JPS5879886A - 装飾体の製造法 - Google Patents
装飾体の製造法Info
- Publication number
- JPS5879886A JPS5879886A JP17711381A JP17711381A JPS5879886A JP S5879886 A JPS5879886 A JP S5879886A JP 17711381 A JP17711381 A JP 17711381A JP 17711381 A JP17711381 A JP 17711381A JP S5879886 A JPS5879886 A JP S5879886A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- glaze
- decorative body
- producing
- glazed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は新規な模様面をもつ装飾体の製造法に関する
。
。
透明誘電体薄膜の示す干渉色は古くから多くの人の注意
をひき、貝からを使ったらでん、真珠、魚鱗の象嵌など
天然品を使った装飾体が好んで作られているが、最近は
薄膜製造技術の進歩によシ人工的に作った透明誘電体薄
膜の干渉色を利用した装飾体が多数見られるようになっ
た。これらの装飾体は、ガラス、金属板、金属箔に透明
誘電体を真空蒸着またはスパツタリング、イオンブレー
ティング、気相成長などの方法によシ適当厚さの皮膜と
して付着せしめ、光の干渉色を示すよ）にしたものであ
る。しかし、これらの干渉色を示す表面は、光沢をもつ
一様な平面または曲面であって連続薄膜であり、干渉色
面は美しいが単調である。
をひき、貝からを使ったらでん、真珠、魚鱗の象嵌など
天然品を使った装飾体が好んで作られているが、最近は
薄膜製造技術の進歩によシ人工的に作った透明誘電体薄
膜の干渉色を利用した装飾体が多数見られるようになっ
た。これらの装飾体は、ガラス、金属板、金属箔に透明
誘電体を真空蒸着またはスパツタリング、イオンブレー
ティング、気相成長などの方法によシ適当厚さの皮膜と
して付着せしめ、光の干渉色を示すよ）にしたものであ
る。しかし、これらの干渉色を示す表面は、光沢をもつ
一様な平面または曲面であって連続薄膜であり、干渉色
面は美しいが単調である。
この発明は、光の干渉色を利用した装飾体を目的とする
点では上記従来法と同じであるが、それよシももつと複
雑で深遠な光干渉模様層を発現せしめんとするものであ
る。
点では上記従来法と同じであるが、それよシももつと複
雑で深遠な光干渉模様層を発現せしめんとするものであ
る。
すなわち、この発明は、釉を施した基体の釉面に金属薄
膜を形成し、さらにその上に無機化合物の薄膜を形成し
、これを高温処理し、美的模様を示す光干渉性表面層を
形成することを特徴とする装飾体の製造法を要旨とする
ものである。
膜を形成し、さらにその上に無機化合物の薄膜を形成し
、これを高温処理し、美的模様を示す光干渉性表面層を
形成することを特徴とする装飾体の製造法を要旨とする
ものである。
本発明に用いる基体としては、銅、銀、金、鉄、鋼、ス
テンレスその他の合金などの金属、セラミック、陶磁器
、ガラスなどの耐熱性材料が挙けられる。
テンレスその他の合金などの金属、セラミック、陶磁器
、ガラスなどの耐熱性材料が挙けられる。
釉としては、陶磁器用の釉と金属用の釉（ポーロー釉、
七宝釉）があるが、上記基体の材質に合せて、適当な釉
を適宜選択して用いる。釉は無色、有色、不透明のいず
れでもよい０基体に対する釉掛けは従来知られている方
ｔで行なえばよい。
七宝釉）があるが、上記基体の材質に合せて、適当な釉
を適宜選択して用いる。釉は無色、有色、不透明のいず
れでもよい０基体に対する釉掛けは従来知られている方
ｔで行なえばよい。
釉を施した基体は、ついでその釉面に金属薄膜を形成す
るが、その方法は、真空蒸着、スパッタリング、イオン
ブレーティング、気相成長およびメッキのいずれかの方
法による。この生成する金属薄膜の材質としては、Ｆｅ
、 Ｃｒ ＋Ｎｉ 、Ｃｕ 、Ａｕ 、Ａｇ 、Ｐ
ｔ 、Ｚｎ 、Ｔｊ 、Ｍｎ 、Ａｔ 、Ｍｇ 。
るが、その方法は、真空蒸着、スパッタリング、イオン
ブレーティング、気相成長およびメッキのいずれかの方
法による。この生成する金属薄膜の材質としては、Ｆｅ
、 Ｃｒ ＋Ｎｉ 、Ｃｕ 、Ａｕ 、Ａｇ 、Ｐ
ｔ 、Ｚｎ 、Ｔｊ 、Ｍｎ 、Ａｔ 、Ｍｇ 。
Ｚｒ、Ｓｔ 、Ｐｂ、Ｓｎ、 Ｉｎ、Ｓｂ、Ｃｏ、Ｍｏ
、Ｗ、Ｂｉ 、鋼。
、Ｗ、Ｂｉ 、鋼。
合金など種々のものが用いられる。
金属薄膜の厚さは、材質によって多少変動はあるが、下
層の釉の半流動によって破れる程度の厚さがよい。
層の釉の半流動によって破れる程度の厚さがよい。
金属薄膜の上にはさらに無機化合物薄膜を形成するが、
その方法は、上記金属薄膜を形成させた方法のうち、真
空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング、気相
成長のいずれかの方法による。これらの方法はかなり精
密な技術を必要としたり、金属薄膜製作より時間がかか
ったシする。無機化合物としては、Ｆｅ 、’Ｃｒ 。
その方法は、上記金属薄膜を形成させた方法のうち、真
空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング、気相
成長のいずれかの方法による。これらの方法はかなり精
密な技術を必要としたり、金属薄膜製作より時間がかか
ったシする。無機化合物としては、Ｆｅ 、’Ｃｒ 。
Ｎｉ 、Ｃｕ 、Ｚｎ、Ｔｉ 、Ｍｎ、ＡｔｐＭｇ、Ｚ
ｒ 、Ｓｉ 、Ｐｂ。
ｒ 、Ｓｉ 、Ｐｂ。
Ｓｎ 、 Ｉｎ 、Ｓｂ 、Ｃｏ 、Ｃｅ 、Ｍｏ 、
Ｗ、Ｂｉ 、Ｖ などの酸化物、ＣｄｔＳｂ、Ｚｎ
の硫化物、Ｃａｔ Ｌｉ ｔＭｇ ＃Ｎａのフッ化物
、ＮａＦ−％ｔＦ３． ＣａＯ−８ｉＯ□ などの複
合化合物、ガラス、宝石、合金の酸化物などが財いられ
、これらが薄膜として形成される。
Ｗ、Ｂｉ 、Ｖ などの酸化物、ＣｄｔＳｂ、Ｚｎ
の硫化物、Ｃａｔ Ｌｉ ｔＭｇ ＃Ｎａのフッ化物
、ＮａＦ−％ｔＦ３． ＣａＯ−８ｉＯ□ などの複
合化合物、ガラス、宝石、合金の酸化物などが財いられ
、これらが薄膜として形成される。
いずれの薄膜も干渉色を示すものである。
ζうしてできた金属薄膜、無機化合物薄膜をつけた施釉
基体は高温処理を行なうが、この際、電気炉、窯業炉の
ほかバーナー加熱、赤外線加熱、誘電または誘導加熱な
どの加熱方法が用いられる。高温処理温度は、釉が半流
動性を示す程度がよい。釉の種類により異なるが、３０
０〜１６００℃の範囲で殆んどの場合充分である。
基体は高温処理を行なうが、この際、電気炉、窯業炉の
ほかバーナー加熱、赤外線加熱、誘電または誘導加熱な
どの加熱方法が用いられる。高温処理温度は、釉が半流
動性を示す程度がよい。釉の種類により異なるが、３０
０〜１６００℃の範囲で殆んどの場合充分である。
また、高温処理の目的は、釉を半流動性にして、金属薄
膜や無機化合物薄膜にき裂、しわ、条、泡などを生じさ
せて模様に変化を与えることにもある。図はその状態を
判シ易く説明するためのものであるが、上記方法により
釉面に作った金属薄膜や無機化合物薄膜は、顕微鏡で観
察すると、太いき裂ｌから細いき裂２まで不規則に割れ
たり、しわ３、条４、泡穴５が生じたり、突沸部６によ
って下地の釉が現れたりする。
膜や無機化合物薄膜にき裂、しわ、条、泡などを生じさ
せて模様に変化を与えることにもある。図はその状態を
判シ易く説明するためのものであるが、上記方法により
釉面に作った金属薄膜や無機化合物薄膜は、顕微鏡で観
察すると、太いき裂ｌから細いき裂２まで不規則に割れ
たり、しわ３、条４、泡穴５が生じたり、突沸部６によ
って下地の釉が現れたりする。
これは釉がガラス転移点に達して起る急激な容積変化と
、薄膜の機械的強度との関係によって起るものと推定さ
れる。
、薄膜の機械的強度との関係によって起るものと推定さ
れる。
そして、金属薄膜は高温で半流動性になった釉に溶解さ
れることは少ないが、その酸化物は容易に釉に溶解され
てその干渉色を失なう〇したがって、高温処理の温度条
件、温度むら、薄膜の厚さ、同厚さむらなどにより、ま
た、高温処理時間により、上記の作用が複雑にか°らみ
合い、基体表面の薄膜には無機酸化物層および金属層に
複雑なき裂、しわ、条などが生じ、また、金属酸化物が
釉に溶解されて消失し、そこは釉の地模様に々つたり、
泡や突沸ができて、凹凸表面になってマット調になった
り、従来の単純な干渉色模様とは異なった複雑で深遠な
味わいをもって干渉色模様が得られる。
れることは少ないが、その酸化物は容易に釉に溶解され
てその干渉色を失なう〇したがって、高温処理の温度条
件、温度むら、薄膜の厚さ、同厚さむらなどにより、ま
た、高温処理時間により、上記の作用が複雑にか°らみ
合い、基体表面の薄膜には無機酸化物層および金属層に
複雑なき裂、しわ、条などが生じ、また、金属酸化物が
釉に溶解されて消失し、そこは釉の地模様に々つたり、
泡や突沸ができて、凹凸表面になってマット調になった
り、従来の単純な干渉色模様とは異なった複雑で深遠な
味わいをもって干渉色模様が得られる。
さらに高温処理によって、薄膜層を強固に釉と結合させ
ることができ、摩擦、摩耗に耐えるようになる。
ることができ、摩擦、摩耗に耐えるようになる。
高温処理時間は上記の複雑な作用を考えて、望みの模様
が現われるところに設定すればよい。
が現われるところに設定すればよい。
以下、実施例について説明する。
実施例１
清浄にした鉄板に低温ホーロー釉（融点５５０℃）を施
して釉掛けしたホーロー板を作り、これを真空蒸着装置
に入れてＦｅを釉面に厚さ約０．９ミクロンに蒸着し、
この基板をスパッタリング装置に入れ、ガラス板をター
ゲットとして、上記Ｆｅ蒸着面にさらに２０分スパッタ
リングを行ない、鮮やかな干渉色を示す基板を得た。こ
れを電気炉に入れ、６００℃に１分間熱処理することに
よシ、大小のひび割れの入ったマント調の干渉色模様を
もった基板を得た。
して釉掛けしたホーロー板を作り、これを真空蒸着装置
に入れてＦｅを釉面に厚さ約０．９ミクロンに蒸着し、
この基板をスパッタリング装置に入れ、ガラス板をター
ゲットとして、上記Ｆｅ蒸着面にさらに２０分スパッタ
リングを行ない、鮮やかな干渉色を示す基板を得た。こ
れを電気炉に入れ、６００℃に１分間熱処理することに
よシ、大小のひび割れの入ったマント調の干渉色模様を
もった基板を得た。
実施例２
清浄にしたセラミック板に釉（融点８００℃）を施し、
釉掛けしたセラミック板を金属クロムをターゲットとし
たスパッタリング装置に入れ、釉面に金属クロム薄膜を
作り、次に同じ装置を用い、アルゴンガスのほかに微量
の酸素を導入して、スパッタリングを行なうことにより
、金属薄膜の上に、さらに鮮やかな干渉色を示す酸化ク
ロムの薄膜を形成させた。これを炉（８５０℃）で３分
間処理することにより、部分的に種々の干渉色、を示す
、ひび割れ、条、穴の入った薄膜をもったセラミック板
を得た。
釉掛けしたセラミック板を金属クロムをターゲットとし
たスパッタリング装置に入れ、釉面に金属クロム薄膜を
作り、次に同じ装置を用い、アルゴンガスのほかに微量
の酸素を導入して、スパッタリングを行なうことにより
、金属薄膜の上に、さらに鮮やかな干渉色を示す酸化ク
ロムの薄膜を形成させた。これを炉（８５０℃）で３分
間処理することにより、部分的に種々の干渉色、を示す
、ひび割れ、条、穴の入った薄膜をもったセラミック板
を得た。
以上のようにこの発明によれば、新規な模様面をもつ装
飾体が得られ、これは装飾品、食器、建材、工芸品など
として極めて有用なものである０
飾体が得られ、これは装飾品、食器、建材、工芸品など
として極めて有用なものである０
図はこの発明の製品の表面状態の説明図である０
１・・・太いき裂 ２・・・細いき裂３・・・し
わ ４・・・条５・・・泡 穴 ６
・・・突沸部特許出願人 真意１） 亨 代理人弁理士小松秀岳
わ ４・・・条５・・・泡 穴 ６
・・・突沸部特許出願人 真意１） 亨 代理人弁理士小松秀岳
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 釉を施した基体の釉面に金属薄膜を形成し、さらに
その上に無機化合物薄膜を形成し、これを高温処理し、
美的模様を示す光干渉性表面層を形成することを特徴と
する装飾体の製造法。 ２、金属薄膜および無機化合物薄膜の形成を真空蒸着、
スパツタリング、イオンブレーティング、気相酸・長お
よびメッキのいずれかの方法にて行なう特許請求の範囲
第１項記載の装飾体の製造法。 ３、 高温処理は、釉が半流動性となる温度で行なう特
許請求の範囲第１項記載の装飾体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17711381A JPS5879886A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 装飾体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17711381A JPS5879886A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 装飾体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5879886A true JPS5879886A (ja) | 1983-05-13 |
| JPH0137353B2 JPH0137353B2 (ja) | 1989-08-07 |
Family
ID=16025380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17711381A Granted JPS5879886A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 装飾体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5879886A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102276294A (zh) * | 2011-07-15 | 2011-12-14 | 广东长城集团股份有限公司 | 一种铜红釉及其生产方法和用其制成陶瓷产品的方法 |
-
1981
- 1981-11-06 JP JP17711381A patent/JPS5879886A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102276294A (zh) * | 2011-07-15 | 2011-12-14 | 广东长城集团股份有限公司 | 一种铜红釉及其生产方法和用其制成陶瓷产品的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0137353B2 (ja) | 1989-08-07 |
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