JPH05343017A - 試料像の移動制御装置 - Google Patents
試料像の移動制御装置Info
- Publication number
- JPH05343017A JPH05343017A JP4171799A JP17179992A JPH05343017A JP H05343017 A JPH05343017 A JP H05343017A JP 4171799 A JP4171799 A JP 4171799A JP 17179992 A JP17179992 A JP 17179992A JP H05343017 A JPH05343017 A JP H05343017A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- sample
- sample image
- straight line
- detector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ステージ移動時の試料像のブレをなくし、表
示器上に表示される試料像の動きを自然にする。 【構成】 水平・垂直走査偏向器3,4を有し、これら
の偏向器3,4に制御信号を入力して電子ビームを試料
7面上に2次元的に走査する電子光学系と、電子ビーム
の走査によって試料7から得られる信号から試料像を表
示するCRT12と、試料7を載せるステージ8の位置
座標を検出するステージ座標検出器14と、ステージ7
が2点間を移動する際ステージ7が2点間を結ぶ直線か
らずれたとき、ステージ座標検出器14からの位置座標
信号に基づいて、電子ビームの移動方向及び移動量を制
御する信号を水平・垂直走査偏向器3,4に入力してス
テージ8が直線に沿って移動したときと等価な試料像を
CRT12に表示させる中央制御回路10とを備えてい
る。
示器上に表示される試料像の動きを自然にする。 【構成】 水平・垂直走査偏向器3,4を有し、これら
の偏向器3,4に制御信号を入力して電子ビームを試料
7面上に2次元的に走査する電子光学系と、電子ビーム
の走査によって試料7から得られる信号から試料像を表
示するCRT12と、試料7を載せるステージ8の位置
座標を検出するステージ座標検出器14と、ステージ7
が2点間を移動する際ステージ7が2点間を結ぶ直線か
らずれたとき、ステージ座標検出器14からの位置座標
信号に基づいて、電子ビームの移動方向及び移動量を制
御する信号を水平・垂直走査偏向器3,4に入力してス
テージ8が直線に沿って移動したときと等価な試料像を
CRT12に表示させる中央制御回路10とを備えてい
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、試料像の移動制御装
置に関し、例えば走査型電子顕微鏡の試料像のブレの調
整に好適な試料像の移動制御装置に関する。
置に関し、例えば走査型電子顕微鏡の試料像のブレの調
整に好適な試料像の移動制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】走査型電子顕微鏡において、電子銃から
放射された電子は、アパーチャを通り抜けると水平走査
偏向器及び垂直走査偏向器で水平及び垂直方向に偏向さ
れ、更に対物レンズで収束されて試料面上に照射され
る。そして、観察用のCRTの電子ビームは水平・垂直
走査偏向器による偏向に同期して走査され、ディテクタ
からの2次電子信号が増幅されて画像信号となり、CR
Tに送られる。CRTは試料面上の電子ビーム走査と同
期した鋸歯状波信号で水平・垂直方向に掃引されてお
り、画像信号で輝度変調をかけることにより試料像がC
RT画面上に拡大表示される。
放射された電子は、アパーチャを通り抜けると水平走査
偏向器及び垂直走査偏向器で水平及び垂直方向に偏向さ
れ、更に対物レンズで収束されて試料面上に照射され
る。そして、観察用のCRTの電子ビームは水平・垂直
走査偏向器による偏向に同期して走査され、ディテクタ
からの2次電子信号が増幅されて画像信号となり、CR
Tに送られる。CRTは試料面上の電子ビーム走査と同
期した鋸歯状波信号で水平・垂直方向に掃引されてお
り、画像信号で輝度変調をかけることにより試料像がC
RT画面上に拡大表示される。
【0003】
【発明が解決しようとするとする課題】ところで、試料
を載せたステージが2点間を移動する場合、CRTに表
示される試料像はステージの動いた軌跡に沿って移動す
るが、必ずしも常にその2点を結ぶ直線に沿って移動す
るわけではない。例えば、ステージが1μm以下の分解
能で移動できないとすると、ステージをX方向に10m
m、Y方向に10μm移動させる場合には、X方向に1
0mm移動する間に、Y方向への1μmの移動が10回
行なわれることになる。したがって、観察倍率が高いと
きには、Y方向への1μmの移動が行なわれる毎に、C
RTに表示される試料像は急激に変化するので、CRT
の画面がブレたように見えるという問題があった。
を載せたステージが2点間を移動する場合、CRTに表
示される試料像はステージの動いた軌跡に沿って移動す
るが、必ずしも常にその2点を結ぶ直線に沿って移動す
るわけではない。例えば、ステージが1μm以下の分解
能で移動できないとすると、ステージをX方向に10m
m、Y方向に10μm移動させる場合には、X方向に1
0mm移動する間に、Y方向への1μmの移動が10回
行なわれることになる。したがって、観察倍率が高いと
きには、Y方向への1μmの移動が行なわれる毎に、C
RTに表示される試料像は急激に変化するので、CRT
の画面がブレたように見えるという問題があった。
【0004】この発明はこのような事情に鑑みてなされ
たもので、その課題はステージ移動時の試料像のブレを
なくし、表示器上に表示される試料像の動きを自然にす
ることができる試料像の移動制御装置を提供することで
ある。
たもので、その課題はステージ移動時の試料像のブレを
なくし、表示器上に表示される試料像の動きを自然にす
ることができる試料像の移動制御装置を提供することで
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めこの発明の試料像の移動制御装置は、エネルギービー
ムの偏向器を有し、この偏向器に制御信号を入力して前
記ビームを試料面上に2次元的に走査するビーム走査手
段と、前記エネルギービームの走査によって前記試料か
ら得られる信号から試料像を表示する表示手段と、前記
試料を載置するステージを有し、このステージの位置を
機械的に移動させるステージ手段と、前記ステージの位
置座標を検出するステージ座標検出手段と、前記ステー
ジが2点間を移動する際前記ステージが2点間を結ぶ直
線からずれたとき、前記ステージ座標検出手段からの位
置座標信号に基づいて、前記エネルギービームの移動方
向及び移動量を制御する信号を前記偏向器に入力して前
記ステージが前記直線に沿って移動したときと等価な試
料像を前記表示手段に表示させる偏向器制御手段とを備
えている。
めこの発明の試料像の移動制御装置は、エネルギービー
ムの偏向器を有し、この偏向器に制御信号を入力して前
記ビームを試料面上に2次元的に走査するビーム走査手
段と、前記エネルギービームの走査によって前記試料か
ら得られる信号から試料像を表示する表示手段と、前記
試料を載置するステージを有し、このステージの位置を
機械的に移動させるステージ手段と、前記ステージの位
置座標を検出するステージ座標検出手段と、前記ステー
ジが2点間を移動する際前記ステージが2点間を結ぶ直
線からずれたとき、前記ステージ座標検出手段からの位
置座標信号に基づいて、前記エネルギービームの移動方
向及び移動量を制御する信号を前記偏向器に入力して前
記ステージが前記直線に沿って移動したときと等価な試
料像を前記表示手段に表示させる偏向器制御手段とを備
えている。
【0006】
【作用】試料を載せたステージが2点間を移動する際そ
のステージがその2点を結ぶ直線から外れて移動したと
き、偏向器制御手段はステージ座標検出手段からの位置
座標信号に基づいて、エネルギービームの移動方向及び
移動量を制御する信号を偏向器に入力して、前記ステー
ジが前記直線に沿って移動したときと等価な試料像を表
示手段に表示させる。
のステージがその2点を結ぶ直線から外れて移動したと
き、偏向器制御手段はステージ座標検出手段からの位置
座標信号に基づいて、エネルギービームの移動方向及び
移動量を制御する信号を偏向器に入力して、前記ステー
ジが前記直線に沿って移動したときと等価な試料像を表
示手段に表示させる。
【0007】
【実施例】以下この発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【0008】図1は、この発明の一実施例に係る走査形
電子顕微鏡のブロック図である。
電子顕微鏡のブロック図である。
【0009】1次電子を放射する電子銃1の下方に1次
電子を絞るアパーチャ2が配置され、アパーチャ2の下
方に電子ビーム(エネルギービーム)を水平方向、垂直
方向に偏向する水平、垂直走査偏向器(偏向器)3,4
が配置されている。
電子を絞るアパーチャ2が配置され、アパーチャ2の下
方に電子ビーム(エネルギービーム)を水平方向、垂直
方向に偏向する水平、垂直走査偏向器(偏向器)3,4
が配置されている。
【0010】水平、垂直走査偏向器3,4の下方に対物
レンズ5が配置され、対物レンズ5の下方にステージ8
が配置され、ステージ8上には試料7が載せてある。
レンズ5が配置され、対物レンズ5の下方にステージ8
が配置され、ステージ8上には試料7が載せてある。
【0011】ステージ8の斜め上方には試料7から放射
される2次電子を補捉するディテクタ6が配置され、こ
のディテクタ6は画像信号増幅回路11を介してCRT
(表示手段)12に接続されている。
される2次電子を補捉するディテクタ6が配置され、こ
のディテクタ6は画像信号増幅回路11を介してCRT
(表示手段)12に接続されている。
【0012】ステージ8にはステージ制御回路13が接
続され、このステージ制御回路13からの制御信号によ
りステージ8の動きが制御される。また、ステージ8に
はステージ座標検出器(ステージ座標検出手段)14が
接続され、このステージ座標検出器14はステージ8が
駆動中であるか否かにかかわらずステージ座標信号を中
央制御回路(偏向器制御手段)10に出力する。この中
央制御回路10は電子光学系制御回路9に接続され、こ
の電子光学系制御回路9は電子光学系(ビーム走査手
段)を構成する電子銃1、水平、垂直走査偏向器3,4
及び対物レンズ5を制御する。
続され、このステージ制御回路13からの制御信号によ
りステージ8の動きが制御される。また、ステージ8に
はステージ座標検出器(ステージ座標検出手段)14が
接続され、このステージ座標検出器14はステージ8が
駆動中であるか否かにかかわらずステージ座標信号を中
央制御回路(偏向器制御手段)10に出力する。この中
央制御回路10は電子光学系制御回路9に接続され、こ
の電子光学系制御回路9は電子光学系(ビーム走査手
段)を構成する電子銃1、水平、垂直走査偏向器3,4
及び対物レンズ5を制御する。
【0013】電子銃1から放射され、アパーチャ2を通
り抜けた電子ビームは、水平、垂直走査偏向器3,4で
水平、垂直方向に偏向された後、対物レンズ5で収束さ
れて試料7に当たる。電子ビームが試料7に当たって発
生する2次電子又は反射電子は、ディテクタ6に入って
電気信号に変換され、画像信号増幅回路11で増幅され
てCRT12に送られる。CRT12は試料面上の電子
ビームの走査と同期した鋸歯状波信号で水平、垂直方向
に掃引されており、画像信号増幅回路11から入力され
る画像信号で輝度変調をかけることによりCRT12上
に試料像を形成する。ここにいう同期には、図示しない
フレームメモリの読出し走査とCRT12側の電子ビー
ムの走査とを同期させるような場合も含む。
り抜けた電子ビームは、水平、垂直走査偏向器3,4で
水平、垂直方向に偏向された後、対物レンズ5で収束さ
れて試料7に当たる。電子ビームが試料7に当たって発
生する2次電子又は反射電子は、ディテクタ6に入って
電気信号に変換され、画像信号増幅回路11で増幅され
てCRT12に送られる。CRT12は試料面上の電子
ビームの走査と同期した鋸歯状波信号で水平、垂直方向
に掃引されており、画像信号増幅回路11から入力され
る画像信号で輝度変調をかけることによりCRT12上
に試料像を形成する。ここにいう同期には、図示しない
フレームメモリの読出し走査とCRT12側の電子ビー
ムの走査とを同期させるような場合も含む。
【0014】また、ステージ8はオペレータが指示する
座標へ移動させることができる。オペレータが指示した
座標はステージ制御回路13に送出され、ステージ制御
回路13によりステージ8の動きが制御されて指示した
座標にステージ8が移動する。ステージ座標は、ステー
ジ8が駆動中であるか否かにかかわらずステージ座標検
出器14から中央制御回路10に入力されている。
座標へ移動させることができる。オペレータが指示した
座標はステージ制御回路13に送出され、ステージ制御
回路13によりステージ8の動きが制御されて指示した
座標にステージ8が移動する。ステージ座標は、ステー
ジ8が駆動中であるか否かにかかわらずステージ座標検
出器14から中央制御回路10に入力されている。
【0015】ステージ8が図2(a)〜(c)に示す座
標P1(X1,Y1)から座標P2(X2,Y2)へ移
動する場合、実際にはステージ8はP1とP2とを結ぶ
直線(図2の破線)上を移動せず、例えば図2の実線の
ような軌跡を描く。そのため図2の円で囲んだ部分で
は、CRT12上の試料像がブレて見えてしまうのであ
るが、次のようにしてCRT12上の試料像がブレて見
えないようにした。
標P1(X1,Y1)から座標P2(X2,Y2)へ移
動する場合、実際にはステージ8はP1とP2とを結ぶ
直線(図2の破線)上を移動せず、例えば図2の実線の
ような軌跡を描く。そのため図2の円で囲んだ部分で
は、CRT12上の試料像がブレて見えてしまうのであ
るが、次のようにしてCRT12上の試料像がブレて見
えないようにした。
【0016】座標P1(X1,Y1)と座標P2(X
2,Y2)とを結ぶ直線上をステージ8が移動すると仮
定すると、移動途中の任意のステージ座標PSt(X,
Y)は、計算上
2,Y2)とを結ぶ直線上をステージ8が移動すると仮
定すると、移動途中の任意のステージ座標PSt(X,
Y)は、計算上
【0017】
【数1】 但し、
【0018】
【数2】 の条件を満す位置にある。ステージ8が移動している
間、中央制御回路10は、リアルタイムでステージ座標
検出器14の出力を読み取り、電子光学系制御回路9を
介して水平、垂直走査偏向器3,4を制御する。
間、中央制御回路10は、リアルタイムでステージ座標
検出器14の出力を読み取り、電子光学系制御回路9を
介して水平、垂直走査偏向器3,4を制御する。
【0019】水平、垂直走査偏向器3,4の制御につい
て、図3に示すフローチャートを参照して説明する。
て、図3に示すフローチャートを参照して説明する。
【0020】第1に、ステージ座標PSt(Xt,
Yt)を読む(ステップ1)。
Yt)を読む(ステップ1)。
【0021】第2に、PSt(Xt,Yt)から、座標
P1,P2を結ぶ直線Y=A1・X+B1に垂線を引
き、その交点をP0t(Xt0,Yt0)とする(ステ
ップ2)。
P1,P2を結ぶ直線Y=A1・X+B1に垂線を引
き、その交点をP0t(Xt0,Yt0)とする(ステ
ップ2)。
【0022】第3に、CRT12の中心にP0tを表示
するために、水平、垂直走査偏向器3,4による偏向が
行なわれていない場合に比べステージ8上で電子ビーム
が移動しなければならない距離△t、△tのX方向・Y
方向成分△Xt△Yt、移動方向θtを演算する(ステ
ップ3)。
するために、水平、垂直走査偏向器3,4による偏向が
行なわれていない場合に比べステージ8上で電子ビーム
が移動しなければならない距離△t、△tのX方向・Y
方向成分△Xt△Yt、移動方向θtを演算する(ステ
ップ3)。
【0023】
【数3】 第4に、水平、垂直走査偏向器3,4で電子ビームを移
動できる最大距離を△maxとし、△t>△maxの場
合は△t=△maxとする。(ステップ4)。
動できる最大距離を△maxとし、△t>△maxの場
合は△t=△maxとする。(ステップ4)。
【0024】最後に、ステージ8で上記△t、θtの移
動が行なわれるように水平、垂直偏向器3,4を制御す
る(ステップ5)。
動が行なわれるように水平、垂直偏向器3,4を制御す
る(ステップ5)。
【0025】以上のように水平、垂直走査偏向器3,4
を制御することにより、ステージ8が2点間を移動する
場合、ステージ8が2点を結ぶ直線(図2(a)〜
(c)の破線)から外れた位置を通って移動しても、あ
たかも2点間の直線上を移動したように試料像をCRT
12に表示することができ、またステージ8が2点間を
結ぶ直線から大幅に外れた位置を通って移動し、しかも
電子ビームの移動限界を超えてしまったとしても、ステ
ージ8が前記直線にできる限り近い箇所を通って移動し
たように試料像をCRT12上に表示することができ
る。いずれのケースも、ステージ8の移動に伴うCRT
12上に表示される試料像の動きがより自然な状態に見
えるようになる。
を制御することにより、ステージ8が2点間を移動する
場合、ステージ8が2点を結ぶ直線(図2(a)〜
(c)の破線)から外れた位置を通って移動しても、あ
たかも2点間の直線上を移動したように試料像をCRT
12に表示することができ、またステージ8が2点間を
結ぶ直線から大幅に外れた位置を通って移動し、しかも
電子ビームの移動限界を超えてしまったとしても、ステ
ージ8が前記直線にできる限り近い箇所を通って移動し
たように試料像をCRT12上に表示することができ
る。いずれのケースも、ステージ8の移動に伴うCRT
12上に表示される試料像の動きがより自然な状態に見
えるようになる。
【0026】なお、この実施例では本願発明を走査型電
子顕微鏡に適用した場合について述べたが、本願発明は
これに限定されず、走査型測長機やレーザ顕微鏡などに
適用することもできる。また、エネルギービームとして
は、電子ビームやイオンビームなどの荷電粒子線の他に
レーザビームなども含まれる。
子顕微鏡に適用した場合について述べたが、本願発明は
これに限定されず、走査型測長機やレーザ顕微鏡などに
適用することもできる。また、エネルギービームとして
は、電子ビームやイオンビームなどの荷電粒子線の他に
レーザビームなども含まれる。
【0027】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明の試料像の
移動制御装置によれば、試料を載せたステージが2点間
を移動する場合そのステージが2点間を結ぶ直線からず
れて移動したとき、そのズレを補正してステージが直線
に沿って移動したかのように試料像を表示手段に表示さ
せることができるので、試料像の動きがより自然な状態
に見えるようになる。
移動制御装置によれば、試料を載せたステージが2点間
を移動する場合そのステージが2点間を結ぶ直線からず
れて移動したとき、そのズレを補正してステージが直線
に沿って移動したかのように試料像を表示手段に表示さ
せることができるので、試料像の動きがより自然な状態
に見えるようになる。
【図1】図1はこの発明の一実施例に係る走査型電子顕
微鏡を示すブロック図である。
微鏡を示すブロック図である。
【図2】図2はステージを移動させたときにCRTに表
示されるステージの動きを示す図である。
示されるステージの動きを示す図である。
【図3】図3は水平、垂直走査偏向器の制御に関するフ
ローチャートである。。
ローチャートである。。
1 電子銃 3 水平走査偏向器 4 垂直走査偏向器 5 対物レンズ 7 試料 8 ステージ 9 電子光学系制御回路 10 中央制御回路 12 CRT 14 ステージ座標検出器
Claims (1)
- 【請求項1】 エネルギービームの偏向器を有し、この
偏向器に制御信号を入力して前記ビームを試料面上に2
次元的に走査するビーム走査手段と、 前記エネルギービームの走査によって前記試料から得ら
れる信号から試料像を表示する表示手段と、 前記試料を載置するステージを有し、このステージの位
置を機械的に移動させるステージ手段と、 前記ステージの位置座標を検出するステージ座標検出手
段と、 前記ステージが2点間を移動する際前記ステージが2点
間を結ぶ直線からずれたとき、前記ステージ座標検出手
段からの位置座標信号に基づいて、前記エネルギービー
ムの移動方向及び移動量を制御する信号を前記偏向器に
入力して前記ステージが前記直線に沿って移動したとき
と等価な試料像を前記表示手段に表示させる偏向器制御
手段と、 を備えていることを特徴とする試料像の移動制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4171799A JPH05343017A (ja) | 1992-06-05 | 1992-06-05 | 試料像の移動制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4171799A JPH05343017A (ja) | 1992-06-05 | 1992-06-05 | 試料像の移動制御装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05343017A true JPH05343017A (ja) | 1993-12-24 |
Family
ID=15929925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4171799A Withdrawn JPH05343017A (ja) | 1992-06-05 | 1992-06-05 | 試料像の移動制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05343017A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008130361A (ja) * | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の撮像方法 |
JP2009181923A (ja) * | 2008-02-01 | 2009-08-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
US9586262B2 (en) | 2009-07-17 | 2017-03-07 | Boston Electronic Materials Llc | Manufacturing and applications of metal powders and alloys |
-
1992
- 1992-06-05 JP JP4171799A patent/JPH05343017A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008130361A (ja) * | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の撮像方法 |
JP2009181923A (ja) * | 2008-02-01 | 2009-08-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
US9586262B2 (en) | 2009-07-17 | 2017-03-07 | Boston Electronic Materials Llc | Manufacturing and applications of metal powders and alloys |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6184526B1 (en) | Apparatus and method for inspecting predetermined region on surface of specimen using electron beam | |
US6518582B1 (en) | Electron beam apparatus, and inspection instrument and inspection process thereof | |
JP2001273861A (ja) | 荷電ビーム装置およびパターン傾斜観察方法 | |
JP2001235438A (ja) | 像観察方法および走査電子顕微鏡 | |
JPH11345585A (ja) | 電子ビームによる検査装置および検査方法 | |
JPH05343017A (ja) | 試料像の移動制御装置 | |
EP1739713A2 (en) | Charged particle beam instrument and method of detecting information from specimen using charged particle beam | |
JPH0729539A (ja) | 集束イオンビーム装置 | |
JP3499690B2 (ja) | 荷電粒子顕微鏡 | |
JP4256300B2 (ja) | 基板検査方法および基板検査装置 | |
CN115668431A (zh) | 用于聚焦和操作粒子束显微镜的方法 | |
JPH1050245A (ja) | 荷電粒子ビーム装置における焦点合わせ方法 | |
JPH1167134A (ja) | 検査装置 | |
JP2001006591A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP2002015691A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP2775812B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2787299B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2870894B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP3125297B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP4792074B2 (ja) | 基板検査方法および基板検査装置 | |
JP2838799B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP3202857B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置における焦点合わせ方法および装置 | |
JPS6324617Y2 (ja) | ||
JP3168032B2 (ja) | 電子ビーム露光装置及び描画パターンを検査する方法 | |
JPH0973871A (ja) | 走査電子顕微鏡 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990831 |