JPS5884435A - ウエ−ハ搬送装置 - Google Patents
ウエ−ハ搬送装置Info
- Publication number
- JPS5884435A JPS5884435A JP18113081A JP18113081A JPS5884435A JP S5884435 A JPS5884435 A JP S5884435A JP 18113081 A JP18113081 A JP 18113081A JP 18113081 A JP18113081 A JP 18113081A JP S5884435 A JPS5884435 A JP S5884435A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- arm
- rope
- wafer
- vacuum chamber
- drum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ウェーハ搬送装置に係り、特に、エツチング
＊ｗ、ｇ＊装置、ＯＶＤ装置等の半導体素子を製造する
過程において使用される半導体製造装置に関する。
＊ｗ、ｇ＊装置、ＯＶＤ装置等の半導体素子を製造する
過程において使用される半導体製造装置に関する。
従来より半導体製造装置に慣用されているウェーハ搬送
装置には、ウェーハの掴み離しを行うウェーハ掴み装置
を具備したアームを旋回させ、半導体製造装置の真空室
に具設された副真空室へ。
装置には、ウェーハの掴み離しを行うウェーハ掴み装置
を具備したアームを旋回させ、半導体製造装置の真空室
に具設された副真空室へ。
又、副真空室から真空室へとウェーハを搬送するアーム
旋回方式のウェーハ搬送ａｍと、ウェーハ搬送装置を具
備したアームを直進させ、真空室から副真空室へ、又、
副真空室から真空室へとウェーハを搬送するアーム直進
方式のウェーハ搬送装置とがある。しかし、これら従来
のウェーハ搬送装置には次のような欠点があった。
旋回方式のウェーハ搬送ａｍと、ウェーハ搬送装置を具
備したアームを直進させ、真空室から副真空室へ、又、
副真空室から真空室へとウェーハを搬送するアーム直進
方式のウェーハ搬送装置とがある。しかし、これら従来
のウェーハ搬送装置には次のような欠点があった。
（１） アーム旋回方式のウェーハ搬送装置では、ア
ームの回転角に比例して副真空室が横方向に大きくなる
ため、半導体製造装置全体が大型化し。
ームの回転角に比例して副真空室が横方向に大きくなる
ため、半導体製造装置全体が大型化し。
広い据付面積が必要となる。
（２） アーム−進方式のウェーハ鐙送装置では、ア
−ムの搬送ストロークに比例して副真空室に設置される
アームの収納ケースが縦方向に細長くなり、又、アーム
駆動系が副真空室の後方向に設けられるため、半導体製
造装置を据付ける際、場所的に大きな制約を受ける。
−ムの搬送ストロークに比例して副真空室に設置される
アームの収納ケースが縦方向に細長くなり、又、アーム
駆動系が副真空室の後方向に設けられるため、半導体製
造装置を据付ける際、場所的に大きな制約を受ける。
本発明は、上記欠点の除去を目的としたもので。
ウェーハを掴むウェーハ掴み装置を一端側に具備したア
ームの他端側に、下段のアームにスライド可能に設けら
れたスライドベースを固定し、該スライドベースに回動
可能なドラムに巻回されたロープを固定し、かつ、スラ
イドベースの一端側のロープを、下段のアームの一端側
に回動可能に取付けられたシーブと、他端側に回動可能
に取付けられたシーブとにそれぞれ轡掛けると共に、ス
ライドベースの他端側のロープを、下段のアームの他端
側に別に回動可能に取付けられたシーブと、一端側に別
に回動可能に取付けられたシーブとにそれぞれ巻掛けた
ことを特徴とし、アームの搬送ストロークを阻害するこ
となく収納スペースが小さくて済むウェーハ搬送装置を
提供するものである。
ームの他端側に、下段のアームにスライド可能に設けら
れたスライドベースを固定し、該スライドベースに回動
可能なドラムに巻回されたロープを固定し、かつ、スラ
イドベースの一端側のロープを、下段のアームの一端側
に回動可能に取付けられたシーブと、他端側に回動可能
に取付けられたシーブとにそれぞれ轡掛けると共に、ス
ライドベースの他端側のロープを、下段のアームの他端
側に別に回動可能に取付けられたシーブと、一端側に別
に回動可能に取付けられたシーブとにそれぞれ巻掛けた
ことを特徴とし、アームの搬送ストロークを阻害するこ
となく収納スペースが小さくて済むウェーハ搬送装置を
提供するものである。
本発明の一実施例を第１図、第２図により説明する。
第１図で、ウェーハｌＯを掴むウェーハ掴み装置１例え
ば、メカニカルチャック１１を一端側に具備したアーム
１２ｍの他端側には、少なくとも２個のシーブ１３が別
々に回動可能に取付けられたベース１４を両端側にそれ
ぞれ構設した下段のアーム１２ｂにスライド可能に設け
たスライドベース１５が固定されている。下段のアーム
１２ｂの他端側には、少なくとも２個のシーブ１３が別
々に回動可能に取付けられたベース１４を両端側にそれ
ぞれ構設し、かつ、一端が副真空室（図示省略）の外壁
に固定され、他端がホルダ１６に固定された一対のガイ
ドバー１７にスライド可能に設けられた曳ライドベース
１５’が他端側に固定された最下段のアーム１２’ｃに
スライド可能に設けられたスライドベース１５が固定さ
れている。又、最下段のアーム１２ｃの下方には、カッ
プリング１８を介して駆動モータｉ９・巨回動可能に連
結されたドラム２０が設けられている。アーム１２ｍの
スライドベ・−ス１５には、第２図のようにドラム２０
に巻回されたロープ２１１ｍ（第２図では、実線で示し
た）、ｚｘｂ（第２図では、破線で示した）が固定され
、かつ、スライドベース１５の一端側のロープ２１ｍは
、下段のアーム１２ｂの一端側のシーブ１３ａと、他端
側のシーブ１３ｂと。
ば、メカニカルチャック１１を一端側に具備したアーム
１２ｍの他端側には、少なくとも２個のシーブ１３が別
々に回動可能に取付けられたベース１４を両端側にそれ
ぞれ構設した下段のアーム１２ｂにスライド可能に設け
たスライドベース１５が固定されている。下段のアーム
１２ｂの他端側には、少なくとも２個のシーブ１３が別
々に回動可能に取付けられたベース１４を両端側にそれ
ぞれ構設し、かつ、一端が副真空室（図示省略）の外壁
に固定され、他端がホルダ１６に固定された一対のガイ
ドバー１７にスライド可能に設けられた曳ライドベース
１５’が他端側に固定された最下段のアーム１２’ｃに
スライド可能に設けられたスライドベース１５が固定さ
れている。又、最下段のアーム１２ｃの下方には、カッ
プリング１８を介して駆動モータｉ９・巨回動可能に連
結されたドラム２０が設けられている。アーム１２ｍの
スライドベ・−ス１５には、第２図のようにドラム２０
に巻回されたロープ２１１ｍ（第２図では、実線で示し
た）、ｚｘｂ（第２図では、破線で示した）が固定され
、かつ、スライドベース１５の一端側のロープ２１ｍは
、下段のアーム１２ｂの一端側のシーブ１３ａと、他端
側のシーブ１３ｂと。
最下段のアーム１２ｃの一端側のシーブ１３ｃと、他端
側のシーブ１３ｄとにそれぞれ巻掛けられると共に、ス
ライドベース１５の他端側のロープ２１ｂは、下段のア
ーム１２ｂの他端側のシーブ１３ｅと、一端側のシーブ
１３ｆと、最下段のアーム１２ｃの他端側のシーブ１３
ｇと、一端側のシーブ１３ｈとにそれぞれ巻掛けられて
いる。
側のシーブ１３ｄとにそれぞれ巻掛けられると共に、ス
ライドベース１５の他端側のロープ２１ｂは、下段のア
ーム１２ｂの他端側のシーブ１３ｅと、一端側のシーブ
１３ｆと、最下段のアーム１２ｃの他端側のシーブ１３
ｇと、一端側のシーブ１３ｈとにそれぞれ巻掛けられて
いる。
副真空室内にコンベヤ２２で搬入されたウェーハｌＯを
メカニカルチャック１１で掴んだ後に、ドラム２０を駆
動モータ１９で時計廻りに回転させる。そうするとロー
プ２１ｍは、シーブ１３ａ〜１３ｄを介してドラム２０
に巻取られ、一方。
メカニカルチャック１１で掴んだ後に、ドラム２０を駆
動モータ１９で時計廻りに回転させる。そうするとロー
プ２１ｍは、シーブ１３ａ〜１３ｄを介してドラム２０
に巻取られ、一方。
ロープ２１ｂは、ロープ２１ｍがドラム２０に巻取られ
た量だけシーブ１３ｅ〜１３ｈを介して引出される。こ
の時生じる巻取り力により、副真空室に設置された収納
ケース（図示省略）に上下方向にほぼ同一で収納されて
いたアーム１２ａ〜１２Ｃは、アーム１２ａｓ下段のア
ーム１２ｂ、最下段のアーム１２’ｃの順で第２図の矢
印Ａ方向、すなわち、真空室（図示省略）へ操出され、
その結果、メカニカルチャック１１に掴まれたウェーハ
ｌＯは、副真空室から真空室へ搬送され、真空室に内設
された電極板（図示省略）の所定の位置にメカニカルチ
ャック１１から離されて載置される。
た量だけシーブ１３ｅ〜１３ｈを介して引出される。こ
の時生じる巻取り力により、副真空室に設置された収納
ケース（図示省略）に上下方向にほぼ同一で収納されて
いたアーム１２ａ〜１２Ｃは、アーム１２ａｓ下段のア
ーム１２ｂ、最下段のアーム１２’ｃの順で第２図の矢
印Ａ方向、すなわち、真空室（図示省略）へ操出され、
その結果、メカニカルチャック１１に掴まれたウェーハ
ｌＯは、副真空室から真空室へ搬送され、真空室に内設
された電極板（図示省略）の所定の位置にメカニカルチ
ャック１１から離されて載置される。
ウェーハｌＯの電極板への載置が完了した後に。
ドラム２０を駆動モータ１９で反時計廻りに回転させる
。そうするとロープ２１ｂは、シーブ１３ｅ〜１３ｈを
介してドラム２０に巻取られ、一方、ロープ２１ａは、
ロープ２１ｂがドラム２０に巻取ちれた量だけシーブ１
３ａ〜１３ｄを介して引出される。この時生じる巻取り
力により、アーム１２ａ、＋下段のアーム１２ｂ、最下
段のアーム１２Ｃの順で第２図の矢印Ｂ方向、すなわち
、副真空室へ引戻され、その結果、アーム１２ｉｐ下段
のアーム１２ｂ及び最下段のアームｊ２ｃは上下方向に
ほぼ同一位置となり収納ケースに収納される。
。そうするとロープ２１ｂは、シーブ１３ｅ〜１３ｈを
介してドラム２０に巻取られ、一方、ロープ２１ａは、
ロープ２１ｂがドラム２０に巻取ちれた量だけシーブ１
３ａ〜１３ｄを介して引出される。この時生じる巻取り
力により、アーム１２ａ、＋下段のアーム１２ｂ、最下
段のアーム１２Ｃの順で第２図の矢印Ｂ方向、すなわち
、副真空室へ引戻され、その結果、アーム１２ｉｐ下段
のアーム１２ｂ及び最下段のアームｊ２ｃは上下方向に
ほぼ同一位置となり収納ケースに収納される。
又、逆に、真空室の電極板に載置されたウェーハも
ｌＯの副真空室への搬送奇上記と同様の掃作にて行うこ
とができる。
とができる。
尚１本実施例ではアームを３段に分割しているが、これ
に特定する必要はなく適正な段数を選択すれば良い。
に特定する必要はなく適正な段数を選択すれば良い。
このようなウェーハ搬送装置では、多段に、かつ、スラ
イド可能に設けられたアームを、ドラムによるロープの
巻取り力を利用して繰出し並びに引戻すことができるの
で、アームの搬送ストロークを阻害することな（アーム
の収納スペースを小さ畷することができる。
イド可能に設けられたアームを、ドラムによるロープの
巻取り力を利用して繰出し並びに引戻すことができるの
で、アームの搬送ストロークを阻害することな（アーム
の収納スペースを小さ畷することができる。
本発明は１以上説明したように、ウェー／＼を掴むウェ
ーハ掴みｌ７Ｍｌ１！を一端側に具備したアームの他′
端倶に、下段のアームにスライド可能に設けられたスラ
イドベースを固定し、該スライドベースに回動可能なド
ラムに巻回されたロープを固定し、かつ、スライドベー
スの一端側のロープを、下段のアームの一端側に回動可
能に取付けられたシーブと、他端側に回動可能に取付け
られたシーブとにそれぞれ巻掛けると共に、スライドベ
ースの他端側のロープを、下段のアームの他端側に別に
回動可能に取付けられたシーブと、一端側に別に回動可
能に取付けられたシーブとにそれぞれ巻掛けたというこ
とで、アームの搬送ストロークを阻害することな（、ア
ームの収納スペースを小さくできるので、半導体製造装
置全体が小型化でき、据付面積が狭くなり、かつ、据付
ける際の場所的制約を小さくできるといった効果がある
。
ーハ掴みｌ７Ｍｌ１！を一端側に具備したアームの他′
端倶に、下段のアームにスライド可能に設けられたスラ
イドベースを固定し、該スライドベースに回動可能なド
ラムに巻回されたロープを固定し、かつ、スライドベー
スの一端側のロープを、下段のアームの一端側に回動可
能に取付けられたシーブと、他端側に回動可能に取付け
られたシーブとにそれぞれ巻掛けると共に、スライドベ
ースの他端側のロープを、下段のアームの他端側に別に
回動可能に取付けられたシーブと、一端側に別に回動可
能に取付けられたシーブとにそれぞれ巻掛けたというこ
とで、アームの搬送ストロークを阻害することな（、ア
ームの収納スペースを小さくできるので、半導体製造装
置全体が小型化でき、据付面積が狭くなり、かつ、据付
ける際の場所的制約を小さくできるといった効果がある
。
第１図、第２図は、本発明の一実施例を説明するもので
、第１図は、本発明によるウェーハ搬送慶 装置の立体図、第２図は、ロー乞掛は並びにアームの作
動状態を示す模式図である。 １１・・・・・・メカニカルチャック、１２ａから１２
Ｃ・・・・・・アーム、１３．１３ｍから１３ｈ・・・
・・・ シーブ、１５．１５’・・・スライドベース、
２０・・・・・・ドラム。 ２１ａ、２１ｂ・・・・・・ロープ
、第１図は、本発明によるウェーハ搬送慶 装置の立体図、第２図は、ロー乞掛は並びにアームの作
動状態を示す模式図である。 １１・・・・・・メカニカルチャック、１２ａから１２
Ｃ・・・・・・アーム、１３．１３ｍから１３ｈ・・・
・・・ シーブ、１５．１５’・・・スライドベース、
２０・・・・・・ドラム。 ２１ａ、２１ｂ・・・・・・ロープ
Claims (1)
- １、 半導体製造１１１にの真空室と該真空室に具設さ
れた副真空−との間で、ウェーハをウェーハ掴み！Ｉ置
で掴みＪｌ＠するウェーハ搬送ｌｌ１Ｉｌにおいて、前
記ウェーハ掴み装置を一端側に具備したアームの他端側
に、下段のアームにスライド可能に設けられたスライド
ベースを固定し、該スライドベースに１回動可能なドラ
ムに巻回されたロープを固定し、かつ、スライドベース
の一端側のロープを、下段のアームの一端側に回動可能
に取付けられたシーブと、他端側に回動可能に取付けら
れたシーブとにそれぞれ讐掛けると共にスライドベース
の他端側のロープを、下段のアームの他端側に別に回動
可能に取付けられたシーブと、一端側に別に回動可能に
取付けられたシーブとにそれぞれ巻掛けたことを特徴と
するウェーハ搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18113081A JPS5884435A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | ウエ−ハ搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18113081A JPS5884435A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | ウエ−ハ搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5884435A true JPS5884435A (ja) | 1983-05-20 |
Family
ID=16095390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18113081A Pending JPS5884435A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | ウエ−ハ搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5884435A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60249590A (ja) * | 1984-05-23 | 1985-12-10 | 光洋自動機株式会社 | 伸縮ア−ム |
| JPS6144843U (ja) * | 1984-08-27 | 1986-03-25 | 海上電機株式会社 | 清浄部品の搬送機 |
| US6688189B2 (en) | 2000-04-20 | 2004-02-10 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Robot |
| CN111791247A (zh) * | 2020-07-01 | 2020-10-20 | 北方工业大学 | 变刚度线驱动柔性抓手及其变刚度控制方法 |
-
1981
- 1981-11-13 JP JP18113081A patent/JPS5884435A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60249590A (ja) * | 1984-05-23 | 1985-12-10 | 光洋自動機株式会社 | 伸縮ア−ム |
| JPS6144843U (ja) * | 1984-08-27 | 1986-03-25 | 海上電機株式会社 | 清浄部品の搬送機 |
| US6688189B2 (en) | 2000-04-20 | 2004-02-10 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Robot |
| CN111791247A (zh) * | 2020-07-01 | 2020-10-20 | 北方工业大学 | 变刚度线驱动柔性抓手及其变刚度控制方法 |
| CN111791247B (zh) * | 2020-07-01 | 2021-12-10 | 北方工业大学 | 变刚度线驱动柔性抓手及其变刚度控制方法 |
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