JPS5910338B2 - ジデオキシストレプタミン誘導体の製法 - Google Patents
ジデオキシストレプタミン誘導体の製法Info
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- JPS5910338B2 JPS5910338B2 JP13316474A JP13316474A JPS5910338B2 JP S5910338 B2 JPS5910338 B2 JP S5910338B2 JP 13316474 A JP13316474 A JP 13316474A JP 13316474 A JP13316474 A JP 13316474A JP S5910338 B2 JPS5910338 B2 JP S5910338B2
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なジデオキシストレプタミン誘導体の製
造法に関する。
造法に関する。
さらに詳細に述べれば本発明は次の一般式（１）（ＯＲ
）４σ田 （式中、４個のＲは同一でも異つてもよく各々が水素原
子、あるいは水酸基の保護基として公知であるアシル基
、特に低級アルカロイル基、例えばアセチル基、プロピ
オニル基又はブチリル基、若しくはアロイル基例えばベ
ンゾイル基、若しくはアルキルスルホニル基特に低級ア
ルキルスルホニル基例えばメシル基、若しくはアリール
スルホニル基特にトシル基又はベンジルスルホニル基を
表わし、アシル基とアルキルスルホニル基又はアリール
スルホニル基とが混在してもよい）で示されるシクロヘ
キサンテトロール又はその保護誘導体をアジド化合物又
はヒドラジン化合物と反応させてアジド化又はヒドラジ
ノ化し、次いでこの反応生成物を加水素分解し、また必
要に応じて加水素分解生成物から残存する保護基Ｒを常
法で脱離することを特徴とし、また所望ならば普通の酸
と常法で反応させる、次の一般式（ＴＸ）（ＮＨ２）Ｏ
（ＯＨ）２ □ （Ｗ で示されるジデオキシストレプタミン又はこれのアシル
化誘導体又はその酸付加塩の製造法を要旨とする。
）４σ田 （式中、４個のＲは同一でも異つてもよく各々が水素原
子、あるいは水酸基の保護基として公知であるアシル基
、特に低級アルカロイル基、例えばアセチル基、プロピ
オニル基又はブチリル基、若しくはアロイル基例えばベ
ンゾイル基、若しくはアルキルスルホニル基特に低級ア
ルキルスルホニル基例えばメシル基、若しくはアリール
スルホニル基特にトシル基又はベンジルスルホニル基を
表わし、アシル基とアルキルスルホニル基又はアリール
スルホニル基とが混在してもよい）で示されるシクロヘ
キサンテトロール又はその保護誘導体をアジド化合物又
はヒドラジン化合物と反応させてアジド化又はヒドラジ
ノ化し、次いでこの反応生成物を加水素分解し、また必
要に応じて加水素分解生成物から残存する保護基Ｒを常
法で脱離することを特徴とし、また所望ならば普通の酸
と常法で反応させる、次の一般式（ＴＸ）（ＮＨ２）Ｏ
（ＯＨ）２ □ （Ｗ で示されるジデオキシストレプタミン又はこれのアシル
化誘導体又はその酸付加塩の製造法を要旨とする。
本発明者は、従来から種々のアミノ糖の研究を行つて来
たが、アミノ配糖体抗生物質の不活化機構が明らかにさ
れ、その分子中の特定の水酸基がリン酸化又はアデニル
化などの化学反応を受けて不活化されることが判明して
以来、デオキシ糖の存在が注目されるようになり、その
合成法も種々報告されるようになつた。
たが、アミノ配糖体抗生物質の不活化機構が明らかにさ
れ、その分子中の特定の水酸基がリン酸化又はアデニル
化などの化学反応を受けて不活化されることが判明して
以来、デオキシ糖の存在が注目されるようになり、その
合成法も種々報告されるようになつた。
本発明は、上記一般式（１）で表わされるシクロヘキサ
ンテトロール又はそのアシル化又はスルホニル化化合物
又はアシル化、スルホニル化混成誘導体をアジド化合物
又はヒドラジン化合物と反応させることによつてアシド
化又はヒドラジノ化し、すなわちこうしてアジド基を導
入するか又はヒドラジノ化合物を生成させ、その後その
反応生成物を加水素分解反応にかけて、導入したアジド
基又はヒドラジノ基をアミノ基に変換し、その後保護基
Ｒがある場合には必要に応じて常法で例えば加水分解反
応を行つて、目的物の（［［）式で示されるジデオキシ
ストレプタミン又はそのアシル化誘導体を製造する方法
に関するものである。
ンテトロール又はそのアシル化又はスルホニル化化合物
又はアシル化、スルホニル化混成誘導体をアジド化合物
又はヒドラジン化合物と反応させることによつてアシド
化又はヒドラジノ化し、すなわちこうしてアジド基を導
入するか又はヒドラジノ化合物を生成させ、その後その
反応生成物を加水素分解反応にかけて、導入したアジド
基又はヒドラジノ基をアミノ基に変換し、その後保護基
Ｒがある場合には必要に応じて常法で例えば加水分解反
応を行つて、目的物の（［［）式で示されるジデオキシ
ストレプタミン又はそのアシル化誘導体を製造する方法
に関するものである。
さらに本発明の方法を工程順に説明すると次の如くであ
る。
る。
まず一般式（１）
（式中、４個のＲは同一でも異つてもよく各々が水素原
子、あるいは先に定義した水酸基保護基を表わす）を示
されるシクロヘキサンテトロール化合物をメトキシエタ
ノール等、反応に不活性を溶媒中でアジド化合物又はヒ
ドラジン化合物と反応させる。
子、あるいは先に定義した水酸基保護基を表わす）を示
されるシクロヘキサンテトロール化合物をメトキシエタ
ノール等、反応に不活性を溶媒中でアジド化合物又はヒ
ドラジン化合物と反応させる。
こｋで使用する一般式（１）で示される化合物の具体例
としては２・３−ジ一０−アセチル−１・４−ジ一０−
メシルーシクロヘキサンテトロール；１・４−ジ一０−
メシルーシクロヘキサンテトロール；１・２−ジ一０−
アセチル−３・５−ジ一０−メシルーシクロヘキサンテ
トロール：１・５−ジ一０−アセチル−２・３−ジ一０
−メシルーシクロヘキサンテトロール等、水酸基をアセ
チル基、ベンゾイル基、メシル基、トシル基等の保護基
で保護されたか又は保護されないシクロヘキサンテトロ
ール誘導体があり、本発明の目的物質の製造に適する一
般式（１）の化合物はすべて使用可能である。また本法
で反応剤として用いるアジド化合物としてはアジ化ナト
リウムの如きアジ化アルカリ金属又はアジ化バリウムな
どのアジ化アルカリ土類金属の如き化合物が、またヒド
ラジン化合物としてはヒドラジン、ジメチルヒドラジン
などのジアルキルヒドラジン化合物が実用可能である。
としては２・３−ジ一０−アセチル−１・４−ジ一０−
メシルーシクロヘキサンテトロール；１・４−ジ一０−
メシルーシクロヘキサンテトロール；１・２−ジ一０−
アセチル−３・５−ジ一０−メシルーシクロヘキサンテ
トロール：１・５−ジ一０−アセチル−２・３−ジ一０
−メシルーシクロヘキサンテトロール等、水酸基をアセ
チル基、ベンゾイル基、メシル基、トシル基等の保護基
で保護されたか又は保護されないシクロヘキサンテトロ
ール誘導体があり、本発明の目的物質の製造に適する一
般式（１）の化合物はすべて使用可能である。また本法
で反応剤として用いるアジド化合物としてはアジ化ナト
リウムの如きアジ化アルカリ金属又はアジ化バリウムな
どのアジ化アルカリ土類金属の如き化合物が、またヒド
ラジン化合物としてはヒドラジン、ジメチルヒドラジン
などのジアルキルヒドラジン化合物が実用可能である。
また、アジ化又はヒドラジノ化反応で用いる溶媒として
は、２−メトキシエタノール等、本反応に於て不活性な
溶媒はすべて使用可能である。この反応は一般に１０〜
１６０℃の範囲で行うのが適当である。反応時間は通常
１〜２４時間で終了する。こうして得られたアジド化合
物又はヒドラジノ化合物をさらに必要に応じてアルミナ
、アンバーライト等のカラムクロマトグラムで不純物を
除去する。その後、水またはメタノールエタノール等の
有機溶媒に溶解した後、白金系水添触媒例えばプラチナ
、パラジウム、パラジウム−カーボン又はラネーニツケ
ル等の触媒を用いて加水素分解反応を行う。この時の加
水素分解の反応条件としては、反応温度が室温〜１５０
℃、水素圧力が１〜５０ｋｇ／Ｃｌｌｌ反応時間が１〜
２４時間であるのが適当である。反応後加水素分解反応
生成物中に保護基Ｒとしてアセチル、ベンゾイル、メシ
ル、トシル等のアシル又はスルホニル基が残存する場合
には、所望ならばこれらの保護基Ｒを常法で例えば加水
分解で脱離することができる。この時の加水分解は、上
記反応生成物を１〜６Ｎの塩酸、１〜６Ｎの硫酸、１０
〜２０％の水酸化ナトリウム水溶液もしくは水酸化バリ
ウムの飽和水溶液を用い５０〜１５０℃で加熱下に還流
することによつて行われる。
は、２−メトキシエタノール等、本反応に於て不活性な
溶媒はすべて使用可能である。この反応は一般に１０〜
１６０℃の範囲で行うのが適当である。反応時間は通常
１〜２４時間で終了する。こうして得られたアジド化合
物又はヒドラジノ化合物をさらに必要に応じてアルミナ
、アンバーライト等のカラムクロマトグラムで不純物を
除去する。その後、水またはメタノールエタノール等の
有機溶媒に溶解した後、白金系水添触媒例えばプラチナ
、パラジウム、パラジウム−カーボン又はラネーニツケ
ル等の触媒を用いて加水素分解反応を行う。この時の加
水素分解の反応条件としては、反応温度が室温〜１５０
℃、水素圧力が１〜５０ｋｇ／Ｃｌｌｌ反応時間が１〜
２４時間であるのが適当である。反応後加水素分解反応
生成物中に保護基Ｒとしてアセチル、ベンゾイル、メシ
ル、トシル等のアシル又はスルホニル基が残存する場合
には、所望ならばこれらの保護基Ｒを常法で例えば加水
分解で脱離することができる。この時の加水分解は、上
記反応生成物を１〜６Ｎの塩酸、１〜６Ｎの硫酸、１０
〜２０％の水酸化ナトリウム水溶液もしくは水酸化バリ
ウムの飽和水溶液を用い５０〜１５０℃で加熱下に還流
することによつて行われる。
さらに必要に応じて、イオン交換膨脂を使用し脱塩を行
つて対応する塩を製造することもできる。本発明の方法
によつて得られた一般式（［［）で示されるジデオキシ
ストレプタミンとしては例えば２・４−ジデオキシスト
レプタミン；４・６−ジデオキシストレプタミン；４・
５−ジデオキシストレプタミン等の化合物又はこれらの
アセチル化誘導体を挙げることが出来る。
つて対応する塩を製造することもできる。本発明の方法
によつて得られた一般式（［［）で示されるジデオキシ
ストレプタミンとしては例えば２・４−ジデオキシスト
レプタミン；４・６−ジデオキシストレプタミン；４・
５−ジデオキシストレプタミン等の化合物又はこれらの
アセチル化誘導体を挙げることが出来る。
かくして得られた一般式（２）で示される目的化合物は
文献未記載の新規化合物であつて、それ自体が抗菌剤と
して、また他の新規な抗生物質の化学的、生合成的合成
原料として用途が広い。
文献未記載の新規化合物であつて、それ自体が抗菌剤と
して、また他の新規な抗生物質の化学的、生合成的合成
原料として用途が広い。
なお、本発明で出発物質として使用される一般式（１）
で表わされるシクロヘキサンテトロール誘導体も新規化
合物であつてその生成法を説明すると次の如くである。
で表わされるシクロヘキサンテトロール誘導体も新規化
合物であつてその生成法を説明すると次の如くである。
（１） ２・３−ジ一０−アセチル−１・４−ジ一０一
メシル一１・２・３／４−シクロヘキサンテトロール：
１・２：５・６−ジアンヒトロー３・４−ーシクロヘキ
シリデンーアローイノシトール（Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．
ＳＯｃ．Ｊａｐａｎｌ４５２５９７（１９７２）の方法
によつて製造）をテトラヒドロフラン中リチウムアルミ
ニウム・ヒドリドを反応させ、生成物をさらにピリジン
中塩化メタンスルホニルを反応させて製造した２・３−
０−シクロヘキシリデン一１・４−ジ一Ｏ−メシル一１
・２・３／４−シクロヘキサンテトロールを８０％酢酸
中還流した後、無水酢酸−ピリジンでアセチル化すると
製造される。
メシル一１・２・３／４−シクロヘキサンテトロール：
１・２：５・６−ジアンヒトロー３・４−ーシクロヘキ
シリデンーアローイノシトール（Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．
ＳＯｃ．Ｊａｐａｎｌ４５２５９７（１９７２）の方法
によつて製造）をテトラヒドロフラン中リチウムアルミ
ニウム・ヒドリドを反応させ、生成物をさらにピリジン
中塩化メタンスルホニルを反応させて製造した２・３−
０−シクロヘキシリデン一１・４−ジ一Ｏ−メシル一１
・２・３／４−シクロヘキサンテトロールを８０％酢酸
中還流した後、無水酢酸−ピリジンでアセチル化すると
製造される。
（２） １・４−ジ一０−メシル一１・４／２・３ーシ
クロヘキサンテトロール：前述の方法で製造した２・３
−０−シクロヘキシリデン一１・４−ジ一０−メシル一
１・Ｖ２・３−シクロヘキサンテトロールを８０％酢・
酸中で還流して製造する。
クロヘキサンテトロール：前述の方法で製造した２・３
−０−シクロヘキシリデン一１・４−ジ一０−メシル一
１・Ｖ２・３−シクロヘキサンテトロールを８０％酢・
酸中で還流して製造する。
（３） １・２−ジ一０−アセチル−３・５−ジ一０ー
メシル一１・３／２・５−シクロヘキサンテトロール：
１・３／２・５−シクロヘキサンテトロール（Ｊ．Ａｍ
ｅｒ．Ｃｈｅｍ．ＳＯｃ．匹２３７３（１９５４）の方
法で製造）をジメチルホルムアミド中でＰ−トルエンス
ルホン酸の触媒量の存在下に２・２−ジメトキシプロパ
ンを反応させると１・２一Ｏ−イソプロピリデン誘導体
が得られる。
メシル一１・３／２・５−シクロヘキサンテトロール：
１・３／２・５−シクロヘキサンテトロール（Ｊ．Ａｍ
ｅｒ．Ｃｈｅｍ．ＳＯｃ．匹２３７３（１９５４）の方
法で製造）をジメチルホルムアミド中でＰ−トルエンス
ルホン酸の触媒量の存在下に２・２−ジメトキシプロパ
ンを反応させると１・２一Ｏ−イソプロピリデン誘導体
が得られる。
それをピリジン中でメシルクロライドを作用させると１
・２−０−イソプロピリデン一３・５−ジ一０−メシル
一１・３／２・５−シクロヘキサンテトロールが得られ
る。それを５０％酢酸で加水分解し、さらにピリジン中
で無水酢酸を作用させると１・２−ジ一０−アセチル−
３・５−ジ一０−メシル一１・３／２・５−シクロヘキ
サンテトロールが得られる。（４） １・５−ジ一０−
アセチル−２・３−ジ一０−メシル一１・３／２・５−
シクロヘキサンテトロール：上記の（３）で示す１・２
−０−イソプロピリデン誘導体をピリジン中無水酢酸で
処理すると、対応のジアセチル体が得られる。
・２−０−イソプロピリデン一３・５−ジ一０−メシル
一１・３／２・５−シクロヘキサンテトロールが得られ
る。それを５０％酢酸で加水分解し、さらにピリジン中
で無水酢酸を作用させると１・２−ジ一０−アセチル−
３・５−ジ一０−メシル一１・３／２・５−シクロヘキ
サンテトロールが得られる。（４） １・５−ジ一０−
アセチル−２・３−ジ一０−メシル一１・３／２・５−
シクロヘキサンテトロール：上記の（３）で示す１・２
−０−イソプロピリデン誘導体をピリジン中無水酢酸で
処理すると、対応のジアセチル体が得られる。
これを酢酸で加水分解後ピリジン中でメシルクロライド
と作用させて製造する。次に本発明の方法を実施例によ
りさらに詳しく説明する。
と作用させて製造する。次に本発明の方法を実施例によ
りさらに詳しく説明する。
実施例 １
２・３−ジ一０−アセチル−１・４−ジ一０ーメシル一
１・２・３／４−シクロヘキサンテトロール１．０ｔと
アジ化ナトリウム１．０ｔと９０％、２−メトキシエタ
ノール４０ｍ１の混合物を１９時間加熱還流した。
１・２・３／４−シクロヘキサンテトロール１．０ｔと
アジ化ナトリウム１．０ｔと９０％、２−メトキシエタ
ノール４０ｍ１の混合物を１９時間加熱還流した。
反応液を蒸発・乾固し、残渣を無水酢酸：ピリジン（１
：２）１５ｍ１で、室温一夜処理した。不溶部分を▲過
し、無水酢酸５ｍ１、トルエン５ｍ１で洗い沢液と洗滌
液を合し、溶媒を蒸発させるとシロツプ状物質が得られ
た。それをアルミナカラムに吸着させエチルアセテート
で溶出した。
：２）１５ｍ１で、室温一夜処理した。不溶部分を▲過
し、無水酢酸５ｍ１、トルエン５ｍ１で洗い沢液と洗滌
液を合し、溶媒を蒸発させるとシロツプ状物質が得られ
た。それをアルミナカラムに吸着させエチルアセテート
で溶出した。
エチルアセテートを除きメタノール１５ｍ１に溶解させ
、室温で３．４ｋ９／Ｃｄの水素圧力のもとにラネーニ
ツケルＴ−４を触媒としてバールシューカーで水素と一
夜反応させて還元（加水素分解）した。触媒を沢過で除
き、沢液を蒸発させるとシロツプ状物質が得られた。そ
れをエタノール−エーテルで再結晶すると２１Ｗ９（２
．９％）のテトラ−Ｎ・０−アセチル−４・５−ジデオ
キシストレプタミンを得た。融点：２７４〜２７５．５
、Ｐｍｒ（ＤＭＳＯ−Ｄ６）τ２．２４（Ｄｌ２、り＝
９ＨＺ、２ＮＨＡｃ）、５．２５（Ｔｌｌ、Ｈ−３、Ｊ
＝１０．５Ｈｚ）、６．０８（Ｑｌｌ、Ｈ２、ｙ＝１０
．５Ｈｚ）。このテトラ−Ｎ・０−アセチル体２０ηを
、アセチル基脱離のために、６Ｎ塩酸１０ｍ１に懸濁し
、還流下に１〜２時間加熱して加水分解する。
、室温で３．４ｋ９／Ｃｄの水素圧力のもとにラネーニ
ツケルＴ−４を触媒としてバールシューカーで水素と一
夜反応させて還元（加水素分解）した。触媒を沢過で除
き、沢液を蒸発させるとシロツプ状物質が得られた。そ
れをエタノール−エーテルで再結晶すると２１Ｗ９（２
．９％）のテトラ−Ｎ・０−アセチル−４・５−ジデオ
キシストレプタミンを得た。融点：２７４〜２７５．５
、Ｐｍｒ（ＤＭＳＯ−Ｄ６）τ２．２４（Ｄｌ２、り＝
９ＨＺ、２ＮＨＡｃ）、５．２５（Ｔｌｌ、Ｈ−３、Ｊ
＝１０．５Ｈｚ）、６．０８（Ｑｌｌ、Ｈ２、ｙ＝１０
．５Ｈｚ）。このテトラ−Ｎ・０−アセチル体２０ηを
、アセチル基脱離のために、６Ｎ塩酸１０ｍ１に懸濁し
、還流下に１〜２時間加熱して加水分解する。
その後減圧下に溶媒を蒸発させ、残渣を再び冷水に溶解
し、イオン交換樹脂アンバーライトＩＲＡ−４００（０
Ｈ型）で処理し塩酸を除き、再び減圧下に溶媒を蒸発さ
せると４・５−ジデオキシストレプタミン・二塩酸塩１
３．０ηを得た。元素分析値： Ｃ６Ｈ，４Ｎ２Ｏ２・２ＨＣ１に対する 計算値：Ｃ３２．８９Ｈ７．３６Ｎｌ２．７８Ｃｌ３２
．３６％実験値：Ｃ３２．６５Ｈ７．６８Ｎｌ２．５９
Ｃｌ３２．２ｌ％実施例 ２ １・４−ジ一０−メシル一１・４／２・３−シクロヘキ
サンテトロール０．４０ｆと無水ヒドラジン０．５７７
！ｌと２−メトキシエタノール３０ｍ１の混合物を９０
分間加熱還流した。
し、イオン交換樹脂アンバーライトＩＲＡ−４００（０
Ｈ型）で処理し塩酸を除き、再び減圧下に溶媒を蒸発さ
せると４・５−ジデオキシストレプタミン・二塩酸塩１
３．０ηを得た。元素分析値： Ｃ６Ｈ，４Ｎ２Ｏ２・２ＨＣ１に対する 計算値：Ｃ３２．８９Ｈ７．３６Ｎｌ２．７８Ｃｌ３２
．３６％実験値：Ｃ３２．６５Ｈ７．６８Ｎｌ２．５９
Ｃｌ３２．２ｌ％実施例 ２ １・４−ジ一０−メシル一１・４／２・３−シクロヘキ
サンテトロール０．４０ｆと無水ヒドラジン０．５７７
！ｌと２−メトキシエタノール３０ｍ１の混合物を９０
分間加熱還流した。
反応液を乾固し、シロツプ状残渣を１２ＷＬ１，の水に
溶解してアンバーライトＩＲＡ−４１０（０Ｈ型）で処
理した。処理液に１２Ｍ塩酸１．２ｍ１とエタノールと
水１：１溶液４０ｍ１を加え、室温で４．５時間、３．
４ｋｇ／Ｃｄの水素圧でプラチナ触媒７０ηを用いパー
ル・シューカー装置を使用して還元（加水素分解）した
。反応後、触媒を除去し、沢液を蒸発させると４・５−
ジデオキシストレプタミンニ塩酸塩の結晶性物質が得ら
れた。これを無水酢酸：ピリジン（１：２）３０７７！
ｊでアセチル化を行うと１８８ηのテトラ−Ｎ−０−ア
セチル−４・５−ジデオキシストレプタミンを得た。以
上の結果により得られた４・５−ジデオキシストレプタ
ミン・二塩酸塩、テトラ−Ｎ・０−アセチル−４・５−
ジデオキシストレプタミンは融点、元素分析値、胛ｒよ
り実施例１で得た物質と同一であることを確認した。
溶解してアンバーライトＩＲＡ−４１０（０Ｈ型）で処
理した。処理液に１２Ｍ塩酸１．２ｍ１とエタノールと
水１：１溶液４０ｍ１を加え、室温で４．５時間、３．
４ｋｇ／Ｃｄの水素圧でプラチナ触媒７０ηを用いパー
ル・シューカー装置を使用して還元（加水素分解）した
。反応後、触媒を除去し、沢液を蒸発させると４・５−
ジデオキシストレプタミンニ塩酸塩の結晶性物質が得ら
れた。これを無水酢酸：ピリジン（１：２）３０７７！
ｊでアセチル化を行うと１８８ηのテトラ−Ｎ−０−ア
セチル−４・５−ジデオキシストレプタミンを得た。以
上の結果により得られた４・５−ジデオキシストレプタ
ミン・二塩酸塩、テトラ−Ｎ・０−アセチル−４・５−
ジデオキシストレプタミンは融点、元素分析値、胛ｒよ
り実施例１で得た物質と同一であることを確認した。
実施例 ３
１・２−ジ一０−アセチル−３・５−ジ一０一メシル一
１・３／２・５−シクロヘキサンテトロール０．７５２
ｆとアジ化ナトリウム０．７３ｆと９０％の２−メトキ
シエタノール３０Ｔ１Ｌｔの混合物を２０時間加熱還流
した。
１・３／２・５−シクロヘキサンテトロール０．７５２
ｆとアジ化ナトリウム０．７３ｆと９０％の２−メトキ
シエタノール３０Ｔ１Ｌｔの混合物を２０時間加熱還流
した。
反応混合物を乾固し、残渣を１５ｄの無水酢酸：ピリジ
ン（１：２）で一夜室温で処理した。不溶部分をＰ過し
５ｄの無水酢酸、５ｄのトルエンで順次洗滌した。ｒ液
と洗滌液を合し蒸発させるとシロツプ状物質が得られた
。これをアルミナのカラムに吸着させエチルアセテート
で溶出した。エチルアセテートを除去し、残渣を１５ｄ
のエタノールに溶解して室温、３．４ｋｇ／ｃ！ｌの水
素圧力でラネーニツケルＴ−４を触媒としてバールシュ
ーカー装置を用いて一夜水素添加を行つた。触媒をｆ過
して除きｒ液を蒸発させるとシロツプ状物質が得られた
。これを８１１Ｌｔの無水酢酸：ピリジン（１：２）で
アセチル化処理し室温で一夜放置すると結晶が析出する
ので除いた。
ン（１：２）で一夜室温で処理した。不溶部分をＰ過し
５ｄの無水酢酸、５ｄのトルエンで順次洗滌した。ｒ液
と洗滌液を合し蒸発させるとシロツプ状物質が得られた
。これをアルミナのカラムに吸着させエチルアセテート
で溶出した。エチルアセテートを除去し、残渣を１５ｄ
のエタノールに溶解して室温、３．４ｋｇ／ｃ！ｌの水
素圧力でラネーニツケルＴ−４を触媒としてバールシュ
ーカー装置を用いて一夜水素添加を行つた。触媒をｆ過
して除きｒ液を蒸発させるとシロツプ状物質が得られた
。これを８１１Ｌｔの無水酢酸：ピリジン（１：２）で
アセチル化処理し室温で一夜放置すると結晶が析出する
ので除いた。
残りの液を濃縮するとシロツプ状物質が得られた。それ
を５７ｆＬ１，のエチルアセテートに溶解し、冷蔵庫に
一夜放置すると、７８ｍｆのテトラ−Ｎ・０−アセチル
−２・４−ジデオキシストレプタミンを得た。これをエ
チルアセテート−エーテルから２度再結晶させると融点
２３１．５〜２３３℃を示した。Ｐｍｒ（ＤＭＳＯ−Ｄ
６）τ２．１０（Ｄｌｌ、Ｊ＝８Ｈｚ，．Ｎ１１［ＡＯ
）、２．１６（Ｄｌｌ、Ｊ＝１０Ｈｚ１ＮＩ１ＩＡｃ）
このテトラ−Ｎ−０−アセチル体５０ｍｆを６Ｎ塩酸１
０ｍ１に懸濁し、還流下に１〜２時間加熱する。
を５７ｆＬ１，のエチルアセテートに溶解し、冷蔵庫に
一夜放置すると、７８ｍｆのテトラ−Ｎ・０−アセチル
−２・４−ジデオキシストレプタミンを得た。これをエ
チルアセテート−エーテルから２度再結晶させると融点
２３１．５〜２３３℃を示した。Ｐｍｒ（ＤＭＳＯ−Ｄ
６）τ２．１０（Ｄｌｌ、Ｊ＝８Ｈｚ，．Ｎ１１［ＡＯ
）、２．１６（Ｄｌｌ、Ｊ＝１０Ｈｚ１ＮＩ１ＩＡｃ）
このテトラ−Ｎ−０−アセチル体５０ｍｆを６Ｎ塩酸１
０ｍ１に懸濁し、還流下に１〜２時間加熱する。
その後減圧下に溶媒を蒸発させ、残渣を再び冷水に溶解
しイオン交換樹脂アンバーライトＩＲＡ−４００（０Ｈ
型）で処理し塩酸を除き、再び減圧下に溶媒を蒸発させ
ると２・４−ジデオキシストレプタミンニ塩酸塩３３．
７ηを得た。融点：３００℃以上元素分析値： Ｃ６Ｈｌ４Ｎ２Ｏ２・２ＨＣ１に対する 計算値：Ｃ３２．８９Ｈ７．３６Ｎｌ２．７８Ｃｌ３２
．３６％実験値：Ｃ３３．ＯｌＨ７．３ＯＮｌ２．７２
Ｃｌ３２．Ｏ５％実施例 ４ １・５−ジ一０−アセチル−２・３−ジ一０一メシル一
１・３／２・５−シクロヘキサンテトロール０．６１ｆ
とアジ化ナトリウム０．６４ｆと９０％２−メトキシエ
タノール３０ＷＬＩを２０時間加熱還流した。
しイオン交換樹脂アンバーライトＩＲＡ−４００（０Ｈ
型）で処理し塩酸を除き、再び減圧下に溶媒を蒸発させ
ると２・４−ジデオキシストレプタミンニ塩酸塩３３．
７ηを得た。融点：３００℃以上元素分析値： Ｃ６Ｈｌ４Ｎ２Ｏ２・２ＨＣ１に対する 計算値：Ｃ３２．８９Ｈ７．３６Ｎｌ２．７８Ｃｌ３２
．３６％実験値：Ｃ３３．ＯｌＨ７．３ＯＮｌ２．７２
Ｃｌ３２．Ｏ５％実施例 ４ １・５−ジ一０−アセチル−２・３−ジ一０一メシル一
１・３／２・５−シクロヘキサンテトロール０．６１ｆ
とアジ化ナトリウム０．６４ｆと９０％２−メトキシエ
タノール３０ＷＬＩを２０時間加熱還流した。
反応液を蒸発乾固し、残渣を無水酢酸：ピリジン（１：
２）１５ｄで一夜室温でアセチル化処理した。
２）１５ｄで一夜室温でアセチル化処理した。
不溶部分を▲過し、▲液を蒸発させるとシロツプ状物質
が得られた。これを１０１のエタノールに溶解し、バー
ルシューカー装置を用いラネーニッケルＴ−４の存在下
３．４ｋ１Ｉ／ｃ！１１の水素圧力下で室温にて一夜水
素添加した。
が得られた。これを１０１のエタノールに溶解し、バー
ルシューカー装置を用いラネーニッケルＴ−４の存在下
３．４ｋ１Ｉ／ｃ！１１の水素圧力下で室温にて一夜水
素添加した。
触媒を除云し▲液を蒸発させると４・６−ジデオキシス
トレプタミンが得られた。これを無水酢酸：ピリジン（
１：２）１５ｄでアセチル化後、ジメチルスルホキシド
−水から再結晶すると２００ηのテトラ−Ｎ・Ｏ−アセ
チル−４・６−ジデオキシストレプタミンを薄い針状晶
として得た。融点：３００〜３００．５℃Ｐｍｒ（ＤＭ
ＳＯ−Ｄ６）τ５．３１（ｔ、１、Ｈ−２、Ｊ＝１１Ｈ
７．）、６．１０（ＴＯｆｄｌ２、Ｈ−１ａｎｄＨ−３
、Ｊ＝４．５、１１、ＡｎｄｌｌＨｚ）。
トレプタミンが得られた。これを無水酢酸：ピリジン（
１：２）１５ｄでアセチル化後、ジメチルスルホキシド
−水から再結晶すると２００ηのテトラ−Ｎ・Ｏ−アセ
チル−４・６−ジデオキシストレプタミンを薄い針状晶
として得た。融点：３００〜３００．５℃Ｐｍｒ（ＤＭ
ＳＯ−Ｄ６）τ５．３１（ｔ、１、Ｈ−２、Ｊ＝１１Ｈ
７．）、６．１０（ＴＯｆｄｌ２、Ｈ−１ａｎｄＨ−３
、Ｊ＝４．５、１１、ＡｎｄｌｌＨｚ）。
このテトラ−Ｎ−０−アセチル体５０〜を６Ｎ塩酸１０
ｍ２に懸濁し、還流下に１〜２時間加熱する。その後減
圧下に溶媒を蒸発させ、残渣を再び冷水に溶解し、イオ
ン交換樹脂アンバーライトＩＲＡ−４００（０Ｈ型）で
処理し、塩酸を除き再び減圧下に溶媒を蒸発させると４
・６−ジデオキシストレプタミン・二塩酸塩３２．５〜
を得た。融点：２６８−２７０℃（分解）。元素分析値 Ｃ６Ｈｌ４Ｎ２Ｏ２・２ＨＣ１に対する
ｍ２に懸濁し、還流下に１〜２時間加熱する。その後減
圧下に溶媒を蒸発させ、残渣を再び冷水に溶解し、イオ
ン交換樹脂アンバーライトＩＲＡ−４００（０Ｈ型）で
処理し、塩酸を除き再び減圧下に溶媒を蒸発させると４
・６−ジデオキシストレプタミン・二塩酸塩３２．５〜
を得た。融点：２６８−２７０℃（分解）。元素分析値 Ｃ６Ｈｌ４Ｎ２Ｏ２・２ＨＣ１に対する
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次の一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中、４
個のＲは同一でも異つてもよく各々が水素原子、あるい
は水酸基の保護基として公知であるアシル基又はアルキ
ルスルホニル基又はアリールスルホニル基を表わし、ア
シル基とアルキルスルホニル基又はアリールスルホニル
基とが混在してもよい）で示されるシクロヘキサンテト
ロール又はその保護誘導体をアジド化合物又はヒドラジ
ン化合物と反応させてアジド化又はヒドラジノ化し、次
いでこの反応生成物を加水素分解し、また必要に応じて
加水素分解生成物から残存する保護基Ｒを常法で脱離し
、また所望ならば普通の酸と常法で反応させることを特
徴とする、次の一般式（II）▲数式、化学式、表等があ
ります▼（II）で示されるジデオキシストレプタミン又
はこれのアシル化誘導体又はその酸付加塩の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13316474A JPS5910338B2 (ja) | 1974-11-21 | 1974-11-21 | ジデオキシストレプタミン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13316474A JPS5910338B2 (ja) | 1974-11-21 | 1974-11-21 | ジデオキシストレプタミン誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5159838A JPS5159838A (ja) | 1976-05-25 |
| JPS5910338B2 true JPS5910338B2 (ja) | 1984-03-08 |
Family
ID=15098173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13316474A Expired JPS5910338B2 (ja) | 1974-11-21 | 1974-11-21 | ジデオキシストレプタミン誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5910338B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0124194Y2 (ja) * | 1984-02-07 | 1989-07-24 |
-
1974
- 1974-11-21 JP JP13316474A patent/JPS5910338B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0124194Y2 (ja) * | 1984-02-07 | 1989-07-24 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5159838A (ja) | 1976-05-25 |
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