属電極を包囲する長さと直径
を有し、外周部にフィールドコイル層を有する横向き筒
形のメインチャンバーとの３部とからなり、マニフォー
ルドチャンパーは床面上に定着し、メインチャンバーハ
轟該マニフォールドチャンパーに分１１在に水平に連結
し、カル−セルアッセンブリはメインチャンバーに対し
て移動可能としたことを特徴とする、被処理物の外表面
に反応性蒸着膜を形成する装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57217496A JPS59107071A (ja) | 1982-12-12 | 1982-12-12 | 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57217496A JPS59107071A (ja) | 1982-12-12 | 1982-12-12 | 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59107071A true JPS59107071A (ja) | 1984-06-21 |
| JPS6214218B2 JPS6214218B2 (ja) | 1987-04-01 |
Family
ID=16705143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57217496A Granted JPS59107071A (ja) | 1982-12-12 | 1982-12-12 | 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59107071A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2587731A1 (fr) * | 1985-09-23 | 1987-03-27 | Centre Nat Rech Scient | Procede et dispositif de depot chimique de couches minces uniformes sur de nombreux substrats plans a partir d'une phase gazeuse |
| CN102719795A (zh) * | 2011-08-11 | 2012-10-10 | 光驰科技(上海)有限公司 | 成膜装置 |
| WO2019124098A1 (ja) * | 2017-12-22 | 2019-06-27 | 株式会社村田製作所 | 成膜装置 |
| WO2019124101A1 (ja) * | 2017-12-22 | 2019-06-27 | 株式会社村田製作所 | 成膜装置 |
| US11377731B2 (en) | 2017-12-22 | 2022-07-05 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Film-forming device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS572272A (en) * | 1980-06-04 | 1982-01-07 | Sumitomo Chem Co Ltd | Preparation of n-phenylcyclopropanedicarboxylic acid imide derivative |
| JPS5732368A (en) * | 1980-08-05 | 1982-02-22 | Ulvac Corp | Vacuum treating apparatus |
-
1982
- 1982-12-12 JP JP57217496A patent/JPS59107071A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS572272A (en) * | 1980-06-04 | 1982-01-07 | Sumitomo Chem Co Ltd | Preparation of n-phenylcyclopropanedicarboxylic acid imide derivative |
| JPS5732368A (en) * | 1980-08-05 | 1982-02-22 | Ulvac Corp | Vacuum treating apparatus |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2587731A1 (fr) * | 1985-09-23 | 1987-03-27 | Centre Nat Rech Scient | Procede et dispositif de depot chimique de couches minces uniformes sur de nombreux substrats plans a partir d'une phase gazeuse |
| CN102719795A (zh) * | 2011-08-11 | 2012-10-10 | 光驰科技(上海)有限公司 | 成膜装置 |
| CN102719795B (zh) * | 2011-08-11 | 2014-01-01 | 光驰科技(上海)有限公司 | 成膜装置 |
| WO2019124098A1 (ja) * | 2017-12-22 | 2019-06-27 | 株式会社村田製作所 | 成膜装置 |
| WO2019124101A1 (ja) * | 2017-12-22 | 2019-06-27 | 株式会社村田製作所 | 成膜装置 |
| CN111433390A (zh) * | 2017-12-22 | 2020-07-17 | 株式会社村田制作所 | 成膜装置 |
| JPWO2019124098A1 (ja) * | 2017-12-22 | 2020-08-20 | 株式会社村田製作所 | 成膜装置 |
| JP2022033870A (ja) * | 2017-12-22 | 2022-03-02 | 株式会社村田製作所 | 成膜装置 |
| US11377731B2 (en) | 2017-12-22 | 2022-07-05 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Film-forming device |
| CN111433390B (zh) * | 2017-12-22 | 2022-09-27 | 株式会社村田制作所 | 成膜装置 |
| US11891692B2 (en) | 2017-12-22 | 2024-02-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Film-forming device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6214218B2 (ja) | 1987-04-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2503863A (en) | Apparatus for electroplating the inside of pipes | |
| JPS59107071A (ja) | 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置 | |
| JPH09150389A (ja) | 産業用ロボット | |
| JPH0245822B2 (ja) | ||
| JPS625548A (ja) | イオンビ−ム加工装置 | |
| JPS60501148A (ja) | 被覆装置とこれに付属する洗浄装置 | |
| CN113774190A (zh) | 一种金属工件的热处理旋转水冷环保风台 | |
| US3861353A (en) | System for vapor deposition of thin films | |
| JPH06340968A (ja) | アークイオンプレーティング装置及びアークイオンプレーティングシステム | |
| CA1174354A (en) | Inspection of castings | |
| SU698726A2 (ru) | Установка дл внутренней зачистки сосудов | |
| JPH0794711B2 (ja) | イオンプレーティング装置用回転テーブル | |
| CN111545305B (zh) | 一种球磨装置 | |
| US4493963A (en) | Mandrel machine | |
| JPS644499A (en) | Method and device for rotary plating | |
| JPH0338586B2 (ja) | ||
| CN205629589U (zh) | 一种旋转焊接炉 | |
| ES8402108A1 (es) | Modulo de intervencion en el interior de la cuba de un reac-tor nuclear. | |
| CN217860785U (zh) | 一种半导体加热器喷砂固定治具 | |
| JPH0238928Y2 (ja) | ||
| CN216326970U (zh) | 一种可移动的数控机床防护罩 | |
| JPS62183036A (ja) | 磁気デイスク基板のめつき装置 | |
| US662860A (en) | Apparatus for etching rolls. | |
| CN215713185U (zh) | 一种机械手转轴连接件热处理装置 | |
| JPH03120367A (ja) | Ｃｖｄ反応炉の覆い蓋 |