JPS5899175A - セラミツク成形体の焼成方法 - Google Patents

セラミツク成形体の焼成方法

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Publication number
JPS5899175A
JPS5899175A JP56196083A JP19608381A JPS5899175A JP S5899175 A JPS5899175 A JP S5899175A JP 56196083 A JP56196083 A JP 56196083A JP 19608381 A JP19608381 A JP 19608381A JP S5899175 A JPS5899175 A JP S5899175A
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JP
Japan
Prior art keywords
firing
molded body
ceramic molded
pod
formed body
Prior art date
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Pending
Application number
JP56196083A
Other languages
English (en)
Inventor
堀部 芳幸
弘 和田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、セラミック成形体の焼成方法に関する。
セラミック粉末に、有機バインダー、可塑剤等ヲ加え、
スリップキャスティング法、乾式プレス法、押出法等の
方法により製造したセラミック成形体を焼成して得られ
たセラミック基板等の焼結体は、電子部品や機械部品と
して広く使用されている。
従来、セラミック成形体の焼成は、第1図の(alに示
すようなさや1.または(b)に示すようなセッター3
を用いるのが過電であった。なお第1図において2は切
欠部、4はスペーサーである。この方法によると肉厚品
、または薄い物を重ねて焼成した場合、亀裂が大量に発
生する等の問題があるため予備焼成により、バインダー
を除去してから焼成したり、昇温を非常圧ゆっくりする
必要があった。しかしこのような方法で焼成すると高価
となる欠点がある。
本発明は予備焼成や昇温をゆっくりすることなく、シか
も亀裂の発生のないセラミック成形体の焼成方法を提供
することを目的とするものである。
本発明は通気性のあるさやの中にセラミック成形体を入
れついで蓋をして焼成するセラミック成形体の焼成方法
に関する。
さらに本発明を祥しく説明すれば、セラミック成形体を
蓋をしたさや内で焼成すると焼成初期段階では、バイン
ダー等の有機物が熱分解し。
さや内部が酸化雰囲気から還元雰囲気に変化する。この
ため熱分解が抑制され、昇温をゆっくりしたのと同様の
効果があり亀裂発生を減少させ更に焼成中期では熱分解
はほぼ終り炭化し九物の燃焼段階となる。このときさや
の開気孔率が大きい方が酸素の供給がはやく、すみやか
に炭素を除去することができ、 l!に分解ガスの除去
もすみやかに行なわれる。しかしあまりさやの開気孔率
が大きくなると亀裂が発生し易くなる。反面開気孔率が
小さいと炭素および分解ガスを除去することができない
問題が生じる。このような理由により本発明において使
用するさやの開気孔率は10〜401が好ましい。
なお炭素が焼成後期まで成形体中に残存しているとセラ
ミック成形体に亀裂、ふくれ等の欠陥が生じる。
以下本発明の詳細な説明する。
厚み1.0 mのセラミックグリーンシート(セラミッ
ク粉体100重量部、ブチラール樹脂7重量部、フタル
酸エステル4重量部)を外形40■X60m11″C9
中央に深さ0.1 mのスリットをパンチにより成形し
、lll1形粉を介して20枚重ねlブロックとした。
これを第2図に示すような100■×100■、#!さ
3o■のさ中5に2ブロック入れ、さや5と同材質の蓋
6をして200℃/時間の昇温速度で1600℃。
1時間焼成した。このとき使用し丸さや5の開気孔率は
、0,7,10,23,40,45および55嚢の7種
類である。どの結果を第1表に示す。この結果、さやの
開気孔率71以下では炭素が焼成後期まで残存し、ふく
れ不良が発生した。また開気孔率45慢ではスリット部
から2.5m亀裂が発生し、さらに55優では225−
と多量の亀裂が発生したが、開気孔率10慢〜4(lで
は炭素の残存もなくしかも亀裂の発生も抑制されて込る
。これく対し従来法のセッター及びさやの場合には炭素
の残存はないが。
亀裂が多数発生した。
以下余r1 第1表 本発明は通気性のあるさやの中にセラミック成形体を入
れ蓋をして焼成するので予備焼成や。
昇温速度をゆっくりすることなく、シかも亀裂発生を大
幅に低減することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図qalは従来使用していたさやを示す斜視図、(
b)は同セッターの斜視図、第2図は本発明の焼成に使
用するさ中及び蓋を示す斜視図である。 4・・・スペーサー   6・・・蓋

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、 通気性のあるさやの中にセラミック成形体を入れ
    ついで蓋をして焼成することを特徴とするセラミック成
    形体の焼成方法。
JP56196083A 1981-12-04 1981-12-04 セラミツク成形体の焼成方法 Pending JPS5899175A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60181585A (ja) * 1984-02-28 1985-09-17 日本軽金属株式会社 セラミツクス板製造用冶具

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS60181585A (ja) * 1984-02-28 1985-09-17 日本軽金属株式会社 セラミツクス板製造用冶具

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