JPS6214218B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6214218B2 JPS6214218B2 JP57217496A JP21749682A JPS6214218B2 JP S6214218 B2 JPS6214218 B2 JP S6214218B2 JP 57217496 A JP57217496 A JP 57217496A JP 21749682 A JP21749682 A JP 21749682A JP S6214218 B2 JPS6214218 B2 JP S6214218B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- main chamber
- holder
- chamber
- carousel assembly
- horizontally
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、例えば太陽放射スペクトル域で吸
収が大きく、熱放射スペクトル域で放射率が小さ
い特性を有する、スパツタリング膜と被処理物の
外表面に形成する装置に関する。
収が大きく、熱放射スペクトル域で放射率が小さ
い特性を有する、スパツタリング膜と被処理物の
外表面に形成する装置に関する。
従来の被処理物の外表面にスパツタリング膜を
形成する装置（特願昭52−68382号）は、装置の
主要部が一体に形成されたものとなつているた
め、保守、管理が非常に面倒で作業性が悪く、又
大量生産には不向きで実用性に乏しい。
形成する装置（特願昭52−68382号）は、装置の
主要部が一体に形成されたものとなつているた
め、保守、管理が非常に面倒で作業性が悪く、又
大量生産には不向きで実用性に乏しい。
この発明は、上記点に鑑み、保守、管理を容易
にし、作業性を良くし大量生産に向く被処理物の
外表面にスパツタリング膜を形成する装置を提供
するもので、その要旨は被処理物を水平に支持す
るホルダーと、当該ホルダーと共に被処理物に自
転、公転を与える自転・公転機構と、ホルダーの
基部側にメインチヤンバー閉鎖用の垂直蓋とを具
えたカルーセルアツセンブリと、金属電極をオー
バーハング状態に水平に支持したマニフオールド
チヤンバーと、上記被処理物と金属電極を包囲す
る長さと直径を有し、外周部にフイールドコイル
層を有する横向き筒形のメインチヤンバーとの３
部とからなり、マニフオールドチヤンバーは床面
上に定着し、メインチヤンバーは当該マニフオー
ルドチヤンバーに分離自在に水平に連結し、カル
ーセルアツセンブリはメインチヤンバーに対して
移動可能としたところにある。
にし、作業性を良くし大量生産に向く被処理物の
外表面にスパツタリング膜を形成する装置を提供
するもので、その要旨は被処理物を水平に支持す
るホルダーと、当該ホルダーと共に被処理物に自
転、公転を与える自転・公転機構と、ホルダーの
基部側にメインチヤンバー閉鎖用の垂直蓋とを具
えたカルーセルアツセンブリと、金属電極をオー
バーハング状態に水平に支持したマニフオールド
チヤンバーと、上記被処理物と金属電極を包囲す
る長さと直径を有し、外周部にフイールドコイル
層を有する横向き筒形のメインチヤンバーとの３
部とからなり、マニフオールドチヤンバーは床面
上に定着し、メインチヤンバーは当該マニフオー
ルドチヤンバーに分離自在に水平に連結し、カル
ーセルアツセンブリはメインチヤンバーに対して
移動可能としたところにある。
以下、この発明を図面に示す実施例に基づき詳
細に説明する。
細に説明する。
図面において、１はカルーセルアツセンブリ
で、カルーセルアツセンブリ１は管体からなる被
処理物２を水平に支持するホルダー３と、当該ホ
ルダー３と共に被処理物２に自転、公転を与える
自転・公転機構４と、ホルダー３の基部側に後述
するメインチヤンバー閉鎖用の垂直蓋５とを具え
ている。更に詳しくは、垂直蓋５の中央に垂直蓋
５に直交する回転軸６を貫通して設け、垂直蓋５
の表側に突出している回転軸６の端部にはプーリ
ー７を設け、同裏側に突出している回転軸６の端
部には回転軸６の回転により回転する回転板８を
設け、この回転板８には、軸心に対し同一円周方
向に適宜間隔で前記被処理物２を軸方向水平に支
持するホルダー３の基部を回転自在に設け、この
ホルダー３の基部には遊星歯車９を設け、この遊
星歯車９を、前記垂直蓋５の裏面に設けたリング
状のギヤ１０に噛合させ、前記回転軸６を回転す
ることにより、回転板８に設けたホルダー３を公
転させ、同時に前記遊星歯車９がギヤ１０により
回転させられることによりホルダー３が自転し、
ホルダー３に支持された被処理物２に自転、公転
を与える構成となつている。１１は回転軸６を回
転させるモーターである。
で、カルーセルアツセンブリ１は管体からなる被
処理物２を水平に支持するホルダー３と、当該ホ
ルダー３と共に被処理物２に自転、公転を与える
自転・公転機構４と、ホルダー３の基部側に後述
するメインチヤンバー閉鎖用の垂直蓋５とを具え
ている。更に詳しくは、垂直蓋５の中央に垂直蓋
５に直交する回転軸６を貫通して設け、垂直蓋５
の表側に突出している回転軸６の端部にはプーリ
ー７を設け、同裏側に突出している回転軸６の端
部には回転軸６の回転により回転する回転板８を
設け、この回転板８には、軸心に対し同一円周方
向に適宜間隔で前記被処理物２を軸方向水平に支
持するホルダー３の基部を回転自在に設け、この
ホルダー３の基部には遊星歯車９を設け、この遊
星歯車９を、前記垂直蓋５の裏面に設けたリング
状のギヤ１０に噛合させ、前記回転軸６を回転す
ることにより、回転板８に設けたホルダー３を公
転させ、同時に前記遊星歯車９がギヤ１０により
回転させられることによりホルダー３が自転し、
ホルダー３に支持された被処理物２に自転、公転
を与える構成となつている。１１は回転軸６を回
転させるモーターである。
１２はマニフオールドチヤンバーで、マニフオ
ールドチヤンバー１２は一端を開にし、他端を閉
じた筒状体１３の開口側に２本の平行する金属電
極１４をホルダー１５により軸方向水平にオーバ
ーハング状態に支持した構成となつている。上記
２本の金属電極１４には、その内部に冷却水を導
通する水路１６が形成されている。１７は２本の
電極１４間を遮蔽する遮蔽板であり、この遮蔽板
１７内にも冷却水を導通する水路１８が形成され
ている。１９は前記筒状体１３の開口端部に形成
したフランジである。
ールドチヤンバー１２は一端を開にし、他端を閉
じた筒状体１３の開口側に２本の平行する金属電
極１４をホルダー１５により軸方向水平にオーバ
ーハング状態に支持した構成となつている。上記
２本の金属電極１４には、その内部に冷却水を導
通する水路１６が形成されている。１７は２本の
電極１４間を遮蔽する遮蔽板であり、この遮蔽板
１７内にも冷却水を導通する水路１８が形成され
ている。１９は前記筒状体１３の開口端部に形成
したフランジである。
２０はメインチヤンバーで、メインチヤンバー
２０は前記被処理物２と金属電極１４を包囲する
長さと直径を有し、外周部にフイールドコイル層
２１を有する横向き筒形をもつて構成されてい
る。更に詳しくは、金属筒からなる主筒体２２の
外周面部に、端部に雌ねじを刻設したボス２３
を、該主筒体２２の円周方向と軸心方向に夫々所
定の間隔をあけて放射状に突設して、絶縁キヤツ
プ２４を頭部に具えたボルト付きのサポーター２
５を上記ボス２３に求遠心方向に進退自在に螺合
し、フイールドコイル層２１を外周部に持つ複数
個のフイールドチヤンバー２６を上記サポーター
２５を介して主筒体２２の外周に同心上に支承し
た構成となつている。２７，２８は主筒体２２の
両側開口端部に形成したフランジである。
２０は前記被処理物２と金属電極１４を包囲する
長さと直径を有し、外周部にフイールドコイル層
２１を有する横向き筒形をもつて構成されてい
る。更に詳しくは、金属筒からなる主筒体２２の
外周面部に、端部に雌ねじを刻設したボス２３
を、該主筒体２２の円周方向と軸心方向に夫々所
定の間隔をあけて放射状に突設して、絶縁キヤツ
プ２４を頭部に具えたボルト付きのサポーター２
５を上記ボス２３に求遠心方向に進退自在に螺合
し、フイールドコイル層２１を外周部に持つ複数
個のフイールドチヤンバー２６を上記サポーター
２５を介して主筒体２２の外周に同心上に支承し
た構成となつている。２７，２８は主筒体２２の
両側開口端部に形成したフランジである。
以上のカルーセルアツセンブリ１とマニフオー
ルドチヤンバー１２とメインチヤンバー２０の３
部材であつて、マニフオールドチヤンバー１２は
床面上に支持体２９により水平に支持され、この
マニフオールドチヤンバー１２にメインチヤンバ
ー２０が分離自在に水平に連結される。この連結
は、マニフオールドチヤンバー１２に形成された
フランジ１９とメインチヤンバー２０に形成され
たフランジ２７とを接合しボルト（図示せず）締
めにより行なわれるようになつている。３０はメ
インチヤンバー２０を支持する支持体である。又
カルーセルアツセンブリ１は、前記マニフオール
ドチヤンバー１２に連結しているメインチヤンバ
ー２０に対し、後述するレールに載つてメインチ
ヤンバー２０の開口部に正対して移動可能となつ
ており、メインチヤンバー２０の開口部にカルー
セルアツセンブリ１の垂直蓋５をフツク（図示せ
ず）により固定し、上記開口部を閉鎖するように
なつている。３１はカルーセルアツセンブリを支
持する支持体で、この支持体３１の底部には360
゜回転する軸３２に支えられた方向を自由に変え
られる車輪３３が設けてあり、後述するレール上
を転動するようになつている。
ルドチヤンバー１２とメインチヤンバー２０の３
部材であつて、マニフオールドチヤンバー１２は
床面上に支持体２９により水平に支持され、この
マニフオールドチヤンバー１２にメインチヤンバ
ー２０が分離自在に水平に連結される。この連結
は、マニフオールドチヤンバー１２に形成された
フランジ１９とメインチヤンバー２０に形成され
たフランジ２７とを接合しボルト（図示せず）締
めにより行なわれるようになつている。３０はメ
インチヤンバー２０を支持する支持体である。又
カルーセルアツセンブリ１は、前記マニフオール
ドチヤンバー１２に連結しているメインチヤンバ
ー２０に対し、後述するレールに載つてメインチ
ヤンバー２０の開口部に正対して移動可能となつ
ており、メインチヤンバー２０の開口部にカルー
セルアツセンブリ１の垂直蓋５をフツク（図示せ
ず）により固定し、上記開口部を閉鎖するように
なつている。３１はカルーセルアツセンブリを支
持する支持体で、この支持体３１の底部には360
゜回転する軸３２に支えられた方向を自由に変え
られる車輪３３が設けてあり、後述するレール上
を転動するようになつている。
３４はメインチヤンバー２０の真下床面上に水
平に敷設したレールで、このレール３４はメイン
チヤンバー２０の軸心線と平行なレール３５と、
これと直交する待機レール３６とからなつてお
り、主レール３５と待機レール３６との交叉部に
はレールポイント３７が回転自在に設置されてお
り、各レールポイント３７はリンク３８に連結さ
れ、エアシリンダ３９により同時に主レール３５
及び待機レール３６方向に90゜旋回するようにな
つている。このレール３４上を前記カルーセルア
ツセンブリ１が移動する。４０は上部にメインチ
ヤンバー載置部４１を設けた台車で、底部に前記
カルーセルアツセンブリ１を支持する支持体３１
の底部に設けた車輪３３と同じ構造の車輪４２が
設けられており、上記レール３４上を走行自在と
なつている。この台車４０は必要が無い場合はレ
ール３４から外されている。
平に敷設したレールで、このレール３４はメイン
チヤンバー２０の軸心線と平行なレール３５と、
これと直交する待機レール３６とからなつてお
り、主レール３５と待機レール３６との交叉部に
はレールポイント３７が回転自在に設置されてお
り、各レールポイント３７はリンク３８に連結さ
れ、エアシリンダ３９により同時に主レール３５
及び待機レール３６方向に90゜旋回するようにな
つている。このレール３４上を前記カルーセルア
ツセンブリ１が移動する。４０は上部にメインチ
ヤンバー載置部４１を設けた台車で、底部に前記
カルーセルアツセンブリ１を支持する支持体３１
の底部に設けた車輪３３と同じ構造の車輪４２が
設けられており、上記レール３４上を走行自在と
なつている。この台車４０は必要が無い場合はレ
ール３４から外されている。
次に、上記実施例に基づいてこの発明の作用を
説明する。
説明する。
カルーセルアツセンブリ１は、被処理物２を支
持するホルダー３と、当該ホルダー３と共に被処
理物２に自転、公転を与える自転・公転機構４
と、メインチヤンバー２０の閉鎖用の垂直蓋５と
を具えたものからなつているので、レール上カル
ーセルアツセンブリ１を移動させることにより、
メインチヤンバー２０の開閉と同時にメインチヤ
ンバー２０への被処理物２の搬送、搬出が行な
え、又カルーセルアツセンブリ１の移動時に、カ
ルーセルアツセンブリ１を支持する支持体３１の
底部に設けた車輪３３をレールポイント３７上に
位置させ、レールポイント３７を切換えることに
より、カルーセルアツセンブリ１の向きを変える
ことなく主レール３５から待機レール３６への移
動が行なえる。又レール３４上に台車４０を載
せ、台車４０の上部に設けたメインチヤンバー置
載部４１にメインチヤンバー２０を支持する支持
体３０の横桟４３を載せ、メインチヤンバー２０
とマニフオールドチヤンバー１２から分離移動す
ることが行なえる。
持するホルダー３と、当該ホルダー３と共に被処
理物２に自転、公転を与える自転・公転機構４
と、メインチヤンバー２０の閉鎖用の垂直蓋５と
を具えたものからなつているので、レール上カル
ーセルアツセンブリ１を移動させることにより、
メインチヤンバー２０の開閉と同時にメインチヤ
ンバー２０への被処理物２の搬送、搬出が行な
え、又カルーセルアツセンブリ１の移動時に、カ
ルーセルアツセンブリ１を支持する支持体３１の
底部に設けた車輪３３をレールポイント３７上に
位置させ、レールポイント３７を切換えることに
より、カルーセルアツセンブリ１の向きを変える
ことなく主レール３５から待機レール３６への移
動が行なえる。又レール３４上に台車４０を載
せ、台車４０の上部に設けたメインチヤンバー置
載部４１にメインチヤンバー２０を支持する支持
体３０の横桟４３を載せ、メインチヤンバー２０
とマニフオールドチヤンバー１２から分離移動す
ることが行なえる。
以上、この発明を上記実施例に基づいて説明し
たが、この発明は被処理物を水平に支持するホル
ダーと、当該ホルダーと共に被処理物に自転・公
転を与える自転・公転機構と、ホルダーの基部側
にメインチヤンバー閉鎖用の垂直蓋とを具えたカ
ルーセルアツセンブリと、金属電極をオーバーハ
ング状態に水平に支持したマニフオールドチヤン
バーと、上記被処理物と金属電極を包囲する長さ
と直径を有し、外周部にフイールドコイル層を有
する横向き筒形のメインチヤンバーとの３部とか
らなり、マニフオールドチヤンバーは床面上に定
着し、メインチヤンバーは当該マニフオールドチ
ヤンバーに分離自在に水平に連結し、カルーセル
アツセンブリはメインチヤンバーに対して移動可
能としたものであるから、カルーセルアツセンブ
リをメインチヤンバーに対して移動させることに
より、メインチヤンバーの開閉と同時にメインチ
ヤンバーへの被処理物の搬送、搬出を行なうこと
ができ、しかもホルダーへの被処理物の脱着作業
はカルーセルアツセンブリをメインチヤンバーか
ら移動させることにより、メインチヤンバーによ
る障害を受けずに行なうことができる等、作業性
に富み、大量生産に適し、更にメインチヤンバー
からカルーセルアツセンブリを移動させ、そして
マニフオールドチヤンバーからメインチヤンバー
を分離移動させることにより、それらの清掃、補
修、取替等の作業が簡単に行なえるのでメンテナ
ンスが非常に容易となるといつた効果を有する。
たが、この発明は被処理物を水平に支持するホル
ダーと、当該ホルダーと共に被処理物に自転・公
転を与える自転・公転機構と、ホルダーの基部側
にメインチヤンバー閉鎖用の垂直蓋とを具えたカ
ルーセルアツセンブリと、金属電極をオーバーハ
ング状態に水平に支持したマニフオールドチヤン
バーと、上記被処理物と金属電極を包囲する長さ
と直径を有し、外周部にフイールドコイル層を有
する横向き筒形のメインチヤンバーとの３部とか
らなり、マニフオールドチヤンバーは床面上に定
着し、メインチヤンバーは当該マニフオールドチ
ヤンバーに分離自在に水平に連結し、カルーセル
アツセンブリはメインチヤンバーに対して移動可
能としたものであるから、カルーセルアツセンブ
リをメインチヤンバーに対して移動させることに
より、メインチヤンバーの開閉と同時にメインチ
ヤンバーへの被処理物の搬送、搬出を行なうこと
ができ、しかもホルダーへの被処理物の脱着作業
はカルーセルアツセンブリをメインチヤンバーか
ら移動させることにより、メインチヤンバーによ
る障害を受けずに行なうことができる等、作業性
に富み、大量生産に適し、更にメインチヤンバー
からカルーセルアツセンブリを移動させ、そして
マニフオールドチヤンバーからメインチヤンバー
を分離移動させることにより、それらの清掃、補
修、取替等の作業が簡単に行なえるのでメンテナ
ンスが非常に容易となるといつた効果を有する。
図面は、この発明の一実施例を示すもので、第
１図はこの発明を構成する３部を連結した状態を
示す概略正面図、第２図は第１図の―線一部
省略拡大断面図、第３図は第１図の―線一部
省略拡大断面図、第４図は第１図の―線一部
省略拡大断面図、第５図はこの発明を構成する３
部を分離移動させる状態を示す説明図、第６図は
マニフオールドチヤンバーからメインチヤンバー
を分離した状態を示す説明図、第７図はレールを
敷設したこの発明の概略平面図、第８図は第７図
に示すレールの切換部を示す拡大平面図、第９図
はカルーセルアツセンブリを支持する支持体の底
部に設けた車輪を示す拡大縦断面図、第１０図は
メインチヤンバーを移動させる台車を示す概略正
面図である。 １……カルーセルアツセンブリ、２……被処理
物、３……ホルダー、４……自転・公転機構、５
……垂直蓋、１２……マニフオールドチヤンバ
ー、１４……金属電極、２０……メインチヤンバ
ー、２１……フイールドコイル層。
１図はこの発明を構成する３部を連結した状態を
示す概略正面図、第２図は第１図の―線一部
省略拡大断面図、第３図は第１図の―線一部
省略拡大断面図、第４図は第１図の―線一部
省略拡大断面図、第５図はこの発明を構成する３
部を分離移動させる状態を示す説明図、第６図は
マニフオールドチヤンバーからメインチヤンバー
を分離した状態を示す説明図、第７図はレールを
敷設したこの発明の概略平面図、第８図は第７図
に示すレールの切換部を示す拡大平面図、第９図
はカルーセルアツセンブリを支持する支持体の底
部に設けた車輪を示す拡大縦断面図、第１０図は
メインチヤンバーを移動させる台車を示す概略正
面図である。 １……カルーセルアツセンブリ、２……被処理
物、３……ホルダー、４……自転・公転機構、５
……垂直蓋、１２……マニフオールドチヤンバ
ー、１４……金属電極、２０……メインチヤンバ
ー、２１……フイールドコイル層。
Claims (1)
- １ 被処理物を水平に支持するホルダーと、当該
ホルダーと共に被処理物に自転、公転を与える自
転・公転機構と、ホルダーの基部側にメインチヤ
ンバー閉鎖用の垂直蓋とを具えたカルーセルアツ
センブリと、金属電極をオーバーハング状態に水
平に支持したマニフオールドチヤンバーと、上記
被処理物と金属電極を包囲する長さと直径を有
し、外周部にフイールドコイル層を有する横向き
筒形のメインチヤンバーとの３部とからなり、マ
ニフオールドチヤンバーは床面上に定着し、メイ
ンチヤンバーは当該マニフオールドチヤンバーに
分離自在に水平に連結し、カルーセルアツセンブ
リはメインチヤンバーに対して移動可能としたこ
とを特徴とする、被処理物の外表面にスパツタリ
ング膜を形成する装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57217496A JPS59107071A (ja) | 1982-12-12 | 1982-12-12 | 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57217496A JPS59107071A (ja) | 1982-12-12 | 1982-12-12 | 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59107071A JPS59107071A (ja) | 1984-06-21 |
| JPS6214218B2 true JPS6214218B2 (ja) | 1987-04-01 |
Family
ID=16705143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57217496A Granted JPS59107071A (ja) | 1982-12-12 | 1982-12-12 | 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59107071A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2587731B1 (fr) * | 1985-09-23 | 1988-01-08 | Centre Nat Rech Scient | Procede et dispositif de depot chimique de couches minces uniformes sur de nombreux substrats plans a partir d'une phase gazeuse |
| JP2013040357A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-28 | Optorun Co Ltd | 成膜装置 |
| WO2019124099A1 (ja) | 2017-12-22 | 2019-06-27 | 株式会社村田製作所 | 成膜装置 |
| WO2019124098A1 (ja) * | 2017-12-22 | 2019-06-27 | 株式会社村田製作所 | 成膜装置 |
| WO2019124101A1 (ja) * | 2017-12-22 | 2019-06-27 | 株式会社村田製作所 | 成膜装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS572272A (en) * | 1980-06-04 | 1982-01-07 | Sumitomo Chem Co Ltd | Preparation of n-phenylcyclopropanedicarboxylic acid imide derivative |
| JPS5732368A (en) * | 1980-08-05 | 1982-02-22 | Ulvac Corp | Vacuum treating apparatus |
-
1982
- 1982-12-12 JP JP57217496A patent/JPS59107071A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS572272A (en) * | 1980-06-04 | 1982-01-07 | Sumitomo Chem Co Ltd | Preparation of n-phenylcyclopropanedicarboxylic acid imide derivative |
| JPS5732368A (en) * | 1980-08-05 | 1982-02-22 | Ulvac Corp | Vacuum treating apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59107071A (ja) | 1984-06-21 |
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