JPS5887076A - サ−マルヘツドの製造方法 - Google Patents

サ−マルヘツドの製造方法

Info

Publication number
JPS5887076A
JPS5887076A JP56184660A JP18466081A JPS5887076A JP S5887076 A JPS5887076 A JP S5887076A JP 56184660 A JP56184660 A JP 56184660A JP 18466081 A JP18466081 A JP 18466081A JP S5887076 A JPS5887076 A JP S5887076A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photo
layer
thermal head
sputtering
nitride film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56184660A
Other languages
English (en)
Inventor
Kunihiro Inoue
井上 邦弘
Kenji Sawada
沢田 兼司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp, Suwa Seikosha KK, Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP56184660A priority Critical patent/JPS5887076A/ja
Publication of JPS5887076A publication Critical patent/JPS5887076A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N97/00Electric solid-state thin-film or thick-film devices, not otherwise provided for

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明に、リーーマルヘッドの製造方法に関する。
本発明の目的は、発熱部の凹を平坦もしくけ、凸にする
ことにより、高性能サーマルヘッド? 容易に製造する
ところにある。
本発明の他の目的は、制頼セ1σ)尚いサーマルヘッド
を得るところCCある。
近年、パーソナルコンピューター等の急激の進歩により
、埃在はOA化社会と壕でいわ′t′16程になった。
この様なぜシ器の一部VC用いら才する記録磯゛構も種
々のものがとりい第1らtL、様々の商品開開が行なわ
わている。これらの記録方式の中で、特に感熱記録方式
が小型が可能、安価であるという点から、実用化が行な
われでいるが、まだ現状のものは、改良すべき点が残婆
!′1ている。改良すべき項目は、印字エネルー4’−
、印字品質、剛久性等であり、これらの改良すべき項目
の原因は、発熱抵抗体から感熱紙−\の熱伝導効率であ
る。従来のサーマルヘッドの1苦造(l−j第1図の様
な構造であり、この構造では、発熱部がIff極の厚み
分たけ凹になり、この四部か感熱紙との接剤l・悪くし
7ていた。
本発明に於いでd5容易にこの凹部を乃″〈せるもので
あわ、発ん、15曲以外σ)保禰層ゲエツヂングするこ
とにより、発熱部上を・平坦もしくは凸にするものであ
る。
以下、本発明について詳しく実jA1例1及び図で説明
する。
実施例1゜ 部分ブレ二ズアルミナ基板上に、窒化メンタル膜をスパ
ッタし、その上部Or −011−(E rを蒸着した
。その後ホトエツチング方法により発熱抵抗体及び電極
パターンを形成し7、耐酸化層として8 i 02 、
耐摩耗層として’I’ a20Bをスパッタにより付着
き辻、第2図−(a)の構造にした。この構造の上部に
杓度、ホトエツチングにより、発熱部上のみホトレジス
トをのせ、第21M−(b)の様にした。次VC、プラ
ズマエツチング装置によりTa203Mをプラズマエッ
チし、第2図−FC)の購、zにし、し・・シストハク
l Lで第2図−(a)の如き完h”lKさせ飢 実施例2゜ グレーズアルミナ基鈑上’JC−N化タンタル膜をスパ
ッタリンクVこより付着させ、そσ)−L1信(KA套
を蒸漸しfcoその後、ホトエツチング方法により、b
l)なる発熱抵抗体パターンと電極パターンを形成せL
2め、耐酸化層として5i02ケスバツタし第3図−(
a)の溶造と(7た31次に丙°度、ホトエツチングに
より、第6図−(blの様に発熱+l(’h上にホトレ
ジストをのせた。第6図−(c)の構造に−「るVCI
tよ、湿式のエツチングで、5i02を除去した。エツ
チング後、レジストをハタIIL−r第6図−(d、)
の掘進にし、更VCその上郡VC耐摩耗層としてTa2
05をスパッタして完成はせた。
以上、実施例に示すが如き本発明は、高性でI目す−マ
ルヘッドを容易に製造できるものであり、発熱部の四部
をなくすことにより、感熱紙への熱電導効率を向上尽せ
るものである。小型プリンターrtc搭載しての実測値
の印字護鵬の変化は、従来、2、6 m Jた゛つkも
のが、本発明のヘッドでは1.9mJで、同程度の一厩
?得ら力だ。この様に印字エネルギーを低くできたとい
うことは、発熱部の劣化全さ一士たげ、電池寿命を長ぐ
するt−Xがわが総合的な1ぎ軸性も高16ものである
1、捷π、印字品質も感熱紙との接触がよくhるため同
上する。
本実施例に於いては、市椿材IVfがOr、Cu。
AQL乃≧i己載してな(八が、その他Au、W、Ni
Moでもよく、組合すも限定されない。捷た保誇膜も、
810H、Ta2051yか記載してないが、SiO,
Aμio3.Si3N4でも良く、組合せも限定しない
【図面の簡単な説明】
第1図11、従来のサーマルヘッドの断面@造園である
。。 第2図(a)(b)(c)(a)は、本実施例1の断i
η1附造園である。 第31ffi (a) (b)(c)(a)(e)は、
本実施例2の断Tfri 構%’i図である、 1・・・・・・耐摩耗層(Ta20B)2・・・・・・
+Th酸化層(EIiOa)6・・・・・・リード電極
(Or、Ou、AΩ・)4・・・・・・発熱抵抗体(T
agN)5・・・・グレーズ 6・・・・・・ホトレジスト 以上 出願人 1H州梢器株式会社 株式会社諏訪梢工舎 代理人 弁理士 最上  務  5− 第1図 第2図 。7.・2 (e) 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. サーマルヘッド(で於いて、発熱抵抗体部を含む間の四
    部を平坦もしくは、凸にすることを%徴とするザーマル
    ー・ラドの製造方法。
JP56184660A 1981-11-18 1981-11-18 サ−マルヘツドの製造方法 Pending JPS5887076A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56184660A JPS5887076A (ja) 1981-11-18 1981-11-18 サ−マルヘツドの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56184660A JPS5887076A (ja) 1981-11-18 1981-11-18 サ−マルヘツドの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5887076A true JPS5887076A (ja) 1983-05-24

Family

ID=16157115

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56184660A Pending JPS5887076A (ja) 1981-11-18 1981-11-18 サ−マルヘツドの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5887076A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63297069A (ja) * 1987-05-29 1988-12-05 Rohm Co Ltd 熱印字ヘッドの製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55128477A (en) * 1979-03-28 1980-10-04 Mitsubishi Electric Corp Preparing method for heat-sensitive head
JPS5759637B2 (ja) * 1972-12-21 1982-12-15 Matsushita Electric Works Ltd

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5759637B2 (ja) * 1972-12-21 1982-12-15 Matsushita Electric Works Ltd
JPS55128477A (en) * 1979-03-28 1980-10-04 Mitsubishi Electric Corp Preparing method for heat-sensitive head

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63297069A (ja) * 1987-05-29 1988-12-05 Rohm Co Ltd 熱印字ヘッドの製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5156896A (en) Silicon substrate having porous oxidized silicon layers and its production method
JPS5887076A (ja) サ−マルヘツドの製造方法
JP2011116136A (ja) 発熱抵抗素子、サーマルヘッド及びプリンタ
JPS5914889B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPS5887075A (ja) サ−マルヘツドの製造方法
JPS62255161A (ja) サ−マルヘツド
JPS62277528A (ja) センサ素子およびその製造方法
JP2004188872A (ja) サーマルヘッドの製造方法
JPS6293901A (ja) サ−マルヘツド及びその製造方法
JPS58157178A (ja) 光電変換装置の製造方法
JP2000006453A (ja) 抵抗体マスク
JPS53145641A (en) Thermal head
JPS63257652A (ja) サ−マルヘツド用基板
JP2004188873A (ja) サーマルヘッドの製造方法
JPH106541A (ja) サーマルヘッド及びその製造方法
JPS63237964A (ja) サ−マルヘツドの製造方法
JPS6016355B2 (ja) 薄膜型サ−マルヘツド
JPH01118448A (ja) サーマルヘッド用基板及びその製造方法
JPS57205175A (en) Thermal recording head
JPS58124676A (ja) サ−マルヘツド
JPH05126839A (ja) フローセンサの製造方法
JPS60259466A (ja) 薄膜型サ−マルヘツド
JPS5923373A (ja) エレクトロクロミツク表示装置の電極製造方法
JPS5828881A (ja) 誘電体薄膜の加工方法
JPS631555A (ja) 感熱記録用サ−マルヘツド