JPS59103261A - 電子線装置 - Google Patents

電子線装置

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JPS59103261A
JPS59103261A JP21249882A JP21249882A JPS59103261A JP S59103261 A JPS59103261 A JP S59103261A JP 21249882 A JP21249882 A JP 21249882A JP 21249882 A JP21249882 A JP 21249882A JP S59103261 A JPS59103261 A JP S59103261A
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JP
Japan
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sample
pulse
electron beam
signal
circuit
Prior art date
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JP21249882A
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English (en)
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JPS6363112B2 (ja
Inventor
Hitoshi Hirata
平田 衡
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Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Nihon Denshi KK
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Publication date
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Publication of JPS59103261A publication Critical patent/JPS59103261A/ja
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Granted legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/252Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
    • H01J37/256Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers using scanning beams

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は試料上に電子線を照射して試料像を得る装置に
関し、特に電子線の照射位置の走査を試料を移動さ−1
ることにJ:つで行う電子線装置に関する。
例えばX線マイクロアナライザーを用いて試料の極めて
広い部分の像(極低倍像)を電子線の走査によって得よ
うとすると、電子線の照射位置と検出器の距離が大幅に
変化するため歪の無い像を得ることはできない。そこで
このような極低倍像を歪無く得るために、電子線ではな
く試料の方を機械的に移動させて電子線の試料上におけ
る照射位置を二次元的に走査するよにした装置が開発さ
れ使用されている。即ち、この装置は試料をX方向に往
復移動させるためのパルスモータと、該方向と直交する
Y方向に試料を移動させるためのパルスモータとを有し
、これらパルスモータにパルスを供給して試料をX方向
に沿って往復移動させると共にY方向に沿って試料を移
動させるようにし、この試料の移動に同期して陰極線管
を走査し、この陰極線管に試料より得られた信号を供給
して試料像を得ている。ところが、X方向の試料の移動
は、像を短時間で得ようとすると、かなりの速度で行わ
なければならないが、一方試料の移動には移動方向の逆
転が伴うため、この逆転の前後で移動速度を落さないと
大きな衝撃を生じる。従ってこの種の従来装置において
は、試料をX方向に移動させるためのパルスモータに供
給するパルスの時間間隔を変化させて、第1図に示すよ
うに試料の移動の開始時や移動方向の逆転時の前後にお
いては試料の移動速度を落すようにしている。但し、第
1図にJ3いて、横軸は時間を示しており、縦軸は各時
間における試料の移動速度を示している。その結果移動
方向の逆転の前後(即ち、X方向走査像の両端部の近傍
)においては電子線の伯の部分に比較して試料上の同一
個所ににり長い時間停留する。一方試料から検出される
X線カウント数は時間に比例するため、停留時間に比例
して児か()」−大きな信号が得られることになる。従
−)て得られた像は、第2図に示すように像の両端部A
、Bが他の部分より信号密度が高い像となってしまう。
従来においては、このような事態に対して何等対策を施
さないか、端部の部分は陰極線管に表示しないでカット
してしまうか、あるいは検出信号を大規模なメモリーに
格納した後、演算処理を施して信号を停留時間で除して
正規化し、補正する等が行われていたが、第2の対策は
観察できる視野が小ざくなる大きな欠点を有している。
又第3の対策は信号処理に高価なコンピュータを必要と
Jるばかゆでなく、リアルタイムで像を見ることはでき
ない。
本発明はこのような従来の欠点を解決し、試料の移動速
度の非一様性に起因する悲影響を除き、リアルタイムで
良質な試料像を観察することのできる構造の簡単な装置
を提供することを目的として成されたもので、細く絞ら
れた電子線を試料上に照射する手段と、該電子線を試料
上においては二次元的に走査するため試料をX方向にt
lli復移動させるためのパルスモータ及び該方向と直
交するY方向に移動させるためのモータと、該X方向の
移動に伴う試料の移動方向の逆転を小さな加速度で行う
ためパルス発生間隔の変化するパルスを発生して前記パ
ルスモータに供給するパルス発生回路と、該パルス発生
回路よりのパルス信号の供給に基づく試料の移動に同期
して走査される陰極線管とを備えた装置において、前記
パルス発生回路からのパルス信号に基づいて該パルスの
時間間隔が最小値でより長い場合にはその際のパルス+
 陪からτを差し引いたパルス幅を有するパルスを発生
づる制御回路を具備し、該制御回路よりの信号に基づい
て前記試料に照射される電子線又は前記陰極線管をブラ
ンキングするようにしたことを特徴どしている。
以下図面に基づき本発明の一実施例を詳述する。
本発明の一実施例を示す第3図において、1は電子銃で
あり、この電子銃よりの電子線FBは収束レンズ2によ
って収束された後、対物レンズ3によって細く絞られた
後、試料4に照射される。
試料4は試料ステージ5の上に載置されており、この試
料ステージ5はX方向移動用のパルスモータ6X及びY
方向移動用のパルスモータ6Yによって各々X方向及び
Y方向に沿って移動できるようになっている。7はアパ
ーチャ板であり、このアパーチャ板7はその上部に配置
された偏向電極8によって電子線が偏向された際に電子
線を遮断して試料に到達するのを阻止するだめのもので
ある。9は試お14を第1図に示すような速度でX方向
に沿って移動させるため、第4図<a >に示す如きパ
ルス間隔が最小(ffiτとそれより長い値との間で変
化するパルスを発生させるパルス発生回路である。但し
、第4図(a )は、X方向の一回の走査に対応する期
間のパルスのみを示している。
この回路9よりの信号はパルスモータ駆動信号発生回路
10Xに供給されていると共にX方向走査信号発生回路
13Xにも供給されている。パルスモータ駆動信号発生
回路10Xは、回路9よりのパルス信号に基づいてパル
スモータ6xを回転させる為の信号を発生させ、この信
号を増幅器15Xを介して前記パルスモータ6×に供給
する。又、X方向走査信号発生回路13Xは回路9より
のパルス信号に阜づいて第5図に示すような走査信号を
発生し、陰極線@14のX方向偏向コイルXに供給する
。この図において、Hで示された期間はX方向の一走査
期間に対応している。この走査信号は、パルスが回路9
より供給される毎に信号値を一定レベルずつステップア
ップ(正の向きの走査)またはステップダウン(負の向
きの走査)させることによって得られる。従って試料4
は第1図に示ずような速度で移動すると共に陰極線管1
4はこの試料のX方向の移動に同期して走査される。1
6はY方向走査を行うためX方向走査の方向が逆転する
ときに同期してパルス信号を発生ずる発振器であり、こ
の発振器16よりの信号はパルスモータ駆動信号発生回
路10Yに供給されると其にY方向走査(ffi号発生
回路13Yに供給される。パルスモータ駆1I8II信
号発生回路10Yに供給される。パルスモータ駆動信号
発生回路10Yよりの信号は増幅器15Yを介して前記
パルスモータ6Yに供給されると共に、Y方向走査信号
発生回路13Yの走査信号も陰極線管14のY方向偏向
コイルYに供給されるため、試料4及び陰極線管14は
Y方向にも同期走査される。更に前記パルス発生回路9
よりの信号は、制御信号発生回路1つにも供給されてい
る。制御信号発生回路11はパルス発生回路9よりの信
号に基づいて、回路9よりのパルス信号の間隔がτより
も長くなっIc場合に、その際のパルス間隔からτを差
し引いた時間幅を有する第4図(b )に示すようなパ
ルス信号を発生ずる。この制御信号発生回路11の出力
信号は増幅器12を介して前記偏向板8に供給される。
又、17はX線検出器であり、このX線検出器17より
の検出パルス信舅は増幅器18を介して信号処理回路1
つに供給されている。この処理回路19はパルスを一定
の形状に整えるためのちので、この回路19よりの信号
は増幅器20を介して陰極線管14のグリッドGに供給
される。
21.22は増幅器である。
このような構成において、パルス発生回路9よりの第4
図(a )に示す如きパルス信号と前述した発振器16
よりのパルスを各々パルスモータ駆動信舅発生回路10
X、IOYに供給づると共に、第5図に示づ゛如き走査
信号と、発振器16の出力パルスに基づいてY75向走
査信号発生回路13Yにおいて作成される一様な勾配の
走査信号を陰極線管1/Iに供給゛りれば、試料4は第
1図に示すように移動覆ると共に、この試料4の移動に
同期して陰極線管14は走査される。そこで検出器17
によって検出され処理回路19によって処理された信号
を陰極線管14に導入すれば、陰極線管には試料像が得
られるが、この際、パルス発生回路9よりの信号に基づ
いて作成された第4図(1))に示す如き信号が、制御
信号発生回路11より電極8に供給されるため、試料の
移動の開始あるいは移動方向の逆転近傍性に試料の同一
点にτ時間以上電子線が停留する場合には、電子線EB
はτ経過した瞬間から偏向電極8により偏向され、アバ
−“チャ板7によって辿ぎられてしまうため、電子線は
どの点にもてたけしか照射されないことになる。従って
、試料の移動速度が変化するにもがかわらず、陰極線管
、14にはこの変化に基づく兄か()上の信号量の増加
の影響を除いた像を得ることができる。
尚、本発明は上述した実施例に限定されることなく幾多
の変形が可能である。例えば、上述した実施例において
は、試料に照射される電子線FBを制御回路11よりの
信号により偏向して試1’lに到達しないようにしたが
、制御回路11よりの信号に基づいて陰極線管14のグ
リッドG又はカソードを制御し、試料上の一点にτ時間
電子線が照射された後は、照射点が次の点に移るまで陰
極線管14がフランキングされるようにしても良い。
【図面の簡単な説明】
第1図は試料が速度を変化させつつ移動する様子を説明
するだめの図、第2図は従来にお(プる陰極線管の表示
像を例示するための図、第3図は本発明の一実施例の概
略図、第4図は第3図に示した一実施例装置の各回路J
:りの出力信号を示Jための図、第5図は陰極線管に供
給されるX方向の走査信号を説明するための図である。 1:電子銃、2:集束レンズ、3:対物レンズ、4:試
料、5:試料ステージ、6X、6Y:パルスモータ、7
:アパーチャ板、8:偏向電極、9:パルス発生回路、
10X、10Y’:パルスモータ駆動信号発生回路、1
1:制御回路、13X、13Y:走査信号発生回路、:
14:陰極線管、16:発振器、17:検出器、19信
号処理回路、特許出願人 日本電子株式会社 代表者 伊藤 −夫

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 細く絞られた電子線を試料上に照射する手段と、該電子
    線を試料上において二次元的に走査するため試料をX方
    向に往復移動させるためのパルスモータ及び該方向と直
    交づ−るY方向に移動さぜるためのモータと、該X方向
    の移動に伴う試料の移動方向の逆転を小さな加速度で行
    うためパルス発生間隔の変化するパルスを発生して前記
    パルスモータに供給するパルスを発生回路と、該パルス
    発生回路よりのパルス信号の供給に基づく試料の移動に
    同期して走査される陰極線管とを備えた装置において、
    前記パルス発生回路からのパルス信号に基づいて該パル
    スの時間間隔が最小値τより長い場合にはその際のパル
    ス間隔からτを差し引いたパルス幅を有するパルスを発
    生する制御回路を具備し、該制御回路よりの信号に基づ
    いて前記試料に照射される電子線又は前記陰極線管をブ
    ランキングづるようにしたことを特徴とする電子線装置
JP21249882A 1982-12-03 1982-12-03 電子線装置 Granted JPS59103261A (ja)

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JP21249882A JPS59103261A (ja) 1982-12-03 1982-12-03 電子線装置

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JPS6363112B2 JPS6363112B2 (ja) 1988-12-06

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60245532A (ja) * 1984-05-22 1985-12-05 Shinwa Tec Kk プラスチツク射出成形機用クリ−ンブ−ス
JPS60245522A (ja) * 1984-05-22 1985-12-05 Shinwa Tec Kk プラスチツク射出成形機用クリ−ンブ−ス
JP2005199047A (ja) * 2003-12-05 2005-07-28 General Electric Co <Ge> 冷却剤冷却式のrf体幹用コイル

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JPS6363112B2 (ja) 1988-12-06

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