JPS5887075A - サ−マルヘツドの製造方法 - Google Patents
サ−マルヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS5887075A JPS5887075A JP56184659A JP18465981A JPS5887075A JP S5887075 A JPS5887075 A JP S5887075A JP 56184659 A JP56184659 A JP 56184659A JP 18465981 A JP18465981 A JP 18465981A JP S5887075 A JPS5887075 A JP S5887075A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resisto
- sputtering
- film
- sio2
- thermal head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N97/00—Electric solid-state thin-film or thick-film devices, not otherwise provided for
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ψ−マルー＼ツドの製造方法に関する。
本発明の目的は、ドツト表面の凹Ｓをリフトオフ法を用
いて凸もしくは平坦にすることにより、安価で高性能な
サーマルヘッドを得るところにある。
いて凸もしくは平坦にすることにより、安価で高性能な
サーマルヘッドを得るところにある。
本発明の他の目的に、リフ）１７法を用いることにより
高精度パターンを得るところにある。
高精度パターンを得るところにある。
従来のサーマルヘッドは、第１図に示す様な横進であり
、発熱抵抗体部はリード電極の埋み分だけ凹となってい
た。そのため、感婆紙との接触が悪く、必要以上の高エ
ネルギーをかける必要があり、この高エネルギーの印ｊ
、ｌｌ］がヘッドの耐久１牛や印字品質に大きな悪影響
を及＋−ｊｉ ｔ／ていｋ。
、発熱抵抗体部はリード電極の埋み分だけ凹となってい
た。そのため、感婆紙との接触が悪く、必要以上の高エ
ネルギーをかける必要があり、この高エネルギーの印ｊ
、ｌｌ］がヘッドの耐久１牛や印字品質に大きな悪影響
を及＋−ｊｉ ｔ／ていｋ。
本発明は、かかる欠売を除去する容易な製造方法を提供
するものであわ、リフトオフ法で、感熱紙と接触する発
熱部を凸もしく（１干坦にすることにより、熱伝導効率
をあ０、笛性能で高印字品質、耐久性の優れｔｃ、安価
なサーマルヘッドを得られるものである。
するものであわ、リフトオフ法で、感熱紙と接触する発
熱部を凸もしく（１干坦にすることにより、熱伝導効率
をあ０、笛性能で高印字品質、耐久性の優れｔｃ、安価
なサーマルヘッドを得られるものである。
以下、本発明匠ついて央極例及び図で説明する。
実施例１゜
部分グレーズアルミナ基板上に窒化タンタル膜をスパッ
タリングにより付盾芒せ、史にその上部にＯｒ −Ａ
ｕ −Ｏｒ −、Ａ ｕ −Ｏｒ ｆ蒸着により付看さ
せ穴、、その後、ホトエツチング法により所要なる発熱
部、リード＊＠１を形成ぜしめ、接続部ケ除いた部分に
５ｉＯ２ｆスパツタ１１ングした。この方法により出来
た断面溝危図全第２図−（ａ）に示す。このＳ、１０２
膜上に再度ホトエツチング法で第２図の（ｂ）に示す様
に発熱部以外にレジストパタ−ンの形成され７？：まま
、５ｉｎ２膜を付着させ、第２図−（Ｃ）の構造にしで
、レジスト・・クリを行なう。
タリングにより付盾芒せ、史にその上部にＯｒ −Ａ
ｕ −Ｏｒ −、Ａ ｕ −Ｏｒ ｆ蒸着により付看さ
せ穴、、その後、ホトエツチング法により所要なる発熱
部、リード＊＠１を形成ぜしめ、接続部ケ除いた部分に
５ｉＯ２ｆスパツタ１１ングした。この方法により出来
た断面溝危図全第２図−（ａ）に示す。このＳ、１０２
膜上に再度ホトエツチング法で第２図の（ｂ）に示す様
に発熱部以外にレジストパタ−ンの形成され７？：まま
、５ｉｎ２膜を付着させ、第２図−（Ｃ）の構造にしで
、レジスト・・クリを行なう。
ハクリを行なうと、レジスト上の５ｉ０２とレジストが
同時にハクリされ、第２図−（ｄ）の構造ができる。
同時にハクリされ、第２図−（ｄ）の構造ができる。
ｙ ｖｃ 、耐摩耗層としてＴａ２ｏ６ ｅスパッタ
リングにより付着して完成させた断面ｆｉ４Ｉ￥ｆ令・
第２図−（ｅ）に示す。
リングにより付着して完成させた断面ｆｉ４Ｉ￥ｆ令・
第２図−（ｅ）に示す。
実施例２゜
ダレーズアルミナ基也上Ｋ ９．化タンタル膜ケスバッ
タリングによね付着させ、更Ｖこその上部にＣｒ−１ｒ
ｕ−Ｏｒ−ｋｌｆｊｚ蒸看によりｆ＝Ｉ層Ｎせた。
タリングによね付着させ、更Ｖこその上部にＣｒ−１ｒ
ｕ−Ｏｒ−ｋｌｆｊｚ蒸看によりｆ＝Ｉ層Ｎせた。
ぞの後、ホトエツチング法により所要なる発熱部。
リード市、極を形成せしめ、第３図−（ａ）σ）構造の
ものを作」製、接続端子を・除くに１１〜分にＳｉ、０
２’（ｉ・スパッタし、へＡ３図−（ｂｊの（策にしだ
。このＡｕ胸ケエッチングにより除去すると、ＰＡ ３
１Ｚ−（ｃ）の様な構造ｆなった。ν！Ｖこ勇５図−（
ｄ）の様ｖｃ、ｂ１ｏ２ｊ−を設け、５ｉ０２上部ＶＣ
Ｔａ２０６の耐摩耗層をスパッタし完成させｆ（ｏ こ
の方法により出来た断面構造を第６１図−（θ）に示す
。
ものを作」製、接続端子を・除くに１１〜分にＳｉ、０
２’（ｉ・スパッタし、へＡ３図−（ｂｊの（策にしだ
。このＡｕ胸ケエッチングにより除去すると、ＰＡ ３
１Ｚ−（ｃ）の様な構造ｆなった。ν！Ｖこ勇５図−（
ｄ）の様ｖｃ、ｂ１ｏ２ｊ−を設け、５ｉ０２上部ＶＣ
Ｔａ２０６の耐摩耗層をスパッタし完成させｆ（ｏ こ
の方法により出来た断面構造を第６１図−（θ）に示す
。
実姉例６
部分グレーズアルミナ基板上に窒化メンタル膜を付着さ
せ、更にＯｒ −Ｃｕ −Ｏｒを蒸着（Ｃより付着させ
た１、その後ホトエツチング法により所要なる発熱部、
リード′＠、極全第４図−（ａ）の様に形成し、次に第
４図−（ｂ）の様に発熱部以外を１７レストでコートし
た。この後戻１／Ｃ３ｉ０２介スパッタリングで付着さ
せ第４１凶−（ｃｌの附造１７１．．ｌノジストハクリ
全行ない、レジスト上の８１０２とレジスト全除去した
。この上部に耐Ｉ′ψ耗１曽として’ｆ’ａ２０５を付
着させ、作製した。
せ、更にＯｒ −Ｃｕ −Ｏｒを蒸着（Ｃより付着させ
た１、その後ホトエツチング法により所要なる発熱部、
リード′＠、極全第４図−（ａ）の様に形成し、次に第
４図−（ｂ）の様に発熱部以外を１７レストでコートし
た。この後戻１／Ｃ３ｉ０２介スパッタリングで付着さ
せ第４１凶−（ｃｌの附造１７１．．ｌノジストハクリ
全行ない、レジスト上の８１０２とレジスト全除去した
。この上部に耐Ｉ′ψ耗１曽として’ｆ’ａ２０５を付
着させ、作製した。
この方法により出来だサーマルヘッドを小型プリンター
に搭載し、印字させたとこ、う、従来２６ｍＪ必要なエ
ネルギーが、２ 、ｍ Ｊで同一の印字濃度金得ること
ができた。ｉ ｆｃ耐久而面も、１子方字以上良好であ
った。
に搭載し、印字させたとこ、う、従来２６ｍＪ必要なエ
ネルギーが、２ 、ｍ Ｊで同一の印字濃度金得ること
ができた。ｉ ｆｃ耐久而面も、１子方字以上良好であ
った。
以上、実施例に示すが如き本製漬方法は、発熱部の凹？
容易になくす製造方法であり、四部のないサーマルヘッ
ドは、印字品質、印字濃度、耐久性、印字エネルギーの
面で非常に優ねたものである。
容易になくす製造方法であり、四部のないサーマルヘッ
ドは、印字品質、印字濃度、耐久性、印字エネルギーの
面で非常に優ねたものである。
本実施例では、リフトオフ法の方法を３種しか記載して
いないが、組合せ及び材質、製造順序に限定されない。
いないが、組合せ及び材質、製造順序に限定されない。
１食、電極材料ＶＣＯｒ、 Ａｕ、 Ｏｕ。
保護膜［８１０２、Ｔａ２０５ （、が記載してナイ
が、こねらの材質Ｖこついても当然ｌＩＩ！定をゎるも
のではない。
が、こねらの材質Ｖこついても当然ｌＩＩ！定をゎるも
のではない。
第１図は、従来のサーマルヘッドの断面構造図。
第２図（ａ）（ｂ）（ｃ） （ｄ−）（ｅ） ｌｄ、本
実施例１の１）フトオフ法断面構造図。 第３（図（ａ） （ｂ）（ｃ）（ｄ）（ｅ）は、本実施
例２のリットオフ法断面構造図。 ７４１．４図（ａ） （ｂ）（ｃ） （ａ） （ｅ）
Ｐａｔ、本実施例乙のリフトオフ法断面構造図。 １ ・・・・・・面１摩車Ｕ慎 （Ｔａｇ’ｓ）２・・
・・・・耐酸化層（ｓｉｏ、、） ５− ５ ・・−・・Ｉ＋−ド甫、極（Ｏｒ、Ａｕ、０ｕ）４
・・・・・・発熱抵抗体（Ｔａ２Ｎ）５・・・・・・グ
レーズ ６・・・・・・レジスト ７・・・・・・Ａｕ 以 上 出願人 ＩＨ州留器株式会社 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務 ６− 、ｂ、− ≠ （ｄ） ７−・′ 第２図 第３図
実施例１の１）フトオフ法断面構造図。 第３（図（ａ） （ｂ）（ｃ）（ｄ）（ｅ）は、本実施
例２のリットオフ法断面構造図。 ７４１．４図（ａ） （ｂ）（ｃ） （ａ） （ｅ）
Ｐａｔ、本実施例乙のリフトオフ法断面構造図。 １ ・・・・・・面１摩車Ｕ慎 （Ｔａｇ’ｓ）２・・
・・・・耐酸化層（ｓｉｏ、、） ５− ５ ・・−・・Ｉ＋−ド甫、極（Ｏｒ、Ａｕ、０ｕ）４
・・・・・・発熱抵抗体（Ｔａ２Ｎ）５・・・・・・グ
レーズ ６・・・・・・レジスト ７・・・・・・Ａｕ 以 上 出願人 ＩＨ州留器株式会社 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務 ６− 、ｂ、− ≠ （ｄ） ７−・′ 第２図 第３図
Claims (1)
- サーマルヘッドに於いて、発熱抵抗体部を合む間の凹部
をリフトオフ法１でより凸もしくは平坦にすることを特
許とするサーマルヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56184659A JPS5887075A (ja) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | サ−マルヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56184659A JPS5887075A (ja) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | サ−マルヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5887075A true JPS5887075A (ja) | 1983-05-24 |
Family
ID=16157096
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56184659A Pending JPS5887075A (ja) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | サ−マルヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5887075A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63297069A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-05 | Rohm Co Ltd | 熱印字ヘッドの製造方法 |
-
1981
- 1981-11-18 JP JP56184659A patent/JPS5887075A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63297069A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-05 | Rohm Co Ltd | 熱印字ヘッドの製造方法 |
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