JPS5892531A - 高分子フイルムの熱処理方法 - Google Patents

高分子フイルムの熱処理方法

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JPS5892531A
JPS5892531A JP19076481A JP19076481A JPS5892531A JP S5892531 A JPS5892531 A JP S5892531A JP 19076481 A JP19076481 A JP 19076481A JP 19076481 A JP19076481 A JP 19076481A JP S5892531 A JPS5892531 A JP S5892531A
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Japan
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aromatic polyamide
heat treatment
polymer
high molecular
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JP19076481A
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Junichi Tamura
順一 田村
Tsutomu Nakamura
勤 中村
Jirou Sadanobu
治朗 定延
Kojitsu Hiroki
広木 功実
Keizo Shimada
島田 恵造
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Teijin Ltd
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Teijin Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高分子フィルムを効率よ〈熱処理し性能のよい
高分子フィルムの製造法Kllするものである・ 更に詳しくは、特定波長の近赤外線を高分子フィルムに
短時間照射処理することによって機械的物性等のすぐれ
た高分子フィルムを得る技術に係るものである。
高分子フィルムは通常、溶融押出、m延乾燥。
湿式等O製膜成形後−軸又は二軸方向に延伸しこれにつ
づいて結晶化を目的とした熱処理が施さるのが一般的な
製造方法である。
この内、熱処理工程に着目した場合高分子フィルムの高
性能化が一段と進んできた今日、その素材高分子もより
ガラス転移温度(二次転位点)の高いものが対象として
とシあげられる傾向があり、熱処理温度もいきおい高温
領域が必要となってきているのが現状である。
N エバs p  フェニレンテレフタルアミド系。
ハロゲン置換P−フェニレンテレフタルアミド系* m
  フェニレンテレ7タルアミ)”系、P−フェニレン
インフタルアミド系およびm−フェニレンイソ7タルア
ミド系の芳香族ポリアミドあるいは全芳香族ポリエステ
ルは耐熱性に極めてすぐれた高分子素材として各種の広
い用途展開がなされ近年特に注目されているが、これら
の高分子素材は二次転位点が高く、結晶熱固定を有効に
実施するためには少なくとも200℃以上の高温が必要
とされている。
該高温領域の熱処理を実施するには、通常の熱風熱処理
方式では、装置的、エネルギー的に種々の問題点があり
製造コストも高くなり、工業生産的に一つのネックポイ
ントとなっているのが現状の技術水準でもある。
した、かってこの高温領域に於ける熱処環工機で装置的
、エネルギー的に有利な技術開発がなされた場合、その
意義は極めて大きいものがある。
本発明者らは、これらの諸問題を考え合せ、工業生産的
に有利な熱処理方法を鋭意検討した結果、特定波長の近
赤外線を比較的短時間照射する事によって高分子フィル
ムが効率よく熱処理される事実を見出し、本発明に到達
したものである。
すなわち、本発明は 波長α7〜3μの近赤外線を少なくともlチ以上吸収す
る高分子フィルムに該近赤外線をα1秒〜180秒間照
射熱処理する事を特徴とする為分子フィルムの熱処理方
法である。
本発明方法の波長α7〜3μの近赤外線照射による熱処
理方法はふく射エネルギーを当該高分子フィルムが吸収
し発熱昇温するものであって、極めてエネルギー効率が
高いのみならず1局所部分に照射することによって短時
間内に急速昇温及び急速冷却が可能である。
従って本発明方法を採用する事によっては、分解点(T
d)と融点(Tm )の近接した高分子フイ4・ムを融
点近い熱処理も充分実施可能であり極めて興味深い新規
技術内容を持っている。事実該高分子フィルムに本発明
方法による熱処理を施した場合、驚くべき事に初期ヤン
グ率が著しく向上する事実が認められ、本発明方法の今
一つの意義が明確となった。
すなわち、本発明方法は (1)  高分子フィルムが少なくとも100℃以上の
二次転位点を持つ場合、さらには (2)  高分子フィルムの融点が200℃以上であり
そのTd(分解点)−Tm(融点)=△TのΔj、;S
50℃以下である高分子フィルムの場合、 K特に有効かつ意義深い技術を提供するものである。二
次転位点が少なくとも100℃以上の高分子フィルムの
代表的なものとしては ポリカーボネート、ポリエーテル・エーテルケトン、全
芳香族ポリエステル、芳香族ポリアミド、芳香族ポリイ
ミドおよび芳香族ポリアミドイミド等があげられる。
これらの高分子素材からなる高分子フィルムを短時間み
つ効率よく熱処理することが本発明方法を採用すること
によって可能となるが、本発明方法のさえたる実施態様
は高分子素材の融点(Tm)と分解点(Tg)が近接し
ている高分子フィルムを融点近くの高温で熱処理を試み
る点にある。すなわちTd(分解点)−Tm(融点)=
ΔTのΔTが50℃以下である高分子フィルムをTm近
くの高温で効率よ〈熱処理する方法は波長α7〜3μの
近赤外線を1チ以上吸収する該高分子フィルムに本発明
方法を適用する事によってはじめて可能となり、蚊処理
によって機械的物性が予想外に著しく向上する。
かかる高分子素材の代表的なものとしては芳香族ポリア
ミド系重合体があけられる。
芳香族ポリアミドは前述した如くすぐれた耐熱性、難燃
性および機械的性質を“有しており、P−フェニレンテ
レフタルアミド系1m−フェニレンイソフタルアミド系
等の重合体は繊維。
合成紙等の分野で各種の広い用途展開がなされ近年特に
注目されている高分子素材である。
しかしながら芳香族ポリアミドは一般的に二次転位点が
高く、かつポリマーの融点が高いのみならず、その分解
点とが近接している丸め高分子フィルムを製造するには
種々の問題点が残されており、芳香族ポリアミドフィル
ムの満足すべき工業的生産技術は完成されていないのが
実状である。
特に該高分子フィルムの結晶熱処理工程は少なくとも2
00℃以上の高温が必要であり、装置的、エネルギー的
に不利であるとされていた。
しかるに本発明方法を採用し九場合には短時間局部高温
加熱が原理的に可能であるので装置的にも経済的にも極
めて有利な熱処理方法を提供するものである。
更に短時間に局部加熱、急速冷却が可能な本発明方法を
採用することによって融点と分解点の近接した芳香族ポ
リアミドフィルムを融点附近の高温処理が可能とな#)
%かつ該処理によって予期し得ない機械的物性の向上が
達成されるのである。
すなわち、一般的に高分子フィルムの熱処理は二次転位
点以上の高温で実施されるものであるが、更に融点近く
の高温で短時間処理する事が可能であるならば結晶サイ
ズのコントロールもあるS*可能となり1機械的物性の
著しい向上も期待されるところであるが、従来の熱処理
方法すなわち雰囲気加熱(熱風方式)方法では高温領域
ではそのエネルギーがばく大に必要とされるのみならず
、装置の耐熱性、耐久性が問題となり実用上、極めて採
用し難いものがある。
更には高分子フィルムの一般的特徴として高温処理中に
空気酸化のため、好ましくない影響を与える場合が少な
くない。いわんや分解点(T+)と融点(Tm)の近接
しているもの、すなわちTd −Tm=ΔTのΔTが5
0℃以下の高分子フィルムにあって、従来の熱風式熱処
理方法では高分子の部分的分解を伴う事は避は難〈実施
する事は不可能であったのである。
しかるに本発明方法では近赤外線を高分子フィルムが吸
収し、高分子フィルム自体が極めて短時間内に高温に違
し、近赤外線の吸収のないゾーンでは急速に冷却され高
分子の分解を伴う事なく高温熱処理が達成される訳であ
る。勿論熱処理ゾーン全体の雰囲気は室温附近に保持さ
れ、熱処理に賛するエネルギー以上のむだな熱の放散は
なく極めて省エネルギー型熱処理方式であり、装置態様
も簡単である。
かかる観点から、前述した如(Td −Trn−ΔT〈
50℃の芳香族ポリアミド系フィルムの場合には本発明
ti特に際立った効果を発揮するが理解出来る。
かかる芳香族ポリアミド系重合体としては一般式 で示された繰返し構造単位を単独、又は共重合の形で含
む芳香族ポリアミド系重合体であシ。
好ましくは該構造単位を75モル嗟以上含む芳香族ポリ
アミド系重合体があげられる。
ここにArl+ Arl+ ArIは同一であっても異
なっていてもよく、その代表的な本のとして次の構造式
を有する。
ここにおいてaは低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ
ゲンあるいはニトロ基であ夛、nは0および4を含む0
〜4の整数であり、Xは1種であって、ここにYri水
素あるいは低級アルキル基を示す。
かかる芳香族ポリアミドを製造する方法としては (1)溶液重合法(例えば特公1835−143’39
号公報)(2)  界面重合法(例えば特公昭35−1
3247号公報)(3)  ブレポリマー溶液重合法(
例えば特販1@54−46745号)等の通常の方法を
用いて得る事が出来る。
更に本発明方法の熱処理に用いる皺芳香族ポリアミドフ
ィルムを製造する方法としては(1)  乾式−湿式製
膜法 (2)  湿式mm法 がその代表的なものとしてあげられる。
乾式−湿式製膜法による芳香族ポリアミドフィルムの製
造法に関しては該芳香族ポリアミドーアミド系溶剤組成
物を流延し、 150−250℃の雰囲気上溶剤を除去
した後、水洗する事(よって水溶性残留化合物を抽出し
、含水フィルムを得る。このフィルムを必要に応じて延
伸配向した後乾燥し、本発明に適用すべきフィルムを得
る事か出来る。
次に工業生産的に有利な方法と考えられる藻式製膜法に
ついて述べる。
芳香族ポリアミドフィルムを製造するに際して蝋、前述
した乾式−湿式法は用いる溶剤がアミド系溶剤等極性の
高い高沸点溶剤であるためドとアミド系溶剤とが錯体を
作る等強い相互作用があって乾式のみでは完全に溶剤を
除去すること社不可能である。従って湿式法と組み合せ
る事が不可避であり、どうしても工程が豪雑化する問題
点かある。
これに対して湿式法は工程が単一であp、有利な方法と
考えられるが、芳香族ポリアミド−アミド系溶剤による
組成物の湿式凝固性はかならずしも良好なものではなく
強靭な高分子フィルムを得る事は容易ではなく、どれら
の諸問題のため芳香族ポリアミドフィルムが工業生産に
成功していない技術的障害の一つとなっていたのである
これらの技術的障害を排除すべきすぐれた芳香族ポリア
ミドの湿式製膜技術を我々はすでに以下に記述する方法
を提案してきた(411願和54−116153号、同
55−67052号)。
すなわち、芳香族ポリアミド組成物の組成比が下記式 %式%() 鳳十す 一≧ α1      ・・・・・・・曲・・・・(2
)で表わされる芳香族ポリアミド組成物を水性凝固浴中
に導入してなる湿式製膜法である。
さらには繰り返し構造単位が少なくとも75モル慢以上
がメタ構造であるような芳香族ポリアミドにあっては芳
香族ポリアミド組成物の組成比はポリマー濃度に依存し
、下記の如く規定される。
α25≦−一≦(LaB5のとき、 a+b α1−一 α334 <−L≦15 のとき、 a+b 28×二り一α84〈− a −t−b かかる組成物を水性凝固浴中に導入するととによって製
膜する方法である。
ここで用いられるアミド溶媒としてはテトラメチル尿素
、ヘキサメチルホスホルアミド。
N、 N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリド
ン−2,N−メチルピペリドy−2.N、N−ジメチル
エチレン尿素、 N、N、N’、N’−テトラメチルマ
ロ/酸アミド、N−メチルカグロラクタム、N−アセチ
ルピロリジン、N、N、−ジエチルアセトアミド、N−
エチルピロリドン−雪。
N、N−ジメチルプロピオン酸アミド、 N、N−ジメ
チルイソブチ−ルアミド、 N、N−ジメチルプルピレ
ンj[3i、 N、N−ジメチルホルムアミド及びそれ
らの混合系が挙げられる。とくに好ましいアミド溶媒L
N−メチルピロリドン−2(以下NMPと略称する)N
、N−ジメチルアセトアミド及びそれらの混合系を挙け
ることができる。
又好ましく使用される可溶化助剤としては周期律表I族
及び/又轢第璽族の金属塩並びに・・pゲン化アンモニ
ウムをあげる事ができる。かかる塩類は、・例えば特会
昭36−16027号公報等に記載されている如く、ポ
リマー溶液中に溶存し%1111安定性を高める働きを
する。好ましい可溶化助剤としては塩化リチウム、塩化
カルシウム、塩化マグネシウムを挙げることができ、特
に好ましくは塩化カルシウムである。
芳香族ポリアミドフィルムの製膜に際して使用される芳
香族ポリアミド組成物中において芳香族ポリアミド組成
物(a)、アミド系溶剤(b)及び可溶化助剤(C) 
ri前述した如く一般的には下記式であることが好まし
い。
05≧□≧α05    ・・・・・・・・・・・・・
(1)a + b −≧αl       ・・・・・・・・・・・・・・
v(2)更に繰り返し構造単位の75モルチ以上がメタ
構造である芳香族ポリアミドの場合にはα25≦」二≦
α336のとき a + b α1≦−・・・・・・・・・・・・・(3)a33@ 
(ヨし≦α5 のとき a −1−b zsx−’−−α84(”−・・・・・・・・・・・・
・・・(4)a + b で規定される組成物が好ましい。
上記式中(1)においてホ宝<aos及び(3)におい
て−!−< a 25の場合にはフィルム成形の目的に
a + b は充分な成形性が得られないことがあったり、アミド系
溶剤の使用量が多いこと等好ましくない。
又反面(1)、(3)式に於てa+b”5の場合には得
られた組成物溶液粘度が極めて高くなり、堆り扱い上困
難であることが多い。
前記式(2)においてc/a≧α1であることが必要で
ある。更には(4)における範囲に可溶化助剤を用いる
事が望ましい。c/a (0,1K@つては充分な溶液
安定性を得る事が困難である。
かかる芳香族ポリアミド組成物を製造する方法Kti 0)再溶解法 ←) 溶液重合−中和法 が代表的なものとしてToけられる。
再溶解法はあらかじめ単離されている芳香族ポリアミド
、アミド系溶剤及び可溶化助剤を所定の割合に調合して
再溶解せしめる方法である。
代表的な手法としては、可溶化助剤をアミド系溶剤に溶
解せしめた後、好ましくは冷却下にポリマーを混合せし
めて調整することができる。
可溶化助剤の種類と使用量とによっては、アミド系溶剤
のみKは全量溶解しないこともあるが、ポリマーをさら
に混合すると均一に溶解することが多い。別法としては
、可溶化助剤の粉末とポリマーの粉末とを必要に応じて
さらに混合粉砕し、充分に混和した後にアミド溶剤を冷
却下に“混合することも可能である。
ま九該組成物は溶液重合−中和法によっても調整するこ
とができる。アミド系溶剤を用いて芳香族ジアミンと芳
香族ジ酸ハライドとを重合反応せしめ、ポリマー溶液を
調製することは公知である(例えば特公昭35−143
99号公報参照)。
ひき続き談゛重合溶液中に生成しているハロゲン化水素
を中和せしめ本発明の可溶化助剤を生成させ安定なポリ
マー溶液を調製することも公知である(例えば特公昭3
5−15027号公報参照)。
さらに溶液重合−中和法によって本発明の芳香族ポリア
ミド組成物を調製する優れた方法としてグレボリマーを
経由する製造法が提案されている(特願昭54−467
45号公報参照)。この方法によれば原液組成物中の可
溶化助剤の組成比をコントロールでき好ましい。
前記芳香族ポリアミド組成物には、必要に応じて、下記
に例示する添加剤、改質剤等を含有することもできる。
二元安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、架橋剤、離燃剤、
紫外線しゃ新剤。
静電防止剤2艶消剤、染料・顔料等の着色剤。
有機・無機の各種充填材もしくは補強材、その他種々の
可塑剤、溶液粘度調節剤等である。
咳芳香族ポリアミド組成物は常温において通常、粘稠な
液体又は半固体状であることが多い。
−しかしながら実施例にも示した如く、常温で半固体状
であっても、80℃以上の温度に於いて容具に流動し、
使用する溶剤の沸点までの温度範囲で適正な流動性を確
保することが出来、又溶液の熱安定性も良好である。従
って、従来の湿式′成形機のみならず溶融成形機を適用
するフィルム成形も可能である。
成形温度は使用する芳香族ポリアミド組成物の組成比、
適用される成形方法によっても異なるが60〜180℃
の範囲から好ましく選択される。成形温度が60℃未満
では組成物の溶液粘 。
度か高く、均質なフィルムの得られにくいこと充分な生
産性が得られないことがある。一方180℃以上では成
形物の着色及び組成物中の水分による発泡等が生ずるこ
とがあり、操作上問題となることがある。
かかる芳香族ポリアミド組成物の成形Fi湿式又は空中
吐出湿式法によってフィルムを得る事が出来る。一般に
溶液粘度の低い芳香族ポリアミド組成物を使用する場合
には湿式成形法を適用し、溶液粘゛゛度が比較的高い場
合には、空中吐出−湿式成形法を適用することが多いか
、必ずしも限定されるものではなく、フイ↑ム製造の目
的、原液組成物の物理的特性に応じて、より好ましい成
形法を選択することができる。
特に空中吐出−湿式成形法は下記の点において、従来公
知の成形方法に比して極めて有利である。
きわめて高ポリマー濃度の成形を可能にするので、高価
なアミド系溶剤の使用量が少ない。
溶融成形と同様の成形法を適用でき、押し出し速度の向
上がみられる等極めて生産性の良い成形法を提供できる
均質で、透明性の高いフィルムが比較的厚みの大きいと
ころ迄、安定に製造できる。
製造のエネルギーコストが低減される。
可溶化助剤を含有する原液組成物から乾式成形する場合
は、湿式洗浄工程を必要とし工程が複雑である。これに
対し上記の方法は基本的に湿式成形工程のみからなり工
程が単純である。
凝固浴としては下記の組成をもつ浴の少なくとも一つが
芳香族ポリアミドフィルムの成形に好ましく用いられる
(1)無機塩水溶液 (舖)有機溶剤水溶液 (m)  (+)、 (a)の混合水溶液延伸工程を容
JIK L、透明で強靭なフィルムの製造を行う目的に
は、勿論凝固は*に重質な要因であって先述の芳香族ポ
リアミド組成物と上記の凝固浴とを組み合わせる事によ
って以下に示す延伸が可能となり、高性能フィルムを得
る事が出来るのである。
無機塩水溶液中に含まれる化合物として代表的なものは
0a04+ BaO/ffi+ ZnO1z、MgO1
zr Na011r KO/+Al011+ 8nO/
1. NIO/ + 8TO12r Lid/ + C
!aBrl+ LiBr 10a (NOI )II 
Za (NOI)ml AI (NOs)x、ca (
8ON)ml KSON +Na8ON等を挙げること
ができる。好ましい無機塩としてFiOmO/glLi
O/+ Mg04+ ZnO11を挙げることか出来、
とくに好ましくはLid/、 OaO/1である。
また、一般に芳香族ポリアミド組成物中の可溶化助剤と
凝固浴中の無機塩とは同じ化合物であることが有利であ
る。
好適無機塩II度は無機塩の種類、芳香族ポリアミド組
成物の組成又は組成比、成形条件等によっても異層るが
、前記の無機塩を20重量%以上含む水溶液が好ましい
。かかる凝固浴を用いた場合には、機械的性能及び透明
性の優れたフィルムを製造することが可能である。さら
に目的とするフィルムの厚み、透明度に応じて凝固浴組
成、温度、浸漬時間は一定ではないか、無機塩水溶液を
用いる場合の好適凝固浴温度は40〜110℃であする
凝固浴としては有機溶剤水溶液も使用することができる
。有機溶剤としては各種のアルコール、アミド溶剤も用
いることができる。各種アルコールの中でアルキレング
リコールは好ましく選択できる有機溶剤の一つである。
代表的なアルキレングリコールとしては、エチレングリ
コール、フロピレンクリコール、?リエチレ/グリコー
ル、ポリプロピレングリコール等を用いることかできる
。ポリアルキレングリコール又はグリセリン水溶液のS
度は、芳香族ポリアミド組成物の組成又は組成比、成形
方法又は条件によっても異なるが一般に3G重量嘩以上
の水*液を用いることができる。好適な温度条件は他の
要因によっても異なるが3 G ’0〜凝固沸点の範囲
から選択される。
好ましい実施態様として、しばしば多段凝固浴が用いら
れる。多段凝固浴としては無機塩水5iios度、温度
を異にした系、凝固組成の全く異なった系勢必要に応じ
て使用分ける事が可能であるが、工業的見地からすると
同種の凝固系を組み合した多段凝固浴が好ましい。
かくして得られたフィルムは、有機溶剤、無機塩を水洗
工“程で除去した後、40〜100’Oの熱水中で容易
に観伸され均質な透明フィルムを得る事が出来る。
従来の技術水準では湿式成形法によるフィルムは温式延
伸が不可能であるとされていたのに対して本発明方法の
湿式成形フィルムは驚くべき事に40〜Zoo℃の熱水
中で容易に延伸が可能であり、特篭すべきことである。
熱水の温度、いわゆる延伸温度F140〜100”ll
好ましくは85〜100℃の範囲である。
40℃より延伸温度が低い場合には延伸性が著しく低下
して好ましくない。
必要に応じて砥伸倍率し1倍以上、好ましくはL3倍以
上−軸又は逐次二輪、同時二輪延伸した後乾燥して本発
明方法に用いる事が出来る。
本発明方法を実施するに際しては波長が約α7〜3μの
近赤外線が用いられる。約α7μ未満及び3μを越える
波長の光はエネルギー的に本発明方法の効果を充分達成
されず好ましくない。
又用いられる高分子フィルムは該近赤外線を少なくとも
tts以上吸収するものでなくてはならず、好ましくは
5−以上、更に好ましくは10−以上吸収する高分子フ
ィルムがよい。
該近赤外線の吸収率の上限は特に制限されるものではな
いが、80チ以下が得られた高分子フィルムの均質性か
らみて好ましいようである。
近赤外線の照射時間はa1〜180秒の範囲が好ましい
。約a1秒未満では照射不足であり、一方約1110秒
を越える照射時間にあっては短時間局部加熱を行うとい
う本発明の目的からはずれ又エネルギー的にも不利であ
る。従って照射時間としてはα1秒〜180秒の範囲、
好ましく111秒〜120秒の範囲かよい。
近赤外線照射の雰囲気温度としては特に限定されるもの
ではなく室温から200 ℃のいずれの雰囲気温度でも
よく、必要に応じて冷却雰囲気下でもよい。
本発明方法のさえたる実施態様の一つは前述し九芳香族
ポリアミドフィルムであるが、9香族ポリアミドフイル
ムに限られたことでないことは勿論の事であり、二次転
位点が100℃以上の高分子フィルムに適用していずれ
屯効果が発揮される。
芳香族ポリアミド以外の有用な高分子フィルムとじては
全芳香族ポリエステルフィルムが代表的なものとしてあ
げられる。
以上の様に本発明によれば、高分子フィルムを近赤外線
で照射することにより、短時間で該フィルムを高温熱処
理でき、処理されたフィルムはヤング率1強度等機械的
物性を一段と向上させることが出来、その工業的意義は
極めて大である。
次に実施例をあげ本発明を更に詳細に説明する。実施例
中の部はすべて重量部を示す。
実施例1 芳香族ポリアミドとしてポリ−m−フェニレンイソフタ
ルアミドを用い、アミド溶剤としてN−メチル−2−ピ
ロリドン、可溶化助剤として0aO11を使用して下記
の組成をもつ芳香族ポリアミド組成物を調製した( a
t L c Fi前記に同じ)。
一二=α33−5−=α20 atb              a上記組成・物を
30鬼押出機を用い(13111,輻40GmのT−グ
イより110℃でキャスティングローラー上に押出し、
90℃の43嗟塩化カルシウム水溶液中に導入した。
続いて10υ以下の冷水中で洗浄した後95℃の熱水中
でL5倍機械方向(MD)にローラ関延伸を行なった。
このフィルムt95℃相対ff1度100%の雰囲気下
、クリップでフィルムの両端を保持しながら15 vr
/−の速度で直角方向(’rD )にL7倍延伸し、更
にクリップで足長に保持しながら150℃の熱風乾燥量
中で乾燥し25μのフィルムを得た(近赤外線の吸収率
15%)。得られたフィルムを2mの近赤外線ランプ(
波長L7μ)2灯で240v各8Aの条件下両端をクリ
ップで保持しながら24秒間連続照射した。得られ九フ
ィルムの愉性は第1表の如くすぐれたものであ′)た。
第 1 表 実施例2〜8 実施例1で用いた25μのポリ−m−フェニレンイソフ
タルアミドフィルムを固定枠に固定し2厘の近赤外線ラ
ンプ(波長L7μ)4本を上下に組み合せた照射装置で
各種電流及び照射時間で処理し友。その結果を第2表に
示したが、比較例の熱風乾燥量中で熱処理したものと比
べ著しいヤング率の向上が与られ本発明の効果が明確と
なっている。
1112表 * 近赤外線ランプ1本当りの電流 実施例9〜14 各種の芳香族ポリアミドを用い実施例1と同様にして2
厘の近赤外線ランプ2灯を使用240V 11Aの条件
下固定枠にセットしたフィルムを照射処理した。得られ
た結果は第3表の退塾である。
なお、フィルムの厚さり、実施例9.10 社20μ。
同11は1sμ、同12〜14は各2sμである。
第3表

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L 波長a7〜3μの近赤外線を少なくともx%以上吸
    収する高分子フィルムに該近赤外線をa1秒〜t@O秒
    間照射熱熟理する事を特徴とする高分子フィルムの熱処
    理方法。 i 高分子フィルムが少なくともZoo℃以上〇二次転
    位点をもつ高分子フィルムである特許請求範囲第1項記
    載の熱処理方法。 亀 高分子フィルムの融点が200℃以上でTo夛その
    〒d(分解点)−7m(融?)=ΔTが50℃以下であ
    る高分子フィルムの特許請求範囲第1項記載の熱処理方
    法。 表 高分子フィルムが芳香族ポリアミド系フィルムであ
    る特許請求範囲第1項記載の熱処理方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6094335A (ja) * 1983-10-05 1985-05-27 バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト 熱可塑的に成型されたプラスチツクス部品類の焼きなまし方法
JPS60156734A (ja) * 1984-01-26 1985-08-16 Toyo Carbon Kk デイスクブレ−キ用断熱材

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