JPS589588B2 - コウソクドモノリシツク ダ−リントン トランジスタ - Google Patents
コウソクドモノリシツク ダ−リントン トランジスタInfo
- Publication number
- JPS589588B2 JPS589588B2 JP49076133A JP7613374A JPS589588B2 JP S589588 B2 JPS589588 B2 JP S589588B2 JP 49076133 A JP49076133 A JP 49076133A JP 7613374 A JP7613374 A JP 7613374A JP S589588 B2 JPS589588 B2 JP S589588B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transistor
- base
- emitter
- region
- mdt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Bipolar Transistors (AREA)
- Bipolar Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高速度モノリシック・ダーリントン接続トソ
ンジスタの構造に関する。
ンジスタの構造に関する。
モノリシツク・ダーリントン接続のトランジスタ(本明
細書においては以下MDTと略記する。
細書においては以下MDTと略記する。
)は、一般に第1図に示すように、第1および第2のト
ランジスタTry、Tr2からなり、第1のトランジス
タT r 1のベースと第2のトランジスタT r 2
のベース間に抵抗R,が接続され、また第2のトランジ
スタTr2のベース・エミツタ間に抵抗R2が接続され
、さらにベース電極B1コレクタ電極C1エミツタ電極
Eを有しており、それらが一つの能動素子を形成してい
る。
ランジスタTry、Tr2からなり、第1のトランジス
タT r 1のベースと第2のトランジスタT r 2
のベース間に抵抗R,が接続され、また第2のトランジ
スタTr2のベース・エミツタ間に抵抗R2が接続され
、さらにベース電極B1コレクタ電極C1エミツタ電極
Eを有しており、それらが一つの能動素子を形成してい
る。
このようなMDTの構造を第2図に示す。
1はトランジスタT r 1およびTr2のコレクタ領
域であり、2はトランジスタTrlおよびT r 2の
ベース領域である。
域であり、2はトランジスタTrlおよびT r 2の
ベース領域である。
3はトランジスタTr)のエミツタ領域、4はトランジ
スタT r 2のエミツタ領域である。
スタT r 2のエミツタ領域である。
5は抵抗R26は抵抗R1、7は表面保護膜であり、8
,9,10はそれぞれベース電極金属、トランジスタT
r HのエミツタとトランジスタTr2のベースを接
続する内部電極金属、エミツタ電極金属である。
,9,10はそれぞれベース電極金属、トランジスタT
r HのエミツタとトランジスタTr2のベースを接
続する内部電極金属、エミツタ電極金属である。
以上のような構造を有するMDTはスイッチング速度の
点で下記のような欠点がある。
点で下記のような欠点がある。
実動作時においては、Tr2のベースにはTr1のエミ
ツタ電流IBIが流れる。
ツタ電流IBIが流れる。
■E1はTr,のベース電流IB1を}IFE+ (T
r,の増幅率)倍したものでかなり大きな電流となる。
r,の増幅率)倍したものでかなり大きな電流となる。
すなわち、第2図に示す如く、NPN型MDTにおいて
はTr2のエミッタ領域4の周辺ζこTr1のエミツタ
領域3より多くの電子が注入されている。
はTr2のエミッタ領域4の周辺ζこTr1のエミツタ
領域3より多くの電子が注入されている。
Tr1のエミツタ・ベース間が逆バイアスされMDTが
スイッチ・オフされた場合、上記の電子はすみやかに、
Tr,のベース電極8を通じて逃げることができない状
態となる。
スイッチ・オフされた場合、上記の電子はすみやかに、
Tr,のベース電極8を通じて逃げることができない状
態となる。
このためスイッチング速度を速くすることは困難であっ
た。
た。
そこで回路的には、第3図の回路図に示すごとく、Tr
1のベースとT r 2のベースの間にダイオードを結
線することによりTr2のベースに蓄積されたチャージ
を逃がす回路方式が考案されたが、そのためにはダイオ
ードを外部回路で挿入したり、ハイブリットの形で挿入
する必要があった。
1のベースとT r 2のベースの間にダイオードを結
線することによりTr2のベースに蓄積されたチャージ
を逃がす回路方式が考案されたが、そのためにはダイオ
ードを外部回路で挿入したり、ハイブリットの形で挿入
する必要があった。
本発明の目的は、上記した従来の構造によるスイッチン
グ速度の遅いMDTの欠点を取り除き、しかもダイオー
ドを挿入することなしに、第3図の回路図に示したと同
一の効果をもつような新しいMDTの構造を提供するに
ある。
グ速度の遅いMDTの欠点を取り除き、しかもダイオー
ドを挿入することなしに、第3図の回路図に示したと同
一の効果をもつような新しいMDTの構造を提供するに
ある。
上記目的を達成するために、本発明の高速度モノリシツ
ク・ダーリントン・トランジスタは第2のトランジスタ
のベース領域の一部に、第2のトランジスタのエミツタ
領域とは分離して設けられ上記エミツタ領域と同一導電
形を有する分離エミツタ領域と、該分離エミツタ領域と
第1トランジスタのベース領域を半導体表面上で結合す
る導体を含むことを要旨とする。
ク・ダーリントン・トランジスタは第2のトランジスタ
のベース領域の一部に、第2のトランジスタのエミツタ
領域とは分離して設けられ上記エミツタ領域と同一導電
形を有する分離エミツタ領域と、該分離エミツタ領域と
第1トランジスタのベース領域を半導体表面上で結合す
る導体を含むことを要旨とする。
以下に本発明を附図を用いてより詳細に説明する。
第5図は本発明による高速モノリシツク・ダーリントン
・トランジスタの平面図で、第4図は第5図のA−A’
線に沿って切った断面図である。
・トランジスタの平面図で、第4図は第5図のA−A’
線に沿って切った断面図である。
図において、1は第1図のトランジスタTr1およびT
r 2のコレクタ領域となるべきシリコン半導体、2
はトランジスタT r 1およびT r 2のベース領
域、3はトランジスタT r 1のエミツタ領域、5は
抵抗R2、6は自動的にTr1のエミツタ領域3下に形
成される抵抗R1である。
r 2のコレクタ領域となるべきシリコン半導体、2
はトランジスタT r 1およびT r 2のベース領
域、3はトランジスタT r 1のエミツタ領域、5は
抵抗R2、6は自動的にTr1のエミツタ領域3下に形
成される抵抗R1である。
7は選択拡散時のマスクとなるシリコン酸化膜、8はヘ
ース電極、9はトランジスタTrlのエミツタとトラン
ジスタTr2のベースを結ぶ内部電極、10はエミツタ
電極、11は両エミツタ形成時に同時にトランジスタT
r 2のエミツタの周囲に形成された分離エミツタ領
域であり、ベース電極8によりトランジスタT r 1
のベース領域と導線によって結ばれている。
ース電極、9はトランジスタTrlのエミツタとトラン
ジスタTr2のベースを結ぶ内部電極、10はエミツタ
電極、11は両エミツタ形成時に同時にトランジスタT
r 2のエミツタの周囲に形成された分離エミツタ領
域であり、ベース電極8によりトランジスタT r 1
のベース領域と導線によって結ばれている。
このような構造を有する本発明のMDTにおいては、回
路的には第3図と同じように働き、MDTのベース・エ
ミツタが逆方向にバイアスされた場合は、Tr2のベー
ス中に蓄積されたキャリアはすみやかにダイオードを通
じてT r 1のベースより放出される。
路的には第3図と同じように働き、MDTのベース・エ
ミツタが逆方向にバイアスされた場合は、Tr2のベー
ス中に蓄積されたキャリアはすみやかにダイオードを通
じてT r 1のベースより放出される。
また、構造的には、第4図および第5図に示したように
、実動作時にT r 2のエミツタ領域4の周辺のベー
ス領域2に蓄積されたキャリアは、MDTのペース エ
ミツタが逆バイアスされた時、Tr2のベース領域2と
エミツタ領域の周辺をとりまいて形成された分離エミツ
タ領域11は順方向となるため、Tr2のベース領域2
に蓄積されたキャリアはすみやかに消滅する。
、実動作時にT r 2のエミツタ領域4の周辺のベー
ス領域2に蓄積されたキャリアは、MDTのペース エ
ミツタが逆バイアスされた時、Tr2のベース領域2と
エミツタ領域の周辺をとりまいて形成された分離エミツ
タ領域11は順方向となるため、Tr2のベース領域2
に蓄積されたキャリアはすみやかに消滅する。
分離領域はエミツタの周辺に形成されているのでベース
領域に蓄積されたキャリアは最短の径路で消滅rること
かできる。
領域に蓄積されたキャリアは最短の径路で消滅rること
かできる。
このため非常に高速度なスイッチング速度のMDTとな
る。
る。
かつ本発明の構造を有するMDTは外部回路でダイオー
ドを挿入したり、ハイブリッドの形でダイオードを挿入
したりして製造されたMDTに比較して単一の半導体基
体で形成されているため、高信頼性を得ることができる
。
ドを挿入したり、ハイブリッドの形でダイオードを挿入
したりして製造されたMDTに比較して単一の半導体基
体で形成されているため、高信頼性を得ることができる
。
また、製造工程は従来の製造工程となんら変るところが
ない。
ない。
以上述べたように本発明に示すMDTの新しい構造はス
イッチング特性をはじめ、生産面、信頼性の面で非常に
優れた高速度モノリシツク・ダーリントン・トランジス
タを提供するものである。
イッチング特性をはじめ、生産面、信頼性の面で非常に
優れた高速度モノリシツク・ダーリントン・トランジス
タを提供するものである。
第1図はMDTの接続構成を示す回路図、第2図は従来
の製造方法によるMDTの断面図、第3図は本発明のM
DTの接続構成を示す回路図、第4図、第5図は本発明
の高速度モノリシツク・ダーリントン・トランジスタの
構造を示し、第5図はMDTの平面図、第4図は第5図
のA−A′の断面図である。 図面中同一符号は同一部分または相当部分を示す。 1:コレクタ領域、2:ベース領域、3,4:エミツタ
領域、5:R2抵抗体、6:R1抵抗領域、7:表面保
護膜、8:ベース電極、9:内部電極、10:エミンタ
電極、11:分離エミツタ領域。
の製造方法によるMDTの断面図、第3図は本発明のM
DTの接続構成を示す回路図、第4図、第5図は本発明
の高速度モノリシツク・ダーリントン・トランジスタの
構造を示し、第5図はMDTの平面図、第4図は第5図
のA−A′の断面図である。 図面中同一符号は同一部分または相当部分を示す。 1:コレクタ領域、2:ベース領域、3,4:エミツタ
領域、5:R2抵抗体、6:R1抵抗領域、7:表面保
護膜、8:ベース電極、9:内部電極、10:エミンタ
電極、11:分離エミツタ領域。
Claims (1)
- 1 ダーリントン・トランジスタにおいて、第2のトラ
ンジスタのベース領域の一部に第2のトランジスタのエ
ミツタ領域とは分離し、エミッタ領域と同一導電型であ
って、かつ第2のトランジスタのエミツタ領域の周囲に
設けられた分離エミッタ領域と、該分離エミツタ領域と
第1のトランジスタのベース領域を半導体表面上で結合
する導体を含むことを特徴とする高速度モノリシック・
ダーリントン・トランジスタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP49076133A JPS589588B2 (ja) | 1974-07-02 | 1974-07-02 | コウソクドモノリシツク ダ−リントン トランジスタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP49076133A JPS589588B2 (ja) | 1974-07-02 | 1974-07-02 | コウソクドモノリシツク ダ−リントン トランジスタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS514979A JPS514979A (ja) | 1976-01-16 |
| JPS589588B2 true JPS589588B2 (ja) | 1983-02-22 |
Family
ID=13596440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP49076133A Expired JPS589588B2 (ja) | 1974-07-02 | 1974-07-02 | コウソクドモノリシツク ダ−リントン トランジスタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS589588B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63158674U (ja) * | 1987-04-06 | 1988-10-18 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5329515A (en) * | 1976-08-31 | 1978-03-18 | Sanyo Electric Co | Pulse motor driving device |
-
1974
- 1974-07-02 JP JP49076133A patent/JPS589588B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63158674U (ja) * | 1987-04-06 | 1988-10-18 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS514979A (ja) | 1976-01-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3755722A (en) | Resistor isolation for double mesa transistors | |
| JPH049378B2 (ja) | ||
| JPS589588B2 (ja) | コウソクドモノリシツク ダ−リントン トランジスタ | |
| US3702947A (en) | Monolithic darlington transistors with common collector and seperate subcollectors | |
| JPH0231426A (ja) | バイポーラトランジスタ | |
| JPH0513377B2 (ja) | ||
| JPS586161A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS6239830B2 (ja) | ||
| JP3279269B2 (ja) | ヘテロ接合バイポーラトランジスタ及びその製造方法 | |
| JPH0236277Y2 (ja) | ||
| JPS5925389B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JPS5882562A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS60138963A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH0333067Y2 (ja) | ||
| JPS627705B2 (ja) | ||
| JPH0581171B2 (ja) | ||
| JPS6343370A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JPS596573A (ja) | 横型バイポ−ラトランジスタ | |
| JPH0714003B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JPS6080268A (ja) | 半導体集積回路装置の製造方法 | |
| JPS6262063B2 (ja) | ||
| JPS6142165A (ja) | 半導体注入集積論理回路装置 | |
| JPH02152241A (ja) | 集積回路装置 | |
| JPH0221639A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS58212171A (ja) | 半導体装置 |