JPS59101644A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
- Publication number
- JPS59101644A JPS59101644A JP57211006A JP21100682A JPS59101644A JP S59101644 A JPS59101644 A JP S59101644A JP 57211006 A JP57211006 A JP 57211006A JP 21100682 A JP21100682 A JP 21100682A JP S59101644 A JPS59101644 A JP S59101644A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- copolymer
- acid
- group
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F12/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
- C08F12/26—Nitrogen
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規の感光性ジアゾニウム塩を有する高分子
化合物に関する。さらに詳しくは、平版印刷版等の印刷
版およびプリント配線基板などの製造に用いる感光性ジ
アゾニウム塩を有する高分子化合物に関する。
化合物に関する。さらに詳しくは、平版印刷版等の印刷
版およびプリント配線基板などの製造に用いる感光性ジ
アゾニウム塩を有する高分子化合物に関する。
従来エク感光性顎η材料にホルムアルデヒドとｐ−ジア
ゾジフェニルアミンとの縮付物（ジアゾ樹脂］を用いる
ことが知られている。Ｃの工うな多官能性ジアゾ樹脂の
製造に、米国特許第一２６７２弘りを号、同３ｏｚｏｚ
ｏ、２−＠、同３．３／１４０ｊ号、同ＪＩＡＪ４３Ｊ
号、同３４ＡＯ６ｌｊり号お工び同３２７７０７弘号の
１ｕｌｌ書に記載されている。さらに保存安定性を改善
するために、水溶性ジアゾ樹脂とたとえば酸性芳香族化
合物などのカップリング剤とを反応させて、水不溶性か
つ、親油性の樹脂にして使用する方法か、特公昭ｔ７−
／１４７号、米国特許第３，３００，３０２号ＢＡ細壱
に記載されている。
ゾジフェニルアミンとの縮付物（ジアゾ樹脂］を用いる
ことが知られている。Ｃの工うな多官能性ジアゾ樹脂の
製造に、米国特許第一２６７２弘りを号、同３ｏｚｏｚ
ｏ、２−＠、同３．３／１４０ｊ号、同ＪＩＡＪ４３Ｊ
号、同３４ＡＯ６ｌｊり号お工び同３２７７０７弘号の
１ｕｌｌ書に記載されている。さらに保存安定性を改善
するために、水溶性ジアゾ樹脂とたとえば酸性芳香族化
合物などのカップリング剤とを反応させて、水不溶性か
つ、親油性の樹脂にして使用する方法か、特公昭ｔ７−
／１４７号、米国特許第３，３００，３０２号ＢＡ細壱
に記載されている。
しかしながら、この種のジアゾ樹脂は、ジアゾニウム基
の対イオンとしてハロゲン化水素酸、リン酸等の無機イ
オンを用いた場−８−は勿論、ベンゼンスルホン酸、ト
ルエンスルホン酸等の酸［’８族化合物を用いても、グ
リニールエーテル、アルコール、ケトン等の有機溶媒へ
の溶解性が十分ではない。
の対イオンとしてハロゲン化水素酸、リン酸等の無機イ
オンを用いた場−８−は勿論、ベンゼンスルホン酸、ト
ルエンスルホン酸等の酸［’８族化合物を用いても、グ
リニールエーテル、アルコール、ケトン等の有機溶媒へ
の溶解性が十分ではない。
また、このようなジアゾ樹脂においては、一般に分子量
（重合度）を大きくすることにより、感度を高めること
が可能である。しかしながら、縮合反応において分子量
を制御することに、付成上容易ではないばかりか、分子
量を増大させることにニジ、上述した有＠浴媒への溶解
性力５著るしく低下し、解像力の低下をももたらす場合
がある。
（重合度）を大きくすることにより、感度を高めること
が可能である。しかしながら、縮合反応において分子量
を制御することに、付成上容易ではないばかりか、分子
量を増大させることにニジ、上述した有＠浴媒への溶解
性力５著るしく低下し、解像力の低下をももたらす場合
がある。
さらにｐ−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒド
との縮曾物は、≠λＯ〜ｓｏｏｎｍの可視領域にも吸収
を有し、この波長の光を吸収して分解するので、白灯下
での取９扱いが非常に困難であシ、これは、製造上およ
び使用上の重要な欠点となる。
との縮曾物は、≠λＯ〜ｓｏｏｎｍの可視領域にも吸収
を有し、この波長の光を吸収して分解するので、白灯下
での取９扱いが非常に困難であシ、これは、製造上およ
び使用上の重要な欠点となる。
このｐ−ジアゾジフェニルアミンエり得られるジアノ樹
脂とは別に、特開昭ｊグーｚｏｉ、ｚｉ号には、主鎖に
ポリエステル基を有するジアゾ化合物に関する記載があ
るが、その製造方法は、極めて特殊なもので汎用性が無
い。さらに父、主鎖のエステル基が開裂しやすいために
、物質の保存中および、支持体に塗布した後の保存中に
感度の低下をもたらし、製品の付加価値を著るしく低下
させるものである。
脂とは別に、特開昭ｊグーｚｏｉ、ｚｉ号には、主鎖に
ポリエステル基を有するジアゾ化合物に関する記載があ
るが、その製造方法は、極めて特殊なもので汎用性が無
い。さらに父、主鎖のエステル基が開裂しやすいために
、物質の保存中および、支持体に塗布した後の保存中に
感度の低下をもたらし、製品の付加価値を著るしく低下
させるものである。
本発明者は、既知のジアゾ樹脂が有する上記欠点を克服
するため詳細にかつ広範囲にわたって研死を行なった。
するため詳細にかつ広範囲にわたって研死を行なった。
その結果、感度か高く、白灯かぶシ防止の点で特長のあ
る、冶規のジアゾニウム塩含有高分子化付物を見い出し
た。
る、冶規のジアゾニウム塩含有高分子化付物を見い出し
た。
すなわち、本発明の目的に、以下の通夛である。
第１の目的は、適当な支持体上に領を作シうる感度の高
い白灯かぶりの小さい感光性組成物を提供することでる
る。
い白灯かぶりの小さい感光性組成物を提供することでる
る。
第一の目的は、より感度の高い、平版印刷版を提供する
ことである。
ことである。
第３の目的は、耐摩耗性が高く、耐刷性の高い平版印刷
版用感光性組成物を提供することである。
版用感光性組成物を提供することである。
これらの目的は、下記一般式（Ｉ）で示される繰り返し
単位を有する重合体又は共重合体を用いることにＬシ達
成されることを見い出した。
単位を有する重合体又は共重合体を用いることにＬシ達
成されることを見い出した。
（Ｉ）
−ｆ ＣＨ２−ＣＨ＋
上記一般式！１）において、Ｙは二価の置換基を表わす
。好ましくは＋Ａ ）、＋Ｂ ｉ Ｃ＋−、で表わされ
る二価の置換基を表わす。ここでＡＸＣは、同一であっ
ても異なっても工（、−０＋、 −ｓ ＋。
。好ましくは＋Ａ ）、＋Ｂ ｉ Ｃ＋−、で表わされ
る二価の置換基を表わす。ここでＡＸＣは、同一であっ
ても異なっても工（、−０＋、 −ｓ ＋。
一へ−（几は、水素原子、アルキル基、置換アルキル基
等の置換基を表わす。］を表わす。Ｂはアルキレン基、
置換アルキレン基、（置換基としてハ、水酸基、アルコ
キシ基が好ましい。］アラルキレン基または置換アラル
キレン基（ベンゼン環への置換基としては、ニトロ基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基が好捷しい。
等の置換基を表わす。］を表わす。Ｂはアルキレン基、
置換アルキレン基、（置換基としてハ、水酸基、アルコ
キシ基が好ましい。］アラルキレン基または置換アラル
キレン基（ベンゼン環への置換基としては、ニトロ基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基が好捷しい。
）を表わす。Ａ Ｘｍ、 ｎは、各々、０又Ｈ／ｆあル
ー１）Ｓ、ｌ。
ー１）Ｓ、ｌ。
ｎが同り寺にＱにはなシえない。
好ましくは、活性ハロゲンと、フェノール性水酸基とか
ら誘導されるエーテル結付を含むものである。
ら誘導されるエーテル結付を含むものである。
Ｚｌ、Ｚ２は各々−価の置換基を表わすが、より好まし
くは炭素数ｌ−乙のアルコキシ基、炭素数ノル乙のアル
キル基などである。
くは炭素数ｌ−乙のアルコキシ基、炭素数ノル乙のアル
キル基などである。
ｐｓ Ｑは各々Ｏ又は１〜ｔの整数を表わし、これら
か−以上の場合には、各々の置換基が同じでも異なって
もよい。
か−以上の場合には、各々の置換基が同じでも異なって
もよい。
Ｘｅはアニオンを表わす。工ｐ好ましくは特公昭≠７−
／／１，７号、同ｔター４ｔｊ３２２号、同弘ター≠１
００１号および米国特許第３２１り≠弘７号明細書に記
載のハロゲン化水素酸類、リン酸類、脂肪族又は芳香族
ホスホン酸類、フッ化ホウ素酸、ヘキサフロロリンなど
のハロゲン化ルイス酸類、過塩素酸などの過ハロゲン酸
類お工びメタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、メシ
チレンスルホン酸、スルホサリチル酸、ナフタレン−７
−スルホン酸、ｌ−ナフトール−λ−スルホン酸、−一
オキシーグーメトキシベンゾフェノン−！−スルホン酸
などの脂肪族又は芳香族スルホン酸類である。
／／１，７号、同ｔター４ｔｊ３２２号、同弘ター≠１
００１号および米国特許第３２１り≠弘７号明細書に記
載のハロゲン化水素酸類、リン酸類、脂肪族又は芳香族
ホスホン酸類、フッ化ホウ素酸、ヘキサフロロリンなど
のハロゲン化ルイス酸類、過塩素酸などの過ハロゲン酸
類お工びメタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、メシ
チレンスルホン酸、スルホサリチル酸、ナフタレン−７
−スルホン酸、ｌ−ナフトール−λ−スルホン酸、−一
オキシーグーメトキシベンゾフェノン−！−スルホン酸
などの脂肪族又は芳香族スルホン酸類である。
一般式（Ｉ）において、よシ好ましいものｆ’［Ｂが置
換アラルキレン基をあられし、Ｃが一〇−をあられし、
ｌ ＝ ０． ＠＝ ｎ ＝ ／のＬうな場合である
。またＹにフェニル基とＮＨ基の）々う位で結付してい
るのが好ましい。
換アラルキレン基をあられし、Ｃが一〇−をあられし、
ｌ ＝ ０． ＠＝ ｎ ＝ ／のＬうな場合である
。またＹにフェニル基とＮＨ基の）々う位で結付してい
るのが好ましい。
共重合に用いる七ツマ−の例としてに、アクリル酸、メ
タクリル酸、およびそれらのアルキルエステル（例えば
メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、ヒトミ
キシエチルアクリレート、プロピルアクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、λ−エチルへキシルアクリレ
ート、デシルアクリレート、β−シアンエチルアクリレ
ート、β−クロロエチルアクリレート、λ−エトキシエ
チルアクリレート、スルホプロピルメタクリレ−）７に
ト）、ビニールエステル類（例え１ｌｌＥ酸ヒール、プ
ロピオン酸ビニル、酪酸ビニルなど）、ビニルエーテル
Ｍ（例えばメチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、オレイルビニルエーテルなど）、ビニルケトン類（
例えばメチルビニルケトン、エチルビニルケトンナト）
、スチレン類（例えばスチレン、メチルスチレン、ジメ
チルスチレン、２，４Ａ、１ｒ−）！Ｊメチルスチレン
、エチルスチレン、ラウリルスチレン、クロロスチレン
、メトキシスチレン、シアノスチレン、クロロメチルス
チレン、ビニル安息香酸、スチレンスルホン酸、α−メ
チルスチレンなど）、ビニルへテロ壌化合物（例えばビ
ニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルイミダゾール
など）、アクリロニトリル、塩化ビニル、ビニリデンク
ロライド、エチレン、プロピレン、ブタジェン、ジイソ
ブチレン、インプレン、クロロプレンなどが挙げられる
。本発明に、以上の共重合性モノマーに限定するもので
はなく、上記一般式（Ｉ）の構造単位を有するならばい
かなる共重合体でもよい。
タクリル酸、およびそれらのアルキルエステル（例えば
メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、ヒトミ
キシエチルアクリレート、プロピルアクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、λ−エチルへキシルアクリレ
ート、デシルアクリレート、β−シアンエチルアクリレ
ート、β−クロロエチルアクリレート、λ−エトキシエ
チルアクリレート、スルホプロピルメタクリレ−）７に
ト）、ビニールエステル類（例え１ｌｌＥ酸ヒール、プ
ロピオン酸ビニル、酪酸ビニルなど）、ビニルエーテル
Ｍ（例えばメチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、オレイルビニルエーテルなど）、ビニルケトン類（
例えばメチルビニルケトン、エチルビニルケトンナト）
、スチレン類（例えばスチレン、メチルスチレン、ジメ
チルスチレン、２，４Ａ、１ｒ−）！Ｊメチルスチレン
、エチルスチレン、ラウリルスチレン、クロロスチレン
、メトキシスチレン、シアノスチレン、クロロメチルス
チレン、ビニル安息香酸、スチレンスルホン酸、α−メ
チルスチレンなど）、ビニルへテロ壌化合物（例えばビ
ニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルイミダゾール
など）、アクリロニトリル、塩化ビニル、ビニリデンク
ロライド、エチレン、プロピレン、ブタジェン、ジイソ
ブチレン、インプレン、クロロプレンなどが挙げられる
。本発明に、以上の共重合性モノマーに限定するもので
はなく、上記一般式（Ｉ）の構造単位を有するならばい
かなる共重合体でもよい。
又、共重曾比および分子量は、ジアゾニウム塩含有高分
子化合物の感度、解像力、有機溶媒その他への溶解性を
満足する範囲内で任意に選択できる。共重曾比に関して
、本発明の目的から、ジアゾニウム塩単位を≠θモル係
以上含有するものが％に′ｔＩＴｆましい。分子量に関
しては、重曾度が数個のものから数百側のものが好まし
い。ニジ具体的には重−８−夏がλ〜２００．特に好ま
しくは２〜２００のものである。しかしながら本発明は
、上述した範囲に限定するものでｌｌ″ｌＩなく、一般
式（１）の構造単位を有するものならばいかなる分子量
、いかなる共重合体でもよいことは、言うまでもない。
子化合物の感度、解像力、有機溶媒その他への溶解性を
満足する範囲内で任意に選択できる。共重曾比に関して
、本発明の目的から、ジアゾニウム塩単位を≠θモル係
以上含有するものが％に′ｔＩＴｆましい。分子量に関
しては、重曾度が数個のものから数百側のものが好まし
い。ニジ具体的には重−８−夏がλ〜２００．特に好ま
しくは２〜２００のものである。しかしながら本発明は
、上述した範囲に限定するものでｌｌ″ｌＩなく、一般
式（１）の構造単位を有するものならばいかなる分子量
、いかなる共重合体でもよいことは、言うまでもない。
次に一般式（Ｉ）で表わされるジアゾニウム塩含有高分
子化合物のうち、代表的な化曾物を示すが、本発明はこ
れに限定するものではない。
子化合物のうち、代表的な化曾物を示すが、本発明はこ
れに限定するものではない。
化合物例
−＋ＣＨ２−ＣＨ＋
１
Ｈ２
０
ｘ；ｙ＝“１０ ： ２０
ｘＨｙ＝７０：３０
ｘ：ｙ＝ＩＯ：２０
本発明の一般式（Ｉ）で示される新規ジアゾニウム化合
物は、以下の操作にＬり甘酸できる。例えば一般式（Ｉ
Ｉ） （ＩＩ） で示されるクロロメチルスチレン（ｍ、ｐ一体温合）の
誘導体のような活性ハロゲン基および重合性基を有する
化合物と、下記一般式（ＩＩＩ）で示されるジフェニル
アミン誘導体（ここで、ｚｌ、Ｚ２．９％ ｑは、一般
式（Ｉ）における意味と同じである。Ｄは、−Ｎ０２、
−Ｎｏ、−Ｎ２叛９−ＮＨＣＯＣＨ３、−Ｈ等のジアゾ
ニウム基もしくは、還元、ジアゾ化等にニジジアゾニウ
ム基へと誘導可能な置換基を表わす。ンを、例えばＱｒ
ｇａｎｉｃＦｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇｒｏｕｐ Ｐｒｅ
ｐａｒａｔｉｏｎｓ （Ｓ、Ｒ。
物は、以下の操作にＬり甘酸できる。例えば一般式（Ｉ
Ｉ） （ＩＩ） で示されるクロロメチルスチレン（ｍ、ｐ一体温合）の
誘導体のような活性ハロゲン基および重合性基を有する
化合物と、下記一般式（ＩＩＩ）で示されるジフェニル
アミン誘導体（ここで、ｚｌ、Ｚ２．９％ ｑは、一般
式（Ｉ）における意味と同じである。Ｄは、−Ｎ０２、
−Ｎｏ、−Ｎ２叛９−ＮＨＣＯＣＨ３、−Ｈ等のジアゾ
ニウム基もしくは、還元、ジアゾ化等にニジジアゾニウ
ム基へと誘導可能な置換基を表わす。ンを、例えばＱｒ
ｇａｎｉｃＦｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇｒｏｕｐ Ｐｒｅ
ｐａｒａｔｉｏｎｓ （Ｓ、Ｒ。
５ａｎｄｉｅｒ、 Ｗ、Ｋａｒｏ著、 Ａｃａｄｅｍｉ
ｃ Ｐｒｅｓｓ）第１巻１０λ負、に記載の方法で反応
させることにより、下記一般式（ＩＶＩ で表わされる重合性モノマーを曾成する。この重合性七
ツマ−を、ラジカル１会又は、カチオン重会等の開始剤
によシ重合せしめ、ジアゾポリマー又は、ジアゾ前駆体
ポリマーを得る。ジアゾ前駆体ポリマーからジアゾポリ
マーへは常法に従って変換できる。特に−級アミン基を
有するポリマーのジアゾ化は、例えばＱｒｇａｎｉｃ
ＦｕｎｃｔｉｏｎａｌＧｒｏｕｐ Ｐｒｅｐａｒａｔｉ
ｏｎｓ （Ｓ、Ｒ，５ａｎｄｌｅｒ、Ｗ、Ｋａｒ。
ｃ Ｐｒｅｓｓ）第１巻１０λ負、に記載の方法で反応
させることにより、下記一般式（ＩＶＩ で表わされる重合性モノマーを曾成する。この重合性七
ツマ−を、ラジカル１会又は、カチオン重会等の開始剤
によシ重合せしめ、ジアゾポリマー又は、ジアゾ前駆体
ポリマーを得る。ジアゾ前駆体ポリマーからジアゾポリ
マーへは常法に従って変換できる。特に−級アミン基を
有するポリマーのジアゾ化は、例えばＱｒｇａｎｉｃ
ＦｕｎｃｔｉｏｎａｌＧｒｏｕｐ Ｐｒｅｐａｒａｔｉ
ｏｎｓ （Ｓ、Ｒ，５ａｎｄｌｅｒ、Ｗ、Ｋａｒ。
著、Ａｃａｄｅｍｉ ｃ、Ｐｒｅｓ ｓＪ第１ ＄ ４
！ ０４／−’７４ 、 Ｂｉ ｏｃｈｅｍ。
！ ０４／−’７４ 、 Ｂｉ ｏｃｈｅｍ。
Ｊ、第７７巻、ｌコ負（ｌり６０ ） （Ｌ、Ｈ，Ｋ
ｅｎｔら著）等を参考にすることができる。
ｅｎｔら著）等を参考にすることができる。
ここで、一般式（ＩＩＩ）で示される化合物は、例えば
ｐ−アミノフェノールと２−クロロ−！−二トロベンゼ
ンスルホン酸を縞付した後脱スルホン酸を行なう方法（
Ｆ、Ｕｌ １ｍａｎ ｎ ｃ）Ｂｅ ｒ 、第り２巻、
１０コ負、 Ｆ、Ｌ、ＢａｃｈらＪ、Ｍｅｄ、Ｃｈｅｍ
、第１Ｏ巻、ｔｏ−負（ｌり６７）などノや、ｔ−アセ
チルアミノ−参′−メトキシジフェニルアミンに三臭化
ホウ素等を作用させてフェノール性水酸基に誘導する方
法（Ｊ、Ｆ、ＭｃＱｎｊｅら、Ｏｒｇ−８ｙｎｔｈ、ｖ
ａ ｉ２ｎ 、Ｒ，Ｊ、Ｍｏ１ｙｎｅｕｘら、Ｃｈｅｍ
、Ｃｏｍｍｕｎ 、ｉり７μ、３／Ｉ頁などを参考とす
ることができる。ンを利用することによって合成しうる
。
ｐ−アミノフェノールと２−クロロ−！−二トロベンゼ
ンスルホン酸を縞付した後脱スルホン酸を行なう方法（
Ｆ、Ｕｌ １ｍａｎ ｎ ｃ）Ｂｅ ｒ 、第り２巻、
１０コ負、 Ｆ、Ｌ、ＢａｃｈらＪ、Ｍｅｄ、Ｃｈｅｍ
、第１Ｏ巻、ｔｏ−負（ｌり６７）などノや、ｔ−アセ
チルアミノ−参′−メトキシジフェニルアミンに三臭化
ホウ素等を作用させてフェノール性水酸基に誘導する方
法（Ｊ、Ｆ、ＭｃＱｎｊｅら、Ｏｒｇ−８ｙｎｔｈ、ｖ
ａ ｉ２ｎ 、Ｒ，Ｊ、Ｍｏ１ｙｎｅｕｘら、Ｃｈｅｍ
、Ｃｏｍｍｕｎ 、ｉり７μ、３／Ｉ頁などを参考とす
ることができる。ンを利用することによって合成しうる
。
また、一般式（ＩＩ）の重合体又は共重合体と、一般式
＜ＩＩＩ）で示される化合物を反応させる方法（高分子
反応〕によっても合成は可能であり、ここでに特定の貧
成法に限定するものではない。
＜ＩＩＩ）で示される化合物を反応させる方法（高分子
反応〕によっても合成は可能であり、ここでに特定の貧
成法に限定するものではない。
以下に代表的な化合物の合成例を示す。
合成例１．（原料の合成）
三つロフラスコに攪拌装置、冷却管、温度計を付け、μ
ｍオキシ−参′−アセチルアミノジフェニルアミン２１
１，２ｆ（０，１モルノ、クロロメチルスチレン（ｒＩ
Ｌ−１ｐ一体混合）ｉｊ、λＶ（Ｏ，１モル）、炭酸カ
リウムｔ、タグ（０，０ｊモル）、Ｎ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド１ＯＯ−およびヨウ化ナトリウムλＶを加え
、７００Ｃにて３時間加熱攪拌を行なった。反応終了後
、系内の液を約ｌノの水中に注いだ。析出した生成物を
エタノールにて再結晶し、下記重付性モノマーを得た。
ｍオキシ−参′−アセチルアミノジフェニルアミン２１
１，２ｆ（０，１モルノ、クロロメチルスチレン（ｒＩ
Ｌ−１ｐ一体混合）ｉｊ、λＶ（Ｏ，１モル）、炭酸カ
リウムｔ、タグ（０，０ｊモル）、Ｎ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド１ＯＯ−およびヨウ化ナトリウムλＶを加え
、７００Ｃにて３時間加熱攪拌を行なった。反応終了後
、系内の液を約ｌノの水中に注いだ。析出した生成物を
エタノールにて再結晶し、下記重付性モノマーを得た。
収量は
、２ｊ−，３ｆ （７／％）であった。上記化付物の構
造確認は、元素分析（Ｎ％ ； ｆｏｕｎｄ ７．７タ
チ。
造確認は、元素分析（Ｎ％ ； ｆｏｕｎｄ ７．７タ
チ。
ｃａｌｃｄ ７．１２％ン、ＮＭＲスペクトル←ＣＯＣ
Ｈ３δλ、Ｏｐｐｍ； ＣＨ２＝ＣＨ−δｊ 、−２Ｊ
ｐｐ７？１．ｊ、ｇｐｐｍお工びＡ 、 Ｉ ｐｐ？Ｆ
ＬＨ−Ｃ）１２−０−δ ｊ 、Ｏｐｐｍ１ｎ （Ｃ
Ｄ３）２８０入赤外吸収スペクトル等により行なった。
Ｈ３δλ、Ｏｐｐｍ； ＣＨ２＝ＣＨ−δｊ 、−２Ｊ
ｐｐ７？１．ｊ、ｇｐｐｍお工びＡ 、 Ｉ ｐｐ？Ｆ
ＬＨ−Ｃ）１２−０−δ ｊ 、Ｏｐｐｍ１ｎ （Ｃ
Ｄ３）２８０入赤外吸収スペクトル等により行なった。
合成例２ （化付物例（１）の合成）
攪拌装置、冷却管、窒素導入管付きの三つロフラスコに
、合成例１で合成した重合性モノマー１７、りｖ１エタ
ノールタコｔおよび四塩化炭素１ｓｐｙを入れ、内温を
乙！０Ｃに加熱攪拌した。
、合成例１で合成した重合性モノマー１７、りｖ１エタ
ノールタコｔおよび四塩化炭素１ｓｐｙを入れ、内温を
乙！０Ｃに加熱攪拌した。
しばらく窒素雰囲気下で攪拌を行ない、重置開始剤ＡＩ
ＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）１゜３６ｆをエタ
ノール≠６ｔｎｔに溶解した溶液を加え、ｇ時間重付を
行なった。その後内容物を−２１の水の中に注ぎ、重合
＠／７ｆを得た。
ＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）１゜３６ｆをエタ
ノール≠６ｔｎｔに溶解した溶液を加え、ｇ時間重付を
行なった。その後内容物を−２１の水の中に注ぎ、重合
＠／７ｆを得た。
この重付物の分子量を、蒸気圧浸透圧法（ＶＰＯ法、Ｋ
ｎａｕｅｒ）ＫｊＤ測定（ｉｎ （ＣＨ３Ｊ２８０、
Ｔ＝ｙｏ ０Ｃ）Ｌ＊結果、重合度弘、Ｊ（Ｍｎ＝ｉ、
ｒ ｘｉｏ ）のポリマーであることが判明した。
ｎａｕｅｒ）ＫｊＤ測定（ｉｎ （ＣＨ３Ｊ２８０、
Ｔ＝ｙｏ ０Ｃ）Ｌ＊結果、重合度弘、Ｊ（Ｍｎ＝ｉ、
ｒ ｘｉｏ ）のポリマーであることが判明した。
次に上記ポリマーｌ≠、３ｆを、攪拌装置、冷却管付き
の三つロフラスコに入れ、濃塩酸−〇ｍｅ。
の三つロフラスコに入れ、濃塩酸−〇ｍｅ。
蒸留水４ＡＯ−およびエタノール’ｌ０ｍ１を加え、７
Ｊ０ＣＫ′″ＣＡ時間攪拌を行なった。その後内容物を
アセトンｌｌ中に注ぎ粉末状のポリマーＩＪ。
Ｊ０ＣＫ′″ＣＡ時間攪拌を行なった。その後内容物を
アセトンｌｌ中に注ぎ粉末状のポリマーＩＪ。
ｔｔを得た。このポリマーがｐ−位にアミノ基を有し、
アセチルアミノ基が消失していることに、ＮＭＲスペク
トル、赤外吸収スペクトル（−ＮＨＣＯＣＨａに基づ＜
１６１０ｃｍ”、ｌＩｔ！ｃｙｎ および１２１０
口 の吸収の消失）およびアミノ基の滴定（ポリマー
ｏ、ｉｙ中に２゜ｚｓＸｔｏ ｅｑの７ミノ基を検
出した。）Ｋ工り確認した。
アセチルアミノ基が消失していることに、ＮＭＲスペク
トル、赤外吸収スペクトル（−ＮＨＣＯＣＨａに基づ＜
１６１０ｃｍ”、ｌＩｔ！ｃｙｎ および１２１０
口 の吸収の消失）およびアミノ基の滴定（ポリマー
ｏ、ｉｙ中に２゜ｚｓＸｔｏ ｅｑの７ミノ基を検
出した。）Ｋ工り確認した。
次に上記ポリマー／ Ｊ 、Ｉ ｆ、濃塩酸Ｊｊｔｄ。
蒸留水ＩＡＯｍｌを、攪拌装置および滴下ロート付きの
三つロフラスコに入几、系内の温度？Ｉ−ｏ Ｏ（：ま
で冷却した。微しく攪拌を行ないながら、亜硝酸ナトリ
ウム！、！λグを蒸留水グＯ−に溶解した溶液を、系内
の温度が３°Ｃ以上にならない工うに徐イに滴下した。
三つロフラスコに入几、系内の温度？Ｉ−ｏ Ｏ（：ま
で冷却した。微しく攪拌を行ないながら、亜硝酸ナトリ
ウム！、！λグを蒸留水グＯ−に溶解した溶液を、系内
の温度が３°Ｃ以上にならない工うに徐イに滴下した。
滴下終了後さら［／時間３ｃ′Ｃ以下に保ち、攪拌を続
けた。その後室温にもどし、一部の不浴解分を枦去し、
ろｉ’ｔ、あらかじめ、−一オキシー弘−メトキシ〜ベ
ンツフェノン−！−スルホン酸／Ｉ 、 Ｊ−ｆ全蒸留
水４ＬＯＯ−に溶解させておい７’Ｃ浴液中に滴下した
。こうして析出させたジアゾポリマーｋＦ取し、乾燥し
た。
けた。その後室温にもどし、一部の不浴解分を枦去し、
ろｉ’ｔ、あらかじめ、−一オキシー弘−メトキシ〜ベ
ンツフェノン−！−スルホン酸／Ｉ 、 Ｊ−ｆ全蒸留
水４ＬＯＯ−に溶解させておい７’Ｃ浴液中に滴下した
。こうして析出させたジアゾポリマーｋＦ取し、乾燥し
た。
収量は、−２ｏ３ｙ″′ｃ８つだ。元素分析によると、
Ｓ含量≠、りｊチ、Ｎ含量６，３コ俤であった。
Ｓ含量≠、りｊチ、Ｎ含量６，３コ俤であった。
本発明の感光性ジアゾポリマーは、例えば平版印刷版の
製造にあたシ、種々のせ酸樹脂と混付して使用すること
力５できる。これらの樹脂は、十分なインク受容性を与
えるため、お工ひ親水性の非画像部分と良好な特異性を
与えるため親油性でなければならない。それらの樹脂は
また、通フルの有機溶媒に可溶性でめ９、水にほとんど
もしくは全く不溶性であり、本発明のシアーゾボリマー
と相溶性であり、フィルム形成性でなければならない。
製造にあたシ、種々のせ酸樹脂と混付して使用すること
力５できる。これらの樹脂は、十分なインク受容性を与
えるため、お工ひ親水性の非画像部分と良好な特異性を
与えるため親油性でなければならない。それらの樹脂は
また、通フルの有機溶媒に可溶性でめ９、水にほとんど
もしくは全く不溶性であり、本発明のシアーゾボリマー
と相溶性であり、フィルム形成性でなければならない。
さらに長い印刷工程中の耐摩耗性と適度の弾性を有する
ことが必要である。これらの樹脂の例とし′Ｃは、クレ
ゾール樹脂、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン
、ポリ塩化ビニル、ポリ（メタノアクリレート、ポリス
チレン、ポリ酢酸ビニル等の重付体又は縮曾体、アクリ
ル酸メタクリル酸のメチル、エチルおよびλ−ヒドロキ
シエチルなどのアルキルエステル類、アクリルアミド、
Ｎ−アルキルアクリルアミドお工びｐ−ヒドロキシフェ
ニルアクリルアミドなどのアクリルアミド誘導体。
ことが必要である。これらの樹脂の例とし′Ｃは、クレ
ゾール樹脂、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン
、ポリ塩化ビニル、ポリ（メタノアクリレート、ポリス
チレン、ポリ酢酸ビニル等の重付体又は縮曾体、アクリ
ル酸メタクリル酸のメチル、エチルおよびλ−ヒドロキ
シエチルなどのアルキルエステル類、アクリルアミド、
Ｎ−アルキルアクリルアミドお工びｐ−ヒドロキシフェ
ニルアクリルアミドなどのアクリルアミド誘導体。
ビニルエーテル、ビニルエステル、スチレン等の重合性
モノマーから選択された共重合体などが挙げられる。
モノマーから選択された共重合体などが挙げられる。
本発明の感光性組成物における本発明の感光性ジアゾポ
リマーの含有量は支持体の種類、目的によシ異なるが、
好ましくは／〜！Ｏ重量％、よシ好ましくは３〜２０重
量係である。ジアゾポリマーとして共重合体を用いると
きには、ジアゾニウム塩含有ユニットの含有量であるこ
とは言うまでもない。
リマーの含有量は支持体の種類、目的によシ異なるが、
好ましくは／〜！Ｏ重量％、よシ好ましくは３〜２０重
量係である。ジアゾポリマーとして共重合体を用いると
きには、ジアゾニウム塩含有ユニットの含有量であるこ
とは言うまでもない。
本発明のジアゾポリマーおよび上記合成樹脂を混合、溶
解し支持体上に塗布するための溶媒としては、λ−メト
キシエタノールのようなグリコールエーテル、アセトン
、メチルエチルケトンのよりなケトン類、メタノール、
エタノールのようなアルコール類、Ｎ−メチルピロリド
ンのような複素環式化合物およびトリオキサンのような
エーテル類が挙げられる。これらは３０％以内、よシ好
ましくは２０％以内の水と混合して使用してもよい。
解し支持体上に塗布するための溶媒としては、λ−メト
キシエタノールのようなグリコールエーテル、アセトン
、メチルエチルケトンのよりなケトン類、メタノール、
エタノールのようなアルコール類、Ｎ−メチルピロリド
ンのような複素環式化合物およびトリオキサンのような
エーテル類が挙げられる。これらは３０％以内、よシ好
ましくは２０％以内の水と混合して使用してもよい。
本発明の感光性ジアゾポリマーは、単独でもしくは、上
記樹脂とともに、アルミニラＬ板、亜鉛板等の金属やポ
リエステル等のプラスティックフィルムおよび紙等に塗
布し、印刷その他の目的に供する。平版印刷版用には、
支持体表面とジアゾ化合物との間の有害な相互作用を阻
止するため、支持体表面を不働態化する。この不働態化
処理は、露光部分と支持体との間の堅い結合を促進し、
かつまた印刷工程中親水性表面を与えることを助ける。
記樹脂とともに、アルミニラＬ板、亜鉛板等の金属やポ
リエステル等のプラスティックフィルムおよび紙等に塗
布し、印刷その他の目的に供する。平版印刷版用には、
支持体表面とジアゾ化合物との間の有害な相互作用を阻
止するため、支持体表面を不働態化する。この不働態化
処理は、露光部分と支持体との間の堅い結合を促進し、
かつまた印刷工程中親水性表面を与えることを助ける。
米国特許第、２７１１ＩＯｔｔ号明細書に記載されてい
るケイ酸塩処理、同第２７≠６６３を号明細書に記載さ
れている弗化ジルコニウム酸カリウム水溶液による処理
、同第３．２０／、２弘７号明細書に記載されているホ
スホモリブテート処理および同第３ｔｚｒｔｔ、ｚ号明
細書に記載されているシリケート電着などがある。
るケイ酸塩処理、同第２７≠６６３を号明細書に記載さ
れている弗化ジルコニウム酸カリウム水溶液による処理
、同第３．２０／、２弘７号明細書に記載されているホ
スホモリブテート処理および同第３ｔｚｒｔｔ、ｚ号明
細書に記載されているシリケート電着などがある。
本発明の感光性ジアゾポリマーは、上記合成樹脂以外に
種々の添加剤を併用してもよい。それらの添加剤は、塗
布膜の弾性や耐摩耗性を増大させるための可塑剤（例え
ば、フタル酸ジブチル、リン酸トリクレジル等のエステ
ル類）、画像部分を着色させる物質（アクリジン染料、
シアニン染料、トリアリールメタン染料、フタロシアニ
ン顔料等）、露光により発色する物質（アジド化合物等
）および安定化剤（リン酸、シュウ酸、クエン酸など）
などである。
種々の添加剤を併用してもよい。それらの添加剤は、塗
布膜の弾性や耐摩耗性を増大させるための可塑剤（例え
ば、フタル酸ジブチル、リン酸トリクレジル等のエステ
ル類）、画像部分を着色させる物質（アクリジン染料、
シアニン染料、トリアリールメタン染料、フタロシアニ
ン顔料等）、露光により発色する物質（アジド化合物等
）および安定化剤（リン酸、シュウ酸、クエン酸など）
などである。
本発明のジアゾポリマーおよび合成樹脂、添加剤等の感
光性組成物の支持体への塗布量は極めて重要である。塗
布量が多すぎる場合には、すなわち塗布膜が厚いので一
定時間内での現像が不十分であったシ、又、一定の露光
時間内に十分光が送入しなかったり、という問題が生じ
る。一方、塗布量が少なすぎる場合には、画像部分の膜
厚が薄いため耐摩耗性の低下を招くことになシ、商品価
値を著るしくそこなうものである。以上のことがら本発
明の感光性組成物は０１７７〜５１７ｍ２、より好１し
くけ、０．３ｉ〜≠２／ｍ２の範囲で塗布される。
光性組成物の支持体への塗布量は極めて重要である。塗
布量が多すぎる場合には、すなわち塗布膜が厚いので一
定時間内での現像が不十分であったシ、又、一定の露光
時間内に十分光が送入しなかったり、という問題が生じ
る。一方、塗布量が少なすぎる場合には、画像部分の膜
厚が薄いため耐摩耗性の低下を招くことになシ、商品価
値を著るしくそこなうものである。以上のことがら本発
明の感光性組成物は０１７７〜５１７ｍ２、より好１し
くけ、０．３ｉ〜≠２／ｍ２の範囲で塗布される。
支持体上に塗布された感光性組成物は、線画像、網点画
像等を有する原画を通して露光し、水性現像液で現像す
ることによシネガ画像が得られる。
像等を有する原画を通して露光し、水性現像液で現像す
ることによシネガ画像が得られる。
一般にジアゾ樹脂に比較して多量の合成樹脂を含む印刷
版を現像するために水性現像液中に少量の有機溶媒およ
び界面活性剤を使用することもある。
版を現像するために水性現像液中に少量の有機溶媒およ
び界面活性剤を使用することもある。
画像部分への悪影響がないように、現像時間は短かく、
有機溶媒の濃度は低いのが好ましい。典型的な有機溶媒
には低級アルコールエステル類、グリコールエーテル類
、ケトン類などがある。
有機溶媒の濃度は低いのが好ましい。典型的な有機溶媒
には低級アルコールエステル類、グリコールエーテル類
、ケトン類などがある。
次に本発明の感光性組成物につき、実施例を挙げて説明
するが、本発明はそれらに限定するものではない。
するが、本発明はそれらに限定するものではない。
実施例 を
厚さ０．３ｒｔｒｍのアルミニウム板を１ｒ００Ｃに保
たれた第三シん酸ソーダの７０％水溶液に３分間浸漬し
て脱脂し、ナイロンブラシで砂目立て後、ｔｏｏｃのア
ルミン酸ソーダで約１０秒間エツチングし、次に硫酸水
素す） ＩＪウム３％水溶液でデスマットした。このア
ルミニウム板を２０％硫酸中で２に／ｄｍ２．２分間陽
極酸化し、その後７００Ｃのケイ酸ソーダｘ、ｔ％水溶
液で７分間処理し陽極酸化アルミニウム板（Ｉ）を作成
した。
たれた第三シん酸ソーダの７０％水溶液に３分間浸漬し
て脱脂し、ナイロンブラシで砂目立て後、ｔｏｏｃのア
ルミン酸ソーダで約１０秒間エツチングし、次に硫酸水
素す） ＩＪウム３％水溶液でデスマットした。このア
ルミニウム板を２０％硫酸中で２に／ｄｍ２．２分間陽
極酸化し、その後７００Ｃのケイ酸ソーダｘ、ｔ％水溶
液で７分間処理し陽極酸化アルミニウム板（Ｉ）を作成
した。
このアルミニウム板（Ｉ）に、本発明の化合物又は、比
較化合物Ａを含む下記感光液を塗布した。
較化合物Ａを含む下記感光液を塗布した。
乾燥はｔｏ’ｃ、２分間行なった。乾燥塗布重量は２．
０ｔ／ｍ であった。
０ｔ／ｍ であった。
本発明の化合物又は比較化合物Ａ ｏ、／ｙλ−ヒドロ
キシエチルメタクリレ ート共重合体（１） ｏ、ｒ’ｙｔオイル
ブルー＃６０３ （オリエント化学工業■製） ０．０３ｔλ−メト
キシエタノール ｔ２メタノール
Ａ？比較化合物Ａ λ−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体（Ｉ）（
＠公昭１ｊ−Ｊｌ／−タ、２り中の共重合体）Ｈａ （）の数字は、モル比を表わす。
キシエチルメタクリレ ート共重合体（１） ｏ、ｒ’ｙｔオイル
ブルー＃６０３ （オリエント化学工業■製） ０．０３ｔλ−メト
キシエタノール ｔ２メタノール
Ａ？比較化合物Ａ λ−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体（Ｉ）（
＠公昭１ｊ−Ｊｌ／−タ、２り中の共重合体）Ｈａ （）の数字は、モル比を表わす。
このようにして得た感光性平版印刷版の試料ｌ〜４！（
試料／は比較化合物Ａ１試料λ〜弘は本発明の化合物を
含むものである。）を、真空焼枠装置を用いて、富士写
真フィルム■製Ｐｓライトｓタイプ（メタルハライドラ
ンプ、２ｋｗ）で距離／ｍから露光し、次に示す現像液
にて室温で１時間浸漬後、脱脂綿で表面を軽くとすシ、
未露光部を除去しそれぞれ平版印刷版試料１〜参を得た
。
試料／は比較化合物Ａ１試料λ〜弘は本発明の化合物を
含むものである。）を、真空焼枠装置を用いて、富士写
真フィルム■製Ｐｓライトｓタイプ（メタルハライドラ
ンプ、２ｋｗ）で距離／ｍから露光し、次に示す現像液
にて室温で１時間浸漬後、脱脂綿で表面を軽くとすシ、
未露光部を除去しそれぞれ平版印刷版試料１〜参を得た
。
亜硫酸ナトリウム ３１ベンジル
アルコール ３０ｆトリエタノールアミ
ン ２０ｆモノエタノールアミン
ｊｌはレックスＮＢＬ
３０？（ｔ−ブチルナフタレンスル ホン酸ナトリウム 花王アトラス株式会社製） 水 ｉｏｏｏｍｉ
比較化合物比較化合物本のに３０秒間露光するともつと
もウェッジ濃度の高い１段目でも硬化してしまうような
ステップウェッジを用いて同程度の硬化を起させるに要
する時間は次の表／のとおシでアリ、本発明のジアゾ化
合物を用いた感光性平版印刷版−〜弘は、いづれも比較
化合物Ａよシ表 ｌ これらの試料２〜μは、ハイデルベルク社製Ｇ Ｔ Ｏ
印刷機で市販のインクにて上質紙に印刷したところ試料
ｌと同様に良好な印刷物ｊ方杖が得られた。
アルコール ３０ｆトリエタノールアミ
ン ２０ｆモノエタノールアミン
ｊｌはレックスＮＢＬ
３０？（ｔ−ブチルナフタレンスル ホン酸ナトリウム 花王アトラス株式会社製） 水 ｉｏｏｏｍｉ
比較化合物比較化合物本のに３０秒間露光するともつと
もウェッジ濃度の高い１段目でも硬化してしまうような
ステップウェッジを用いて同程度の硬化を起させるに要
する時間は次の表／のとおシでアリ、本発明のジアゾ化
合物を用いた感光性平版印刷版−〜弘は、いづれも比較
化合物Ａよシ表 ｌ これらの試料２〜μは、ハイデルベルク社製Ｇ Ｔ Ｏ
印刷機で市販のインクにて上質紙に印刷したところ試料
ｌと同様に良好な印刷物ｊ方杖が得られた。
実施例 ２
実施例１のアルミニウム板（Ｉ）に、本発明の化合物（
１）を含む下記感光液を塗布した。
１）を含む下記感光液を塗布した。
本発明の化合物（１） ｏ、ｙｙ表λ
中の共重合体（ＩＩ）、 （Ｉ［）または（■） ０゜ざ７７オイルブル
ー ＃ｔ０３ ０，０３グ２−メトキシエタノー
ル ６ グメタノール
６２ これらの感光性平版印刷版を、実施例１と同様に露光現
像し、印刷機で印刷した結果、全て良好な印刷物が得ら
れた。
中の共重合体（ＩＩ）、 （Ｉ［）または（■） ０゜ざ７７オイルブル
ー ＃ｔ０３ ０，０３グ２−メトキシエタノー
ル ６ グメタノール
６２ これらの感光性平版印刷版を、実施例１と同様に露光現
像し、印刷機で印刷した結果、全て良好な印刷物が得ら
れた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （Ｎ −＋ＣＨ２−ＣＨす 上記一般式（ＩＮにおいて、Ｙｆｌ二価の置換基を表わ
す。Ｚ１％Ｚ２は同一であっても、相違してもｘ＜、各
々−価の置換基を表わす。ｐＸ ｑｕ、各々Ｏ又にｌ−
弘の整数を表わし、２以上の場曾には、Ｚｌ、Ｚ２Ｆｉ
各々同じでも異なっても工いＯＸｅはアニオンを表わす
。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57211006A JPS59101644A (ja) | 1982-12-01 | 1982-12-01 | 感光性組成物 |
| DE19833343536 DE3343536A1 (de) | 1982-12-01 | 1983-12-01 | Lichtempfindliche zusammensetzung und deren verwendung zur herstellung von flachdruckformen |
| US06/556,821 US4581313A (en) | 1982-12-01 | 1983-12-01 | Photosensitive composition with polymer having diazonium salt in side chain |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57211006A JPS59101644A (ja) | 1982-12-01 | 1982-12-01 | 感光性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59101644A true JPS59101644A (ja) | 1984-06-12 |
Family
ID=16598763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57211006A Pending JPS59101644A (ja) | 1982-12-01 | 1982-12-01 | 感光性組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4581313A (ja) |
| JP (1) | JPS59101644A (ja) |
| DE (1) | DE3343536A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0561191A (ja) * | 1991-09-04 | 1993-03-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| JPH05165206A (ja) * | 1991-12-17 | 1993-07-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
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|---|---|---|---|---|
| GB8603405D0 (en) * | 1986-02-12 | 1986-03-19 | Vickers Plc | Radiation sensitive material |
| US4833061A (en) * | 1987-04-06 | 1989-05-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosensitive phospholipid vesicles |
| EP0390402B1 (en) * | 1989-03-24 | 1993-06-16 | Taoka Chemical Co., Ltd | Adhesive composition |
| US5036142A (en) * | 1989-12-26 | 1991-07-30 | Allied-Signal Inc. | Process for making electro-optically active polymers |
| US5206349A (en) * | 1990-08-10 | 1993-04-27 | Toyo Gosei Kogy Co., Ltd. | Aromatic diazo compounds and photosensitive compositions using the same |
| DE4439184A1 (de) | 1994-11-03 | 1996-05-09 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
| DE4445820A1 (de) * | 1994-12-21 | 1996-06-27 | Hoechst Ag | Verfahren zum Entwickeln bestrahlter, strahlungsempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien |
| GB9700883D0 (en) * | 1997-01-17 | 1997-03-05 | Horsell Graphic Ind Ltd | Lithographic plate precursor |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2649373A (en) * | 1948-10-18 | 1953-08-18 | Warren S D Co | Paper printing foils for lithographic purposes and a process of preparing them |
| DE1114704B (de) * | 1959-02-26 | 1961-10-05 | Kalle Ag | Lichtempfindliches Material |
| DE1472775A1 (de) * | 1965-08-28 | 1969-08-07 | Agfa Gevaert Ag | Lichtvernetzbare Schicht |
| US3679419A (en) * | 1969-05-20 | 1972-07-25 | Azoplate Corp | Light-sensitive diazo condensate containing reproduction material |
| IT997623B (it) * | 1972-11-25 | 1975-12-30 | Licentia Gmbh | Procedimento e massa di copiatura per produrre uno schermo fluorescente per tubi a raggi catodici |
| US4147552A (en) * | 1976-05-21 | 1979-04-03 | Eastman Kodak Company | Light-sensitive compositions with 3-substituted coumarin compounds as spectral sensitizers |
| FR2400221A1 (fr) * | 1977-08-09 | 1979-03-09 | Kodak Pathe | Compose de diazonium photosensible utile, en particulier, pour preparer des planches d'impression lithographique, procede de preparation de ce compose et plaque presensibilisee avec ce compose |
| JPS54135525A (en) * | 1978-04-12 | 1979-10-20 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive material |
| NL8001085A (nl) * | 1979-02-27 | 1980-08-29 | Minnesota Mining & Mfg | Fotogevoelige materialen en voorwerpen. |
| JPS5862641A (ja) * | 1981-10-09 | 1983-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
-
1982
- 1982-12-01 JP JP57211006A patent/JPS59101644A/ja active Pending
-
1983
- 1983-12-01 DE DE19833343536 patent/DE3343536A1/de not_active Withdrawn
- 1983-12-01 US US06/556,821 patent/US4581313A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0561191A (ja) * | 1991-09-04 | 1993-03-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| JPH05165206A (ja) * | 1991-12-17 | 1993-07-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3343536A1 (de) | 1984-06-07 |
| US4581313A (en) | 1986-04-08 |
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