JPS5896878A - 金属はくり用組成物及びその方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 従来、過酸化水素含有溶液を金属類や金属酸化物の溶解
などを包含する各種の方法釦用いる提案がなされてきた
。これらの方法の中には例えば峨洗い、エツチング、清
浄、化学光沢化又は化学研摩その他が包含されている。

酸洗い溶液の代表例として英国籍許出Ｍ第２，０１４，
５５２Ａ号ではサッカリン安定剤を含有する鉱酸と過酸
化水素との溶液を開示し、英国特許第１．４９９．９１
８号及び対応する米国特許第４，０２２，７０５号では
８−ヒドロ中シキノリン安定剤を含有する硫酸と過酸化
水素との溶液を開示している。エツチングｌｌｌ液の代
表例として英国特許第１，４７４，２９４号では抑制剤
としてのテトラゾリウムを含有する過酸化水素の７ツ化
物水溶液を、英国特許第１，２９５，９５４号では金属
イオン錯化剤及び安定剤を含有する過酸化水素のアルカ
リ性溶液を開示し、また英国特許第９６２，５３５号で
は７ツ化アンモニウムの過酸化水素溶液を開示している
。

金属清浄剤の代表例として英国特許第１４０７．２６９
号では硫ｌ１ｔｊＩ−鉄、過酸化水素もしくは硝酸、硫
酸及び１７ツ化物の使用を開示している。化学光沢剤液
又は化学研摩液の代表例としては英国特許第ｔ２０９，
０１６号では過酸化水素、重フン化アンモニウム、修酸
及びスルファミン酸を、英国特許第１．０５＜Ｓ、６７
０ｇでは過酸化水素とヒドロフッ化水素酸を開示してい
る。

これらの方法の多くは過酸化水素に対する安定化剤の必
要性を認めている。これらの開示においてのみ々らず、
一般的に過酸化水素溶液を安定化する必要があることは
公知である。例えば７ランス特許縞９９８，４８６号で
は硫酸塩の７口きオキシキノリン化合物を、夕た米国特
許第３，０５３，６３２号では２−アルキル置換８−ヒ
ドロキシキノリンの使用が提案さｔ、ている。

近年、印刷回路板工業が発展するにつれて、鋼のような
他の金属表面からはんだ材をはくりしたり取り除くため
の組成物に関する要望が増加している。印刷回路板の製
作工糧ではスズ又はスズー鉛はんだをターにナルタブの
ような回路板の鋼部材Ｋｓ繁にほどこす。次いで金の如
きもつと責な金属をめっきし、得るようにこの鋼素地か
らはんだ材を取り除く必要が生ずる。更に加えて、はん
だのし損じも頻繁に起こるので、このような場合には鋼
メッキ印刷回路素地を回収してはんだ付けをやり直すた
めに鋼素地からし損じたはんだを取シ除く必要がある。

印刷回路板の生産速度の速さを考慮すると、Ｆｉんだ材
を高速で除去することが一書重要である。その際に鋼素
地圧なんらの侵食も及ぼさないことが必要条件である。

前記したような過酸化水素を主体にした各種の金属処理
組成物をはんだのはくりに有効に利用しようとする試み
は一般的に不成功に終っている。

これらの組成物によってｌ１ｌＮ素地からスズ及びスズ
／鉛合金はんだをはぐシしようとすると、は〈ｐ速度が
甚だ遅く、及び／又は鋼索地圧対する侵食が著しい。

そこではんだのはくシ用に特に好適な過酸化水素基準の
溶液を調製するための試みがなされてき九１例えば米国
特許第４８４１，９０５号には過酸化水素と重７ツ化ア
ンモニウムから成るはんだけ〈シ用組成物が開示されて
いる。米国特許第５．９２４６９９号には安定剤として
デクニス）　（Ｄｅｑｕｅｓｔ　）　ト）リイソプロパ
ノールアンンとの結み合わせを含有している過酸化水素
と重７ツ化アンモニウム系のはんだはくｐ用組成物が開
示されている。英国特許第９７へ１６７号ＫＦ！過酸化
水素と７ツ化ホウ素酸による組成−が提案されている。

過酸化水素、１７ツ化アンモニウム、トリクロル酢酸及
びポリアクリルアンドから調製するはんだは〈シ用の組
成物が英国特許出願第２，０７４，１０３Ａ−ｊ）Ｋ記
載せられている。その他のはんだはぐ夛液組成物として
は夷国特許第１，４４４８１６号又は相当する米国特許
第４９８へ９７０ｖＫ記載されている過酸化水素、酸、
フッ素イオン源及び過酸化水素の安定剤とから成るもの
がある。開示せられている安定剤の中でも好ましいもの
は８−オキシキノリンである。これらの組成物は若干の
成功をみてはいるものの、一般的には鋼素地の侵食なし
に高速にてはんだをはくすする能力がなく、現在の印刷
回路板の製作現場における要望を満し得ないものである
。

この発明の目的は改良されたけんだはくシ用組成物及び
方法の提供にある。

さらＫこの発明の他の目的は鋼の如き金属素地を実質的
に侵食せずに高速にてはんだをはくシし得ることを特徴
とする改良されたはんだはく）用組成物の提供にある。

上鮎の目的を追求し九結果、はくシ速度が著しく大きく
素地侵食が少ないはくり組成物が過酸化水ＩＡ、　ｙツ
化アンモニウム又は重フッカアンモニウム、酸及び８−
ヒドロキシキノリン化合物のある一定範囲量とこれら鎖
成分相互間のある特殊な比率を維持することによって調
製できることが分つえ０本発明による改良されたけんだ
は〈シ用組成物［約α１〜約１０モル、フッ化アンモニ
ウム又は重７ツ化アンモニウム約α４〜約１０モル、被
は〈シ表面上における溶液のｐＨをスマットが生成する
限界値以下ＫＭ持するのに少なくとも十分な量の無機酸
と、金属錯化用化合物としての８−ヒドロキシキノリン
化合物を少なくとも約α００５モルの濃度で含有する水
性溶液である。

加えて、本発明の組成物によれば、７ツ化アンモニウム
又は重フッ化アンモニウムの金属錯化剤に対するモル比
は少なくと４１２５：１であシ、過酸化水素の金属錯化
剤に対するモル比は少なくと４５０：１である。スプレ
ー法又は浸せき法のいずれにしても、好ましい酸として
硫酸が用いられる場合ＫＦ！溶のｐＨが約５．３以上に
ならないような十分な量で酸が存在し、さらに重７ツ化
アンモ＝　ｆｙ　Ａ　又ｉｊ　７ツ化アンモニウム（重
７ツ化アンモニウムとして計算）の過酸化水素に対する
重量比が約１２５：１以上である場合において、鋼素地
に対する目立つ大侵食もなしに＃ｌの如き金属素地から
スズ及びスズ／Ｒ１けんだを急速にはくりしうることが
できる。

この発明ははんだが付着している鋼素地にスプレー法及
び浸せき手段によって施こす溶液であって、この素地上
からスズ及びスズ−鉛合金を高い容量ではくシするため
の化学はく）溶液の提供を目的圧している。この溶液の
は（）速Ｖけま九非常に速い吃のでなければならない。

過酸化水素は水への溶解度が大きく、高いは〈多容量が
得られるので酸化剤として選ばれた。高速はくシ性は過
酸化水素と重７フ化アンモニウム又は７ツ化アンモニウ
ムとを組み合わせることにょシ達成されるが１重７ツ化
アンモニウムが好オしい。しかし乍らこの組み合わせは
鋼索ｊｔｈに対して若干の侵食作用があシ、この結果と
して溶液中に＃け込んだ鋼イオンが触媒的に作用して過
酸化水素を分解する傾向がある。スズ及び鉛イオンはこ
のような分解作用は少ない、そこで本発明者らは過酸化
水素の分解を阻止するための適当な安定剤を探索するか
又は溶解し丸鋼イオンを錯化してしｔ５錯化剤を探して
過酸化水素の分解に及ぼす触媒効果を妨げることを試み
てきた。スズ、鉛及び鋼イオンを含有する浴中に６樵の
化合物を試みたが、８−ヒドロキシキノリンが過酸化水
素の分解を防止するのに効果的な化合物の部類の代表例
であることが分った。８−ヒドロキシキノリンのような
化合物が存在すると鋼イオンが強力に錯化されて、４１
１ＫＢ−ヒドロキシキノリンの鋼に対するモル比が１よ
シ大き贋場合には鋼イオンが強力に錯化されることが分
った。

過酸化水素、重フッ化アンモニウム及び８−ヒドロキシ
キノリン屋の化合物を混合すると、スズ及びスズ−鉛合
金に対するはぐり容量が好ましい程麿に大きく、はく多
速度も大きい結果を与えるが、予想外に４鋼８−ヒドロ
キシキ／りン錯化物（銅オキシネート）と考えられる緑
色の沈澱が生じ素地上へのスマット状生成物が増加する
結果になった。この錯化物はｐＨ５，３以下では浴可溶
性であ夛、驚ろくべきことには、かかるニスマッドの間
［＃ｉ硫酸添加によって溶液の酸性縦を高め、かつ鋼め
つき印刷囲路素地からの鋼のは〈シ速度を高めないよう
な酸性［ＫすることＫよって避けることができることが
分り九。

かくして、この発明によると、金属性、すなわち鋼砿榎
した素地からスズ及びスズ−鉛合金を除去し、該素地の
再使用を可能ならしめるのに好適なこの化学は＜ｈａ液
は、α１〜１０モルｓ度の過酸化水素、ｃＬ４〜１０モ
ル８１の重７ツ化了ンモニクム又は７ツ化アンモニウム
、浴ＯｐＨを５．３以下にするような鹸及び少なくと４
ａｏｏｓモル濃度の金属錯化剤、すなわち鋼を錯化する
ための化合物から成夛、＃金属錯化物が８−ヒドロキシ
キノリン又は８−ヒドロキシキノリンｔｒ４体又は置換
８−ヒドロキシキノリンから成ることを特徴とする。

過酸化水素は１〜６モル、すなわち２〜５モルａｔで存
在するのが好ましい。重７ツ化アンモニウム又はフン化
アンモニウムはα５モル以上、すなわち２〜７又＃′ｉ
３〜６毫ル濃度で存在するのが好ましい。酸はα１〜４
モルｍｓ、例えば硫酸の場合、１〜２モル範囲であるの
が好ましい。金属錯化物は（Ｌ２モル以下、すなわちα
０１〜α１モル又はより好ましくはα０１〜α０５モル
の範囲で使用するのがよい。特に好ましい銅錯化剤は８
−ヒドロキシキノリンである。置換キノリンであって中
ノリンの炭素原子の一つにアルキル又はアリール基を有
する化合物もまた効果がある。

以上、鋼袖覆せられ九印刷回路板を再使用するためＫこ
れからスズ又ははんだをはくシすることについて記載し
てきたが１本発明によるはぐり組成物は他の目的のはく
υにも効果を有する。籍に、印刷回路板上のターミナル
タブははんだによってスプレーしぶきを受けたシ被覆さ
れることもあや、かかる場合にはこのターンナルタブを
金のような貴金属によって被覆して回路が使用される電
子装置中での回路に対する接触を良好ならしめるための
操作に先立って、このはんだをはくシする必要が生ずる
。この際、この貴金属めっきを効果的ならしめるＫｅ′
ｉ、スズ又ははんだを完全に除去又は実質的に完全く除
去しながら、かつ鋼の目立つたはくりが起こらないよう
圧することが特に望ましいのである。

１７ツ化アンモニウムはフッ化ホン素酸の供給源として
市販品として好ましい化合物であるが。

７ツ化アンモニウムのようなアンモニアと７ツ化水素酸
又はその塩との他の活性成分もまた有効であることが判
明してお）、これらの成分の使用もオ九本発明の範囲内
にある。フッ化水素酸は活性な成分であるが、アンモニ
アは７ツ化水素駿を抑制して鋼の侵食を減少又は阻止す
る機能があるようである。使用可能な他のアンモニア／
フッ化水素酸塩又は混合物には、フッ化アンモニア以外
テは７ツ化水木酸とアンモニウムハライドとの混合物が
ある。

過酸化水素は、また、はんだと酸の反応を支援するのに
適し九簡便な酸素源の単なる代表例である。過酸化水素
Ｆｉ市販品では好ましい材料ではあるが、他の適切な酸
ｌＡ源も使用でき、これらの中にはターシャリ−ブチル
ハイドロパーオキシド及びナトリウム又はアンモニウム
パーボレートが包含される。

ｐＨを低減するための酸に関するａりは、硫酸が非常圧
簡便で、かつ好ましいがその他の酸でも有効である。し
かし乍ら塩化水素酸は鋼素地を侵す可能性があるので避
けた方がよい。

８−ヒドキシキノリンの各種の誘導体が有効に使用でき
ゐが、これらには８−ヒドロキシキノリンの中性硫酸塩
（（Ｃ，）Ｉ４ＮＱ１（）２Ｈ２８０４，オルトヒドロ
キシキノリンとして公知〕、フタリルスルファチアゾー
ルの８−ヒドロキシキノリン誘導体、５−スルホ−６−
メチル−８−オキシキノリン及び８−ヒドロキシーキノ
リンーサリシレートが包含される。

これらの化合物は、ここでいう８−ヒドロ中シキノリン
霞導体の部類に属する。

特に好オしいは〈）組成物は１〜４ｏｏＰ／ｌ、すなわ
ち１０〜２００　ｐｉｔ又は５０〜１８０Ｆ／２．特に
好ましくは７０〜１００Ｐ／ｌの過酸化水素（１００係
）と、少なくともＩ　Ｐｉｔ、すなわち２〜３０ｙ／１
．＊に好ましくは２．５〜６り／ｌの安定剤としての８
−ヒドロキシキノリンと、５〜５５０　Ｐｉｔ、すなわ
ち５０〜２００ｐ／ｌ、％に好ましくは８０〜１７０ｆ
／ｌの硫酸と、２０〜６００　Ｐｉｔ、すなわち２００
〜４００１７１％特に好ましくは２５０〜３５０Ｐ／ｌ
のＪ［７ツ化アンモニウムとから成る。

特定した範囲以内の量の上記成分を用いることに加えて
、また各種成分相互間の一定の濃度比率をは〈シ嬉液中
で維持することが重要である。この観点からして、１７
ツ化アンモニウム又Ｆｉ７ツ化物の金属錯化剤に対する
モル比を少なくとも約１２５：１．好ましくは約１２５
〜約２６５：　１の範囲以内にする必要がある。更に加
えて、酸化剤としての過酸化水素の金属錯化剤に対する
モル比は少なくと４，５０：１．好ましくは約５０〜約
１１５：１以内にすべきである。

ｔた重７ツ化アンモニウム又はフッ化アンモニウム（１
７〕化アンモニウムとして計算して）の過酸化水素に対
する重量比は約１２５：１以上に維持すること一７１１
非常に好オしいことも判明した。この重量比は少なくと
も約１５：１がよシ好ましく、最も好ましくは約１８〜
約５（又はそれ以上）＝１である。

硫酸の量は浴のｐＨが約５．３以下になるのに十分な量
であり、しかも鋼素地に対しての溶液による侵食を少し
吃増加させることがない程度に十分に低い製産であるこ
とが好ましい。溶液中の硫酸量は約７５〜約１８５　Ｐ
ｉｔの範囲が最も好ましい。

浴中の酸があｔＤＫも少ないと、緑色の鋼オキシネート
の沈積物及び／又はヌマットが生成するし。

酸が過剰量で存在すれは鋼に対する侵食が増加する。

大部分の好ましい実ｍａａｉにおいて、（ｉＩ酸の金属
錯化剤に対する重量比が少なくとも約３５：１のときに
特に好結果が得られる。最も好ましい硫酸の金属錯化剤
に対する重量比は約３５〜約９５＝１以内である。

次に実施例により本発明を更に詳述する。

実施例１ ガラス繊細強化樹脂製印刷回路基板上の鋼層から、はん
だ（６０優スズ７４０憾鉛）をスプレーは〈シするため
の組成物を次の処方によシ調製した。

過酸化水嵩（１０（１）　　　２．５３％ル　（８０Ｖ
ｔ）重７ツ化アンモニウム　５．２５モル（３００Ｐ／
ｌ）硫　　１１１［１４モル　（１３８Ｖｔ）８−ヒド
ロキシキノリン　α０２１モル（ＩＰ／ｊ）水　　　　
　　　　　　　　１ｔとする量これらの鎖成分を表記の
順序に従って混合し、膜厚２０にクロンのけんだ層を有
する膜厚４０　＜クロンの鋼層を伴なった樹脂製印刷回
路をとの組成液によってスプレーしたが、スプレー温［
２５℃、１分間当ｐはんだ被覆表面の単位面積（−）に
対し約２５ＣＣのネットレートでスプレーした。ここで
のネットレートとははくシせられる表面と接触している
スプレー液の実際の量を意味する。組成物のｐＨＩ／ｉ
４．０であった。はんだ＃−ｉ１分以内に実質的に除去
されたが、鋼に対する目立った侵食はみられず鋼層の膜
厚の減少はなかった。はんだに対する侵食速度は１０ｃ
ｃの溶液が３２ｃｄの印１刷回路をはくシするのく用い
られたまでは実質的に減少しなかった。１ｔの溶液によ
って５２００−の印刷回路をはくりした後でのけくり液
の分析によれば、鉄浴Ｆｉ３２　Ｐ／ｌのスズ、２１１
１／ｌの鉛（大部分は硫酸塩又は７ツ化物として沈澱し
ていた）及びｂｙ、、ｙｔの鋼が含オれていた。

この発明において注意すべきことは被け〈シ面における
ｐＨがスマット生成点以下になっていることを確認しな
ければならない点で、鋼の場合に＃ｉ５．３である。は
〈シ反応中での過酸化水素の存在はけ〈シ中Ｋ　ｐＨを
上昇させる傾向があるので、バルク溶液の初期のｐＨ１
ｉ、　　使用に際しての処理面上のｐＨが上記のような
限界ｐＨ値以上に上昇しないようなｐＨであることを確
認して置くことが必要である。鋼素地の場合には初期の
ｐ）（が４Ｄ以下の場合にスマットの生成が避けられて
効果的なシステムが得られる。

実施例２ 過酸化水素ａＩＩＩｆが１モル、硫酸濃度が１モル及び
８−ヒドロキシキノリン濃度がα０２モルであっ九以外
は実施例１と同様にして類似の浴を調製した・この浴を
実施例１と同一条件下で使用したが同様の結果が得られ
た。

実施例３ 過酸化水素濃度が４．５モル（１５５１／ｌ　）　、硫
酸＃Ｉ縦が２モル（ｆ６４Ｆ／Ｚ）、８−ヒドロキシキ
ノリンのａｍが［１０４モル（５，８４り／ｌ　’）で
あシ重フッ化アンモニウム濃度が５モル（２８５Ｆ／Ｚ
）であった以外は実施例１と同様にして類似の浴を調製
した。この浴を実施例１と同一条件下で使用したが同様
の結果が得られた。

＊總例４ 本発明による化学け〈シ溶液の酸洗い効果を、次表によ
って―摂した英国特許＠１，４９９，９１８号に記載の
溶液と比較した。

溶液人 成　　　　分　　　　　　　　　　組　　　　成過酸化
水索　　　　　　α５８モル（２０Ｐ／ｌ）硫　　鍍　
　　　　　　　　α９２モル（９０ＰＩ３）８−ヒドロ
キシキノリン　１０００７モル（［１１ｐ／Ｚ）水　　
　　　　　　　　　　　１ｔになる必要量実施例１の溶
液中に１分間浸せきした鋼うｉネト印刷回路板を、溶液
Ａ中に１分間浸せきした同じ回路板と比較した。いずれ
の場合もゆるやかに電磁かくはんし良。この処理後、こ
の二つの板の外観はいずれも鋼表面が清浄で僅かにエツ
チングされ、侵食され、酸洗いせられている点くおいて
類似していた。しかし溶液人がα９μｍ／分以上の速度
で鋼を除去したのに対して、実施例１の溶液はわずかに
α０９μｍ／分の銅除去速度であった。

実施例５ 本発明による化学は〈シ溶液のはんだのは〈夛性を実施
例４に記載の溶液人と比較した。その上Ｋ　２０　ｉク
ロン厚のはんだ層を有する４０ｔクロン膜厚の鋼層を伴
なった樹脂印刷回路板を溶液Ａ中に浸せきした。ゆるや
かに磁気かくはんしたが、はんだのはぐりは目立って生
起しなかった。次に一枚の印刷回路板を、ｌ！施何例１
溶液の代わシに溶液人を用いた以外は実施例１と同じく
スプレー処理した。α７μｍ／分のは〈シ速度が観察さ
れたが、実施例１の溶液を用いたときのは〈シ速度は１
４声ｍ／分であった。

本発明の操作を更に説明するために他のは〈シ濤液′ｆ
ｒ第表ＩＫＬ、たがって調製した。ここでＡはｎ、ｏ、
　、　ａＦｉＨ２ｓｏ４．　ｃはＮＨ４）（Ｆ２であシ
、Ｄは８−ヒドロキシキノリンを示す。

画表！ 成分Ｇ／ＬＡ　　　　Ｂ　　　　ＣＤ ６Ｃ実施例）２５０　　　　５°　　　１０７　　　　
　　　　２　　　　５０　　　　　　５　　　　　１０
８　　　　　　　８０　　　１３８　　　３００　　　
　　　３峯 ９　　　　　　　８０　　　１３８　　　３００　　　
　　　５１０　　　　　　　３４　　　　９８　　　３
００　　　　　　３１１　　　　　　１５３　　　１６
４　　　２８５　　　　　　５．８４＊※ １２　　　　　　　８０　　　１３８　　　１９６　　
　　　　３ＩＩｌｌ秦 １３　　　　　　　８０　　　１８４　　　１９６　　
　　　　３＊　　ＮＨ４ＨＰ、の代りＫ　ＮａＦを使用
＊毫　廚、Ａ２の代９に順、Ｆを使用 実施例６は英国特杵第１，４４６，８１６号の実施例１
２に相当する。ま九実施例９ではＮａＦが不溶の範囲に
なるので使用できる溶液の調製ができなかった。

実施例６〜実施例８及び実施例１０〜実施例１３の溶液
のそれぞれを、実施例５の回路板を用いて実施例１に記
載のスプレー法と実施例５に記載の浸せき法を用いて６
０／４０スズ／鉛はんだに対するは〈シ速度を試験した
。更Ｋ、これらの組成を用いてＩＪＩ！施例４に記載の
鋼めっき板を使って鋼素地に対する侵食性試験を実施例
４の如き浸せき法ならびにスプレー法の両方を用いて試
験したが、スプレー法の場合にはスプレーの３１直径の
コーンを通過させて発振した。最後にこれらの実施例の
組成を用いてけ〈シ後の鋼上へのはんだの再析出性を試
験したが、方法は実施例５のように浸せき法とスプレー
法の双方で行なったが、使った回路板は実施例５のもの
よシもはんだ厚さがゎずかに少なかった。スプレーの場
合の結果を第璽表Ｋ、浸せきの場合の結果を第１表に示
した。

第１表 ５ｓ１／ＩＡ例 ６　　　１３　　　α１９　　　　Ａ ７　　　Ｃ８０，５９λ ８１９５　　　α５８　　　　Ｂ １Ｇ　　　１６．４　　　［１０９Ｂ １１　　１６．５　　１１７　　　　Ｂ＋１）Ａ；灰色
スマット　　Ｂ；、スマットなしＣ；縁色鋼オキシネー
ト 第　　璽　　表 実施例 ６　　　　　α６２　　　α０５５　　　　Ａ７　　　
　　　［１６２ＣＬｌｏ　　　　　Ａ８　　　　１１４
　　　　　ｔ５７９　　　　　Ａ１０　　　　１α０　
　　　α３３　　　　Ｃ１１１２，９１，４３Ｂ １２　　　　　１ｔ１　　　　　ｔ０９　　　　　Ｂ０
１３　　　　　７．１　　　　５．８　　　　　　Ｂｔ
ｌｌＡ：灰色スマット　　Ｂ；スマットなしＣ；縁色鋼
オ中シネート 重フッ化アンモニウムの濃度を変えた以外は実施例８に
準拠して追加的なは〈シ溶液を調製した。

これらの液を用いて前記のようにスプレー法ではんだの
は〈〕速度と鋼侵食試験を実施し九。使用した組成と結
果を第■表に示した。

１１１表 はんだのけ〈ｐ量 負總例 １ａ　　　　　　２５　　　　２．４１．０１５　　　
　　５０　　　　　ｉｏ　　　　　０．６１６　　　　
１００　　　　２．８　　　　　α５１７　　　１５ｏ
　　　　１α９　　　　０．４１８　　　　２００　　
　　１α５　　　　α４１９　　　　２５０　　　　１
２．７　　　　　［１４２０３００１９，５α４ ２１　　　　４００　　　　２４８　　　　　α３喪瑚
例１４〜喪瑚例２１のいずれの場合も、はくｐ後のスマ
ットの生成ｒｉ關められなかった。

手続補正書 昭和５７年１２月１７日 特許庁長官殿 （特許庁審査官　　　　　　　　殿） １、事件の表示 昭和５７年特許願第２０５９１６　　号２、発明の名称 金属はくり用組成物及びその方法 ３、　補正をする者 事件との関係　出願人 ４、代理人 住所　東京都港区南青山−丁目１番１号５、　補正命令
の日付（自発） ７、補正の内容 （１）特許請求の範囲の欄を別紙のとおり訂正する。

（２）　　明細書第８頁第１２行目の［・・・・・・と
の結み合わせを・・・・・・」を「・・・・・・との組
み合わせを・・・・・・」と補正する。

（３）同第１０頁第３行目の［・・・・・・は約０．１
〜約１０モル、・・・・・・」を「・・・・・・は約０
．１〜約１０モルの過酸化水素（成分Ａ）、・・・・・
・」と補正する。

（４）　　同第１０頁第４行目の［・・・・・・重フッ
化アンモニウム約０．４〜約１０モル、・・・・・・」
を「・・・・・・重７ツ化ア／モニウム（成分Ｂ）約帆
４〜約１０モル、・・・・・・」と補正する。

（５）　　同第１０頁第７行目の「・・・・・・無機酸
と、・・・・・・」を「・・・・・・無機酸（成分Ｃ）
と、・・・・・・」と補正する。

（６）同第１０頁第７〜８行目の「・・・・・・の８−
ヒドロキシキノリン化合物を少なくζも・・・・・・」
をｒ・・・・・・の８−ヒドロキシキノリン化合物（成
分Ｄ）を少なくとも・・・・・・ｊと補正する。

（７）同第１０頁第１０行目の「・・・・・・本発明の
組成物によれば・・・・・・」の次に 「水素イオン対成分りのモル比は少なくとも１００　：
　１であり、かつ成分Ａ対成分Ｂのモル比は多くても１
：１、せいぜい０．９１８１が好ましく」 を挿入する。

（８）同第１０頁第１１行目の「・・・・・・又は重フ
ッ化アンモニウムの・・・・・・」を「・・・・・・又
は重フッ化アンモニウム（Ｂ）の・・・・・・ｊと補正
する。

（９）同第１０頁第１１行目の「・・・・・・金属錯化
剤・・・・・・」を「・・・・・・金属錯化剤（Ｄ）・
・・・・・」と補正する。

０１　　同第１Ｏ頁第１２〜１３行目の「・・・・・・
過酸化水素の金属錯化剤に対する・・・・・・」を「・
・・・・・過酸化水素（Ａ）の金属錯化剤（Ｄ）に対す
る・・・・・・」と補正する。

αη　同第１０頁下から第５行目の「・・・・・・溶の
ｐＨが・・・・・・」を「・・・・・・浴のｐＨが・・
・・・・」と補正する。

（６）　同第１２頁下から第１行目の［・・・・・・か
かるスマッドの・・・・・・」を「・・・・・・かかる
スマットの・・・・・・」と補正する。

０　同第１５頁第３行目の「・・・・・・フッ化ホン素
酸の・・・・・・」を「・・・・・・フッ化ホウ素酸の
・・・・・・」と補正する。

０４　　同第ｎ頁第７〜８行目の「・・・・・・銅ラミ
ネト印刷回路板を、・・・・・・」を「・・・・・・銅
ラミネート印刷回路板を、・・・・・・」と補正する。

αυ　同第乙頁下から第３〜１行の［ここでＡはＨ２Ｏ
２、Ｂは１（２１３０４、ＣはＮＨ４ＨＦ２であり、Ｄ
は８−ヒドロキシキノリンを示す。ＪをｒここでＡはＨ
２０□、ＢはＮＨ４ＨＦ２であり、ＣはＨ２ＳＯ４であ
りＤは８−ヒドロキシキノリンｔ　示ス。」と補正する
。

０→　同第潤頁の「第表■」を別紙の「第１表」と差し
替える。

以上 ｒ　２、特許請求の範囲 （１）金属性素地からスズ及びスズ−鉛合金を除去する
のに適した化学はく゛り用水性組成物であって次のもの
： Ａ、約０．１〜約１０モル／ｌの過酸化水素、Ｂ、約０
．４〜約１０モル／ｌの重フッ化アンモニウム又はフッ
化アンモニウム、 Ｃ１金属表面上にスマットが生成したり、金属性表面の
金属から成る化合物や金属錯化剤化合物が金属面に析出
するようなｐＨの限界値以下に被はくり面上の溶液のｐ
Ｈを維持するような量の酸、及び り、少なくとも０．００５モル／ｌの金属錯化剤化合物
としての８−ヒドロキシキノリン化合物 から成る水性溶液から成る組成物。

物であって次のもの二 ン化合物 ン化合物 である） から成る水性溶液から成る組成物。

（４）成分Ｂが重フッ化アンモニウムであり、成分Ｃが
硫酸であり、うかつ成分りカニ８−ヒドロキシキノリン
であることを特徴とするれかに記載の組成物。

（５）成分Ｂの成分りに対するモル比が約１２５〜２６
５　：　１であり、かつ成分Ａの成分りに対するモル比
が約関〜１１５　：　１であることを特徴とする特許請
求の範囲第４項に記載の組成物。

（６）成分Ｂの成分Ａに対する重量比が約１．２５：１
以上であることを特徴とする特許請求の範囲第４項に記
載の組成物。

（７）成分Ｂの成分Ａに対する重量比が約１．８〜５．
０　：　１であることを特徴とする特許請求の範囲第５
項に記載の組成物。

（８）成分Ｃの成分りに対する重量比が約あ：１以上で
石゛ることを特徴とする特許請求の範囲第６項に記載の
組成物。

（９）成分Ｃの成分りに対する重量比が約３５〜９５：
１であることを特徴とする特許請求の範囲第７項に記載
の組成物。

００　　成分Ａが約１〜約６モル／ｌ、成分Ｂが約２〜
約７モル／１．成分Ｃが約０．１〜約４モル／を及び成
分りが約０．０１〜約０．１モル／ｌの量で含有せられ
ることを特徴とする特許請求の範囲第４項に記載の組成
物。

０］）成分Ａが約関〜約１８０ｆ／ｌ、成分Ｂが約２５
０〜約３５０　ｆ／ｌ　、成分Ｃが約（イ）〜約１７０
ｙ７ｔであり、また成分りが約２．５〜約６ｙ／Ｌの量
で含有せられることを特徴とすＱ４　　成分Ｂの成分り
に対するモル比が約１２５〜２６５　：　１であり、か
つ成分Ａの成分りにの方法。

約０．１モル／ｌの量で含有せら−れることを特徴とす
る特許請求の範囲第１３項に記載の方法。

第１表 成分　Ｇ／Ｌ　　　Ａ　　　　Ｂ　　　　ｃ　　　　Ｄ
６（実施例）　　　　　２　　　５０　　　　５’ｌＯ
７２５５０１０ ８８０１３８３００３ ※ ９　　　８０　１３８　３００　３ １０　　　３４　９８　３００　３ １１　　　１５３　１６４　２８５　５．８４Ｘ× １２　　　８０　１３８　１９６　３ ※※ １３　　　８０　１８４　１９６　３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）金属性素地からスズ及びスズ−鉛合金を除去する
   のに適した化学はくり用水性組成物であって次のもの： 人、約α１〜約１０モル／ｌの過酸化水素。 Ｂ、約０．４〜約１０モル／ｌの重フッ化アンモニクム
   又はフッ化アンモニクム。 Ｃ１金属表面上にスｉットが生成したシ、金属性表面の
   金属から成る化合物や金属錯化剤化合物が金属面に析出
   するよりなｐ）（の限界値以下に被は〈多面上の溶液の
   ｐＨを繍持するような量の酸、及び り、少なくともα００５モル／ｌの金属錯化剤化合物と
   しての８−ヒドロキシキノリン化合物（ここで成分Ｂの
   成分ＤＫ対するモル比が少なくとも１２５：１であ〕、
   かつ成分人の成分りに対するモル比が少なくとも５０：
   １である）から成る水性溶液から成る組成物。 （２）成分Ｂが重７ツ化アンモニウムであり、成分Ｃが
   硫酸であ〕、かつ成分りが８−ヒドロ千ノ中ノリンであ
   ることを特徴とする特許請求のｆＩａ囲第１項に記載の
   組成物。 Ｂ）　成分Ｂの成分ＤＫ対するモル比が約１２５〜２６
   ５：１であシ、かつ成分人の成分ＤＫ対するモル比が約
   ５０〜１１５：　１であることを特徴とする特許請求の
   範囲第２項に記載の組成物。 （４）成分Ｂの成分人に対する重量比が約１２５＝１以
   上であることを特徴とする特許請求の範ｇ第２項に記載
   の組成会。 （５）成分Ｂの成分ＡＫ対する重量比が約１８〜５．０
   ：１であることを特徴とする特許請求の範ｉ！ＩＪｌｌ
   ＩＡ項に記載の組成物。 込）　成分Ｃの成分ＤＫ対する重量比が約３５＝１以上
   であることを特徴とする特杵諸求の範囲第４項に記載の
   組成物。 （ハ　成分Ｃの成分りに対する重量比が約３５〜９５＝
   １であることを特徴とする特許請求のＩ！囲第５ＪＪＩ
   Ｋ記載の組成物。 佑）　成分Ａが約１〜約６モル／１．成分Ｂが約２〜約
   ７毫ル／１．成分Ｃが約０．１〜約４モル／を及び成分
   りが約α０１〜約α１モル／ｌの量で含有せらすること
   を特徴とする特許請求の範囲第２項に記載の組成物。 （９１成分人が約５０〜約１８０Ｐ／ｌ、成分Ｂが約２
   ５０〜約３５０Ｆ／ｌ、成分Ｃが約８０〜約１７０Ｐ／
   ｌであり、筐走成分りが約２．５〜約６１！／ｌの量で
   含有せられることを特徴とする特許請求の範囲第７項に
   記載の組成物。 （１０）金属性素地からスズ及びスズ−鉛合金はんだを
   はくシする方法であって、はんだ皮膜を有する素地を特
   許請求の範囲第１項に記載の組成物と。 該素地には侵食を与えずに咳はんだの実質的全量を除去
   するのに十分な時間帯に亘って接触させることから成る
   はくり方法。 （１１）　を分Ｂが重フフ化アンモニウムであシ、成分
   Ｃが＊＊＊であ夛、かつ成分りが８−ヒドロキシキノリ
   ンであることを特徴とする特許請求の範囲第１０項に記
   載の方法。 （１２）成分Ｂの成分りに対するモル比が約１２５〜２
   ６５：１であ）、かつ成分Ａの成分ＤＫ対するモル比が
   約５０〜１１５：１　であることを特徴とする特許請求
   の範囲Ｍ１１項に記載の方法。 （１３）成分Ｂの成分人に対する重量比が約１２５：１
   以上であることを特徴とする特許請求の範囲第１１項に
   記載の方法。 （１４）成分Ｂの成分ＡＫ対する重量比が約１８〜５．
   ０：１であることを特徴とする特許請求の範囲第１２墳
   に記載の方法・ （１５）成分Ｃの成分りに対する電量比が約３５：１以
   上であることを特徴とする特許請求の範囲＠１３項に記
   載の方法。 （１６）成分Ｃの成分りに対する重量比が約３５〜９５
   ：１であることを特徴とする特許請求の範囲第１４項に
   ！ｌ１ｌｌ！載の方法。 （１７）成分Ａが約１〜約６モル／１．成分Ｂが約２〜
   約７モル／ｌ、成分Ｃが約α１〜約４モル／ｌであり。 かり成分りが約α０１〜約０．１モルμの量で含有せら
   れることを特徴とする特許請求の＠囲嬉１１項に記載の
   方法。 （１８）成分Ａが約５０〜約１８０Ｆ／ｌ、成分Ｂが約
   ２５０〜約５５０　ｆ／ｌ　、成分Ｃが約８０〜約１７
   ０Ｐ／ｌであり、かつ成分りが約２．５〜約６　ｆ／ｌ
   の量で含有せられることを特徴とする特許請求の範囲第
   １６項に記載の方法。