JPS5894134A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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Publication number
JPS5894134A
JPS5894134A JP18990081A JP18990081A JPS5894134A JP S5894134 A JPS5894134 A JP S5894134A JP 18990081 A JP18990081 A JP 18990081A JP 18990081 A JP18990081 A JP 18990081A JP S5894134 A JPS5894134 A JP S5894134A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cooling
base body
thin film
film layer
magnetic thin
Prior art date
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Pending
Application number
JP18990081A
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English (en)
Inventor
Soichi Matsuzaki
松崎　壮一
Minoru Osada
実 長田
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Lincstech Circuit Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Condenser Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Condenser Co Ltd filed Critical Hitachi Condenser Co Ltd
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Publication of JPS5894134A publication Critical patent/JPS5894134A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C23C14/5806—Thermal treatment
    • G—PHYSICS
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    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
プラスチックフィルム等の基体に真空蒸着やイオンブレ
ーティング等によりコバルト等の強磁性体金属を付着し
て磁性薄膜層を形成した磁気記録媒体が、記録密度が従
来の磁性体を塗布したものに比べて遥かに高いため、テ
ーブレフーダ等に用いられるようになってきた。
ところで、このような磁気記録媒体は、基体と磁性薄膜
層とに熱収縮の差があり、一般的に後者の方が大きく、
そのため磁性薄膜層の方にカールするような欠点があっ
た。磁気記録媒体が一方にカールすると、装置に組み込
んだ場合磁気へ、）゛との接触性が劣化するため再生が
低下したり、走行性や啓き取りが悪くなる欠点があり、
その改善が望まれていた。
本発明は１以上の点に鑑み、基体のカールを防止しつる
磁気記録媒体の製造方法の提供を目的とするものである
。
本発明は、上記の目的を達成するために、基体に強磁性
体金属の磁性薄膜層を形成した後、該磁性薄膜層面を冷
却しながら、前記磁性薄膜層面の反対側の基体面を加熱
することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供す
るものである。
以下９本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
図は本発明の実施に用いる装置の断面図を示す。
１は真空容器であり、任意の真空度に保持されている。
２は供給ローラであり、ボリエヌテルやポリプロピレン
等のプラスチックフィルムからなる帯状の基体６を供給
するものである。４は第１冷却キヤンである。５は第２
冷却キヤンであり。
基体３は第１冷却キヤ／４と接触した面と反対側の面が
接触するようになっている。６は各処理後の基体６を巻
取るための巻取ローラである。７゜８及び９はガイドロ
ーラである。１０はコバルト等の強磁性体金属１１の収
容されている蒸発源であり第１冷却キヤン４の下方で供
給ローラ２よりに配置されている。１２は平板状のマス
クであり第１冷却キヤン４の真下に配置されている。ま
た、１３は加熱用抵抗体であり、第２冷却キヤン５の真
上に配置されている。
すなわち、基体３が供給ローラ２がら供給され第１冷却
キヤン４まで走行する間に、蒸発源ｔｏの加熱によって
強磁性体金属１１が蒸発し、この蒸発した強磁性体金属
が基体３０法線に対して所定の角度で斜めに付着する。
基体３．にはこの強磁性体金属１１の付着によって磁性
薄膜層が形成され、第１冷却キヤン４に磁性薄膜層と反
対側の基体面が接触し冷却されることによって、基体ろ
に磁性薄膜層が強固に密着する。そして磁性薄膜１が形
成された後、基体ろは第２冷却キヤン５まで走行される
。基体３は第２図に示す通り、この第２冷却キヤン５に
磁性薄膜面１４が接触し冷却されろ。さらに第２冷却キ
ヤン５の真上に配置されている加熱用抵抗体１３の作用
により基体乙の磁性薄膜面１４と反対側の面１５が加熱
され、この面１５が熱収縮する。基体３は、第２冷却キ
ヤン５の所で冷却と加熱の施された後、ガイドローラ８
及び９にガイドされて巻取口〜う６に巻取られる。
すなわち、基体３に磁性薄膜層を形成した後。
第１冷却キヤ／４により磁性薄膜層面１４の方に基体６
がカールするのを防止するために、基体ろを第２冷却キ
ヤン５と加熱用抵抗体１５との間を走行させて、第１冷
却キヤン４とは逆に、磁性薄膜層面１４を冷却し反対面
１５を加熱し、これによって磁性薄膜層面１４と反対側
の面１５を熱収縮するものである。
なお１本発明においては、基体の磁性薄膜層面と反対側
の面を加熱すればよく、その手段は、加熱用抵抗体に限
らず、コロナや、アーク、グロー放電等を用いても同様
な効果が得られる。
以上の通り１本発明によれば、磁気記録媒体のカール不
良を防止できるので、テープレフ−ダ等の装置に用いた
場合、磁気ヘッドとの接触が改善され、再生が向上し、
走向性や巻取りも改善される等の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の実施に用いる装置の断面図。 第２図は第１図の一部の正面図を示す。 ３・・・・・・基体、５・・・・・・第２冷却キヤ／。 １０・・・・・−蒸発源、１１・・・・・強磁性体金属
。 １３・・・・・・加熱用抵抗体、１４・・・・・・磁性
薄膜層面。 １５・・・・・・磁性薄膜層面と反対側の面。 第１１１ 第２図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ｔｌｌ　　基体に強磁性体金属の磁性薄膜層を形成しつ
    る磁気記録媒体の製造方法において、基体に強磁性体金
    属の磁性薄膜層を形成した後。 該磁性薄膜層面を冷却しながら前記磁性蒲嘆面の反対側
    の基体面を加熱することを特徴とする磁気記録媒体の製
    造方法。
JP18990081A 1981-11-28 1981-11-28 磁気記録媒体の製造方法 Pending JPS5894134A (ja)

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JP18990081A JPS5894134A (ja) 1981-11-28 1981-11-28 磁気記録媒体の製造方法

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JP18990081A JPS5894134A (ja) 1981-11-28 1981-11-28 磁気記録媒体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5894134A true JPS5894134A (ja) 1983-06-04

Family

ID=16249068

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18990081A Pending JPS5894134A (ja) 1981-11-28 1981-11-28 磁気記録媒体の製造方法

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JP (1) JPS5894134A (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5423506A (en) * 1977-07-22 1979-02-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production of magnetic recording media

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5423506A (en) * 1977-07-22 1979-02-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production of magnetic recording media

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