JPS589106B2 - フクソカンシキカゴウブツノセイホウ - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式 （式中Ｘはハロゲン原子を意味する）で示される５−ハ
ロゲノ−１・２・３−チアジアゾールの新規な製法に関
するものである。

従来、上記一般式（■）で示される５−ハロゲノ−１・
２・３−チアジアゾールの製法としては、たとえば５−
アミノ−１・２・３−チアジアゾールからザンドマイヤ
ー反応によって、５−クロルー１・２・３−チアジアゾ
ールが収率９％で得られることが知られている。

（Ｄ．Ｌ．Ｐａｉｎ他；Ｊ．Ｃ．Ｓ．１９６５、５１６
６参照） しかしながらこの公知製法において、原料として使用さ
れる５−アミノ−１・２・３−チアジアゾールを得るた
めには、高価な原料と、しかも長い繁雑な工程を必要と
する。

すなわち５−アミノ−１・２・３−チアジアゾールの製
法としては、原料にエチルブロムアセタールを使用し、
これにフタルイミドのカリウム塩を反応させてフタルイ
ミドアセトアルデヒド ジエチルアセタールとし、これ
をギ酸または酢酸と加熱してフタルイミドアセトアルデ
ヒドまたはその水和物とし、これにカルバジン酸エチル
エステルを反応させてフタルイミドアセトアルデヒドエ
トキシカルボニルヒドラゾンとし、これに塩化チオニル
を作用させて５−フタルイミド−１・２・３−チアジア
ゾールに導き、ついでこれを抱水ヒドラジンと加熱する
ことによって得られており、次の反応式で示される通り
である。

（特開昭４７−４２７９６号；ドイツ特許第９２８７１
１号；Ｄ．Ｌ．Ｐａｉｎ他：Ｊ．Ｃ．Ｓ．１９６５、５
ｌ７３参照）このようにこの公知製法においては、原料
の５−アミノ−１・２・３ーチアジアゾールの製造は容
易でなく、しかも最終工程におけるザンドマイヤー反応
も甚だしく低収率であるなどの欠点を有し、特に工業的
生産に適さない。

本発明者らはこれらの欠点を考慮し、さらに簡明でしか
も工業的生産可能な製法を検討した結果、一般式 ＸＣＨ２ＣＨ＝ＮＮＨＣＯ２Ｒ（■） （式中Ｘは前記の意味を有し、Ｒは低級アルキル基を意
味する）で示されるハロアセトアルデヒドヒドラゾン誘
導体にチオニルハロゲニドを反応させると容易に、しか
も良好な収率で目的の式（■）の化合物が得られること
を見出し、本発明を完成した。

さらに本発明の利点は、原料である式（■）の化合物は
ハロアセトアルデヒドの水溶液にカルバミン酸アルキル
エステルを作用させるのみで極めて容易に得られる点に
あり、これは前述の公知製法の原料である５−アミノ−
１・２・３−チアジアゾールの繁雑な製法に比し、さら
に本発明を有利にするものである。

原料の式（■）の化合物のＲとしては、たとえばメチル
、エチル、イソプロピルなどがあげられ、次の反応式に
よって製造される。

ＸＣＨ２ＣＨＯ＋ＮＨ２ＮＨＣＯ２Ｒ→（■）＋Ｈ２Ｏ
（式中ＸおよびＲは前記の意味を有する）本発明の製法
をさらに説明すれば、式（■）の化合物をチオニルハロ
ゲニドと攪拌すれば、始め不溶の式（■）の化合物は次
第にチオニルハロゲニドに溶解し、ついでガスの発生が
認められる。

反応は発熱を伴うため、適宜冷却し、反応の終結はガス
の発生終了によって確認される。

この場合の化学反応は次のように考えられる。

（■）＋２ＳＯＸ２→（■）＋３ＨＸ＋ＳＯ２＋ＣＯ２
＋ＲＸ（式中ＸおよびＲはそれぞれ前記の意味を有する
；目的の式（■）の化合物は一般に低融点を示し、減圧
蒸留によって精製されるため、反応終了後、反応液より
過量のチオニルハロゲニドを留去したのち、残留液をさ
らに減圧蒸留すれば容易に得ることができる。

この反応における反応物質のモル比は式（■）の化合物
１モルに対し、チオニルハロゲニドは３．５〜４．５モ
ルが使用され反応温度は０〜４０℃、特に好ましくは１
５〜３０℃である。

反応温度が４０℃を越えると種々の副生物を生じ、収率
が低下する。

このように本発明の反応では式（■）の化合物を直接チ
オニルハロゲニドと反応させてもよいが、この反応の際
かなりの発熱があり、とくに大量反応のときは反応温度
を調整するのが実際上困難であるため、通常は有機溶媒
を用いて反応させる。

この反応の際に、第三級塩基を添加すれば、さらに収率
が増大し、しかも使用するチオニルハロゲニドも式（■
）の化合物１モルに対し、２．７〜２．８モルまで減少
することができる利点を有する。

すなわち式（■）の化合物を有機溶媒中懸濁攪拌し、こ
れに第三級塩基を加えれば、始め不溶の式（■）の化合
物は直ちに溶媒に溶解する。

これにチオニルハロゲニドを滴下反応させれば２０℃附
近よりガスの発生が認められ、３０℃前後でガスの発生
は終了する。

反応時間は非常に短い。反応後有機溶媒を留去し、残留
液を減圧蒸留して式（■）の化合物が得られる。

第三級塩基としてはピリジン、ピコリンなどのピリジン
塩基、トリエチルアミンなどのトリアルキルアミンが使
用され、いづれも原料の式（■）の化合物に対し同モル
が使用される。

また有機溶媒としては、塩化メチレン、塩化エチレン、
ジオキサン、ベンゼン、アセトンなどチオニルハロゲニ
ドに不活性な溶媒が用いられる。

本発明によって得られる式（■）の化合物は、たとえば
１・２・３−トリアゾール−４−チオール製造の中間体
として有用である。

本発明をさらに実施例によって説明する。

実施例１ クロルアセトアルデヒド エトキシカルボニルヒドラゾ
ン１６．５ｇ（０．１モル）を塩化メチレン４０ｍｌに
懸濁攪拌し、ピリジン７．９ｇ（０．１モル）を加える
。

発熱を伴い、始め不溶の原料は完全に溶解する。

ついで反応液を氷冷し、１０℃以下で塩化チオニル２０
ｍｌ（０．２７８モル）を滴下する。

約２０分で滴下し、滴下後室温で攪拌する。

内温次第に上昇し、２０℃を越える頃よりガスの発生が
認められ、２４〜５℃より急激に温度上昇し、３２〜３
３℃となり、ガスの発生は烈しい。

反応は１〜２分で終了し、後次第に反応温度は下り始め
る。

さらに３０分攪拌しガスの発生終了を確認し反応物を水
中にあけて、塩化メチレンを分取し、水層はさらに塩化
メチレンで３回抽出する。

塩化メチレンを合併し、乾燥後濃縮し、残留物を減圧蒸
留すれば、５−クロロ−１・２・３−チアジアゾールが
得られる。

ｂ．ｐ．５８〜６４℃／３０〜３２ｍｍＨｇ．収量９．
６ｇ（収率７９．２％） クロルアセトアルデヒド メトキシカルボニルヒドラゾ
ンまたは、クロルアセトアルデヒドイソプロポキシカル
ボニルヒドラゾンを使用し、同様に反応させれば、それ
ぞれ収率７３％、６３％で同様化合物が得られる。

実施例２ クロルアセトアルデヒドエトキシカルボニルヒドラゾン
８２．５ｇをジオキサン１６０ｍｌと攪拌し、１０〜１
５℃で塩化チオニル１６５ｍｌを滴下する。

滴下とともに幾分発熱があり、ガスの発生が認められる
。

滴下後１５℃で１時間、さらに室温で２時間攪拌し溶媒
を留去後残留物を減圧蒸留すれば、実施例１と同様化合
物３４ｇ（収率５６．２％）が得られる。

実施例３ クロルアセトアルデヒドエトキシカルボニルヒドラゾン
８２５ｇを氷水で冷却し予め冷却した塩化チオニル１３
ｍｌを加えて攪拌する。

始め不溶のヒドラゾンは次第に溶解し、内温１５℃附近
でガスの発生が認められる。

同温で１時間攪拌し、さらに室温に放置後反応液を減圧
蒸留すれば、実施例１と同様化合物３ｇ（収率５０％）
が得られる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中Ｘはハロゲン原子、Ｒは低級アルキル基を意味す
   る）で示されるヒドラゾン誘導体にチオニルハロゲニド
   を０〜４０℃で作用させることを特徴とする、一般式 （式中Ｘは前記の意味を有する）で示される複素環式化
   合物の製法。 ２ 一般式 ＸＣＨ２ＣＨ＝ＮＮＨＣＯ２Ｒ （式中Ｘはハロゲン原子、Ｒは低級アルキル基を意味す
   る）で示されるヒドラゾン誘導体に第三級塩基の存在下
   にチオニルハロゲニドを０〜４０℃で作用させることを
   特徴とする、一般式 （式中Ｘは前記の意味を有する）で示される複素環式化
   合物の製法。