JPS6363112B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6363112B2
JPS6363112B2 JP21249882A JP21249882A JPS6363112B2 JP S6363112 B2 JPS6363112 B2 JP S6363112B2 JP 21249882 A JP21249882 A JP 21249882A JP 21249882 A JP21249882 A JP 21249882A JP S6363112 B2 JPS6363112 B2 JP S6363112B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
pulse
signal
electron beam
ray tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP21249882A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59103261A (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP21249882A priority Critical patent/JPS59103261A/ja
Publication of JPS59103261A publication Critical patent/JPS59103261A/ja
Publication of JPS6363112B2 publication Critical patent/JPS6363112B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/252Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
    • H01J37/256Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers using scanning beams

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は試料上に電子線を照射して試料像を得
る装置に関し、特に電子線の照射位置の走査を試
料を移動させることによつて行う電子線装置に関
する。
例えばX線マイクロアナライザーを用いて試料
の極めて広い部分の像(極低倍像)を電子線の走
査によつて得ようとすると、電子線の照射位置と
検出器の距離が大幅に変化するため歪の無い像を
得ることはできない。そこでこのような極低倍像
を歪無く得るために、電子線ではなく試料の方を
機械的に移動させて電子線の試料上における照射
位置を二次元的に走査するようにした装置が開発
され使用されている。即ち、この装置は試料をX
方向に往復移動させるためのパルスモータと、該
方向と直交するY方向に試料を移動させるための
パルスモータとを有し、これらパルスモータにパ
ルスを供給して試料をX方向に沿つて往復移動さ
せると共にY方向に沿つて試料を移動させるよう
にし、この試料の移動に同期して陰極線管を走査
し、この陰極線管に試料より得られた信号を供給
して試料像を得ている。ところが、X方向の試料
の移動は、像を短時間で得ようとすると、かなり
の速度で行わなければならないが、一方試料の移
動には移動方向の逆転が伴うため、この逆転の前
後で移動速度を落さないと大きな衝撃を生じる。
従つてこの種の従来装置においては、試料をX方
向に移動させるためのパルスモータに供給するパ
ルスの時間間隔を変化させて、第1図に示すよう
に試料の移動の開始時や移動方向の逆転時の前後
においては試料の移動速度を落すようにしてい
る。但し、第1図において、横軸は時間を示して
おり、縦軸は各時間における試料の移動速度を示
している。その結果移動方向の逆転の前後(即
ち、X方向走査像の両端部の近傍)においては電
子線は他の部分に比較して試料上の同一個所によ
り長い時間停留する。一方試料から検出されるX
線カウント数は時間に比例するため、停留時間に
比例して見かけ上大きな信号が得られることにな
る。従つて得られた像は、第2図に示すように像
の両端部A,Bが他の部分より信号密度が高い像
となつてしまう。
従来においては、このような事態に対して何等
対策を施さないか、端部の部分は陰極線管に表示
しないでカツトしてしまうか、あるいは検出信号
を大規模なメモリーに格納した後、演算処理を施
して信号を停留時間で除して正規化し、補正する
等が行われていたが、第2の対策は観察できる視
野が小さくなる大きな欠点を有している。又第3
の対策は信号処理に高価なコンピユータを必要と
するばかりでなく、リアルタイムで像を見ること
はできない。
本発明はこのような従来の欠点を解決し、試料
の移動速度の非一様性に起因する悪影響を除き、
リアルタイムで良質な試料像を観察することので
きる構造の簡単な装置を提供することを目的とし
て成されたもので、細く絞られた電子線を試料上
に照射する手段と、該電子線を試料上においては
二次元的に走査するため試料をX方向に往復移動
させるためのパルスモータ及び該方向と直交する
Y方向に移動させるためのモータと、該X方向の
移動に伴う試料の移動方向の逆転を小さな加速度
で行うためパルス発生間隔の変化するパルスを発
生して前記パルスモータに供給するパルス発生回
路と、該パルス発生回路よりのパルス信号の供給
に基づく試料の移動に同期して走査される陰極線
管とを備えた装置において、前記パルス発生回路
からのパルス信号に基づいて該パルスの時間間隔
が最小値τより長い場合にはその際のパルス間隔
からτを差し引いたパルス幅を有するパルスを発
生する制御回路を具備し、該制御回路よりの信号
に基づいて前記試料に照射される電子線又は前記
陰極線管をブランキングするようにしたことを特
徴としている。
以下図面に基づき本発明の一実施例を詳述す
る。
本発明の一実施例を示す第3図において、1は
電子銃であり、この電子銃よりの電子線EBは収
束レンズ2によつて収束された後、対物レンズ3
によつて細く絞られた後、試料4に照射される。
試料4は試料ステージ5の上に載置されており、
この試料ステージ5はX方向移動用のパルスモー
タ6X及びY方向移動用のパルスモータ6Yによ
つて各々X方向及びY方向に沿つて移動できるよ
うになつている。7はアパーチヤ板であり、この
アパーチヤ板7はその上部に配置された偏向電極
8によつて電子線が偏向された際に電子線を遮断
して試料に到達するのを阻止するためのものであ
る。9は試料4を第1図に示すような速度でX方
向に沿つて移動させるため、第4図aに示す如き
パルス間隔が最小値τとそれより長い値との間で
変化するパルスを発生させるパルス発生回路であ
る。但し、第4図aは、X方向の一回の走査に対
応する期間のパルスのみを示している。この回路
9よりの信号はパルスモータ駆動信号発生回路1
0Xに供給されていると共にX方向走査信号発生
回路13Xにも供給されている。パルスモータ駆
動信号発生回路10Xは、回路9よりのパルス信
号に基づいてパルスモータ6Xを回転させる為の
信号を発生させ、この信号を増幅器15Xを介し
て前記パルスモータ6Xに供給する。又、X方向
走査信号発生回路13Xは回路9よりのパルス信
号に基づいて第5図に示すような走査信号を発生
し、陰極線管14のX方向偏向コイルXに供給す
る。この図において、Hで示された期間はX方向
の一走査期間に対応している。この走査信号は、
パルスが回路9より供給される毎に信号値を一定
レベルずつステツプアツプ(正の向きの走査)ま
たはステツプダウン(負の向きの走査)させるこ
とによつて得られる。従つて試料4は第1図に示
すような速度で移動すると共に陰極線管14はこ
の試料のX方向の移動に同期して走査される。1
6はY方向走査を行うためX方向走査の方向が逆
転するときに同期してパルス信号を発生する発振
器であり、この発振器16よりの信号はパルスモ
ータ駆動信号発生回路10Yに供給されると共に
Y方向走査信号発生回路13Yに供給される。パ
ルスモータ駆動信号発生回路10Yに供給され
る。パルスモータ駆動信号発生回路10Yよりの
信号は増幅器15Yを介して前記パルスモータ6
Yに供給されると共に、Y方向走査信号発生回路
13Yの走査信号も陰極線管14のY方向偏向コ
イルYに供給されるため、試料4及び陰極線管1
4はY方向にも同期走査される。更に前記パルス
発生回路9よりの信号は、制御信号発生回路11
にも供給されている。制御信号発生回路11はパ
ルス発生回路9よりの信号に基づいて、回路9よ
りのパルス信号の間隔がτよりも長くなつた場合
に、その際のパルス間隔からτを差し引いた時間
幅を有する第4図bに示すようなパルス信号を発
生する。この制御信号発生回路11の出力信号は
増幅器12を介して前記偏向板8に供給される。
又、17はX線検出器であり、このX線検出器1
7よりの検出パルス信号は増幅器18を介して信
号処理回路19に供給されている。この処理回路
19はパルスを一定の形状に整えるためのもの
で、この回路19よりの信号は増幅器20を介し
て陰極線管14のグリツドGに供給される。2
1,22は増幅器である。
このような構成において、パルス発生回路9よ
りの第4図aに示す如きパルス信号と前述した発
振器16よりのパルスを各々パルスモータ駆動信
号発生回路10X,10Yに供給すると共に、第
5図に示す如き走査信号と、発振器16の出力パ
ルスに基づいてY方向走査信号発生回路13Yに
おいて作成される一様な勾配の走査信号を陰極線
管14に供給すれば、試料4は第1図に示すよう
に移動すると共に、この試料4の移動に同期して
陰極線管14は走査される。そこで検出器17に
よつて検出され処理回路19によつて処理された
信号を陰極線管14に導入すれば、陰極線管には
試料像が得られるが、この際、パルス発生回路9
よりの信号に基づいて作成された第4図bに示す
如き信号が、制御信号発生回路11より電極8に
供給されるため、試料の移動の開始あるいは移動
方向の逆転近傍時に試料の同一点にτ時間以上電
子線が停留する場合には、電子線EBはτ経過し
た瞬間から偏向電極8により偏向され、アパーチ
ヤ板7によつて遮ぎられてしまうため、電子線は
どの点にもτだけしか照射されないことになる。
従つて、試料の移動速度が変化するにもかかわら
ず、陰極線管14にはこの変化に基づく見かけ上
の信号量の増加の影響を除いた像を得ることがで
きる。
尚、本発明は上述した実施例に限定されること
なく幾多の変形が可能である。例えば、上述した
実施例においては、試料に照射される電子線EB
を制御回路11よりの信号により偏向して試料に
到達しないようにしたが、制御回路11よりの信
号に基づいて陰極線管14のグリツトG又はカソ
ードを制御し、試料上の一点にτ時間電子線が照
射された後は、照射点が次の点に移るまで陰極線
管14がブランキングされるようにしても良い。
【図面の簡単な説明】
第1図は試料が速度を変化させつつ移動する様
子を説明するための図、第2図は従来における陰
極線管の表示像を例示するための図、第3図は本
発明の一実施例の概略図、第4図は第3図に示し
た一実施例装置の各回路よりの出力信号を示すた
めの図、第5図は陰極線管に供給されるX方向の
走査信号を説明するための図である。 1:電子銃、2:集束レンズ、3:対物レン
ズ、4:試料、5:試料ステージ、6X,6Y:
パルスモータ、7:アパーチヤ板、8:偏向電
極、9:パルス発生回路、10X,10Y:パル
スモータ駆動信号発生回路、11:制御回路、1
3X,13Y:走査信号発生回路、14:陰極線
管、16:発振器、17:検出器、19:信号処
理回路。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 細く絞られた電子線を試料上に照射する手段
    と、該電子線を試料上において二次元的に走査す
    るため試料をX方向に往復移動させるためのパル
    スモータ及び該方向と直交するY方向に移動させ
    るためのモータと、該X方向の移動に伴う試料の
    移動方向の逆転を小さな加速度で行うためパルス
    発生間隔の変化するパルスを発生して前期パルス
    モータに供給するパルス発生回路と、該パルス発
    生回路よりのパルス信号の供給に基づく試料の移
    動に同期して走査される陰極線管とを備えた装置
    において、前期パルス発生回路からのパルス信号
    に基づいて該パルスの時間間隔が最小値τより長
    い場合にはその際のパルス間隔からτを差し引い
    たパルス幅を有するパルスを発生する制御回路を
    具備し、該制御回路よりの信号に基づいて前期試
    料に照射される電子線又は前期陰極線管をブラン
    キングするようにしたことを特徴とする電子線装
    置。
JP21249882A 1982-12-03 1982-12-03 電子線装置 Granted JPS59103261A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21249882A JPS59103261A (ja) 1982-12-03 1982-12-03 電子線装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21249882A JPS59103261A (ja) 1982-12-03 1982-12-03 電子線装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59103261A JPS59103261A (ja) 1984-06-14
JPS6363112B2 true JPS6363112B2 (ja) 1988-12-06

Family

ID=16623653

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21249882A Granted JPS59103261A (ja) 1982-12-03 1982-12-03 電子線装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59103261A (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60245532A (ja) * 1984-05-22 1985-12-05 Shinwa Tec Kk プラスチツク射出成形機用クリ−ンブ−ス
JPS60245522A (ja) * 1984-05-22 1985-12-05 Shinwa Tec Kk プラスチツク射出成形機用クリ−ンブ−ス
US6812705B1 (en) * 2003-12-05 2004-11-02 General Electric Company Coolant cooled RF body coil

Also Published As

Publication number Publication date
JPS59103261A (ja) 1984-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7817105B2 (en) Image forming method and charged particle beam apparatus
US4091374A (en) Method for pictorially displaying output information generated by an object imaging apparatus
US20220084783A1 (en) Charged Particle Beam Device
US4020343A (en) Scanning electron device
JPS6363112B2 (ja)
JP2001210263A (ja) 走査電子顕微鏡、そのダイナミックフォーカス制御方法および半導体デバイスの表面および断面形状の把握方法
JP2000357481A (ja) 走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法
US4160162A (en) Method for the pictorial display of a diffraction image in a transmission-type, scanning, corpuscular-beam microscope
JPH09306407A (ja) 走査電子顕微鏡
JPS631700B2 (ja)
JP2824340B2 (ja) 断面加工観察方法
JP2017199453A (ja) 荷電粒子線装置
JPH06103950A (ja) 走査電子顕微鏡における立体像取得方法
JPS59171445A (ja) 立体走査型電子顕微鏡
US20230343550A1 (en) Charged Particle Beam System and Control Method Therefor
JPH09198498A (ja) 映像信号処理方法および装置
JP2970113B2 (ja) パターン検査装置
JP2775812B2 (ja) 荷電粒子線装置
JPH0221549A (ja) 走査電子顕微鏡
JPS63150842A (ja) 走査電子顕微鏡
JP3790629B2 (ja) 走査型荷電粒子ビーム装置及び走査型荷電粒子ビーム装置の動作方法
JPH0765772A (ja) イオンビーム加工装置
JP2851394B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JPH0228601Y2 (ja)
JPH05343017A (ja) 試料像の移動制御装置