JPS5964782A

JPS5964782A - 装飾体の製造法

Info

Publication number: JPS5964782A
Application number: JP17091382A
Authority: JP
Inventors: Toru Mashida; 真志田　亨; Sumeo Matsushita; 松下　寿米男; Noboru Tezuka; 手塚　昇
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1982-10-01
Filing date: 1982-10-01
Publication date: 1984-04-12
Also published as: JPS626636B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】この発明は新規な模様面をもつ装飾体の製造法に関ダる
。

透明誘電体簿膜の示ず干渉口は古くがら多くの人の注意
をひき、貝からを使ったらでん、真珠、魚鱗の象嵌など
天然品を使った”ｊｊｉ飾体が好んで作られているが、
最近は基膜製造技術の進歩により人工的に作った透明誘
電体薄膜の干渉色を利用しＩこ装飾体が多数党られるｊ
、うになった。これらの装飾体は、ガラス、金属板、金
属箔に透明誘電体を真空蒸着またはスパッタリング、イ
オンブレーティング、気相成長などの方法により適当厚
さの皮膜としてイ」着せしめ、光の干渉色を示す−よう
にしたものである。しかしながら、かかる方法で透明誘
電体薄膜を作るのは必ずしも容易ではなく、高度で精密
な技術を必要としたり、金属簿膜を作るに較べて時間が
かかったり覆る。

（こで本出願人は、複雑で深遠な光干渉中１１模様層を
、何等高度な精密技術を要することなく簡ｊ１１に’＞
、ｕ　＋＋、′ｉ間に発現μしめる技術を間発し、さき
に１４１腐１　ｉｌｌ　５Ｇ　−１７７１４２号公報と
して出願した。

該技（）Ｆ＋は釉を庵した基体の釉面に金属薄膜を形成
し、これを酸素雰囲気中で高温処理し、美的模様を承り
光干渉性表面層を形成する方法である。

この方法にＪこれば、複雑で深遠な光干渉性模様層を１
つつ画期的な装飾体が得られるが、干渉１ノ［模（コニ
は、膜面に対して見る角度（方向）にＪ、って、特に強
く干渉色が現われたり、弱く現われたりりる。これは干
渉光の性質」ニ当然のことではあるが、一つの問題点で
あった。

本発明は、この点を改善すべくなされ１（ｔ）ので、釉
面に凹凸模様をつけることによって、どの角度から兄゛
Ｃも一様な干渉色が現われるようになすものである。

リ−なわぢ、その第、−発明は基体面に釉を微細凹凸状
に施し、その上に金属薄膜を形成して、これを酸素雰囲
気中で高温処理し、美的模様を示（光干渉性表面層を形
成づることを１４敬どする装飾体の製造法を要旨どＪる
。。

本発明に用いる基体としては、銅、銀、金、鉄、鋼、ス
テンレスその他の合金などの金属、セラミック、１（η
１ｌ（ｌ器、ガラスなどの１１１熱性拐オ′」が挙げら
れる。

釉としては、陶磁器用の釉と金属用の釉（小−ロー釉、
七宝釉）があるが、上記基体の材質に合けて、適当な釉
を適宜）パ択して用いる。釉（よ無色、有色、不透明の
いずれでしよい。かかる釉を微細凹凸状に施こづには、
釉の粉末を基体面に適当に散布するだけでよい。そうす
ると、焼成後、釉面が島状、ゆづ゛肌状；したはちりめ
／Ｖ状などの微細凹凸状を示すようになる。粕粉を基体
面に粗く散布覆るか密に散布づるかにＪ、って、また、
散布する呈を加減Ｊることによって、焼成後の釉面の凹
凸の山谷が浅くなったり、深くなったりし、上述のゆず
肌やちりめ／υ状になったり、また、釉のかかっていな
い基体面が現われて、釉が島状に存在する模様をつくる
ことができる。

また、第二発明は釉を施しＩｃ基体面に、耐熱性細粒を
散布して焼成することにＪこつて微細凹凸表面を形成し
、その上に金属薄膜を形成して、これを酸素雰囲気中℃
゛高温処理し、美的模様を示す光干渉性表面１＆を形成
することを特徴とりる装飾体の製造法を要旨とする。

この方法は施釉した基体面に、耐熱性細粒を散布して焼
成づることによって、凹凸模様の釉面を形成り−るもの
であるが、耐熱性細粒としてはガラスピースなど無機質
の小球粉、金属の小球またはガラス、レラミックス、金
属、宝石などの細破砕片などが用いられる。これらは、
焼成に当って完全には溶けない程度の耐熱性が必要であ
る。

この方法にＪ、っても、釉面ば凹凸を形成し、表面に形
成される金属薄膜による干渉光は広範囲の角度に４つた
って一様に反射される。

上記二つの発明において、釉を施した基体は、上）小の
Ｊ、うに干渉色を出すために、表面に金属薄膜が形成さ
れるが、その方法は、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンブレーティング、気相成長およびメッキのいずれかの
方法による。この形成り−る金属薄膜の材質としては、
Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、７ｎ、Ｔｉ、Ｍｎ、、Ａｊ２
、Ｍｇ、Ｚ「、Ｓｌ、ｐＨ、Ｓｌ）、１１１、Ｓｂ、Ｇ
ｏ　、Ｍｏ　、Ｗ、、Ｂｉ　、鋼、合金など種々のもの
が用いられるが、高温の酸素雰囲気中で容易に酸化され
る金属がよい。

金属ａ膜の厚さは、材質にＪこつて多少変動はあるか、
酸化して表面に光の干渉色ができる厚さ例えば３０ミリ
ミクロン以上がよい。

こうしてできた金属薄膜をつりた施釉基体は、酸素雰囲
気中で高温処理を行なう。電気炉にＪ：るとぎは、空気
中でよく、特に酸素を導入する必要は４ｒい。窯業炉の
揚台は酸化実炉を用いる。

高温処理としては、炉内での処理以外に、空気中でのバ
ーナー加熱、赤外線加熱、誘導または誘電加熱などの加
熱方法が用いられる。高温処理の温度は、金属、１９膜
が酸化し、釉が半流動ｆ１を承り程度かよい。金属薄膜
や釉の種類にＪ、って異なるが、３００〜１６００℃の
範囲であれば、はとんどの場合充分である。

高温処理されると、金属薄膜はｊ！やかに表面から酸化
されて酸化：（１１膜を形成し、干渉色を現４つりＪ、
うになるが、酸化が進むにつれて、干渉色も変化してゆ
く。これは既に知られてい”る透明誘電体）１９膜に関
す−る光学的厚さと干渉色の関係に従って変ってゆくも
のと考察される。この場合途中の段階では、上層は金属
酸化物７１９１ωで、下層は金属薄膜の状態どなってい
る。高温処理をこの段階で止めること・しあり、金属Ａ
９臥全体を完全に醇化覆ることもあり、また金属薄膜の
一部を全酸化し、一部には金属部分を十１１′４に残し
ておくこともある。要するに希望づる模様および色彩に
応じて金属薄膜の酸化程度を適宜制御づるものである。

また、高温処理の目的は、上記の如く金属薄膜を酸化さ
せて、干渉色を示す透明金属酸化物の薄膜を形成づる以
外に、釉を半流動性にして、金属層や金属酸化物層にき
裂、しわ、条、泡（２とを生じさけて、模様に変化を勺
えることにもある。ターなわら、上記方法にＪ、り釉面
に作った金属薄膜中の金属酸化物Ｊ３よび金属層は、顕
微鏡で観察りると、太いき裂からほそいき裂まで不規則
に割れたり、しわ、条、泡穴が牛したり、突沸部にＪ、
って下地の釉が現れｌζりづる。これは釉がガラス転位
点に達して起るχを激な容積変化と、薄膜の機械的強度
との関係にＪ、って起るしのと推定される。

そして、金属薄膜は高温で半流動性になった釉に溶解さ
れることは少ないが、金属酸化物層は容易に釉に溶解さ
れてその干渉色を失なう。

したがって、高温処理の濡庶条イ′１．４６度むら、薄
膜の厚さ、同厚さむらなどにより、また、酸化程度（処
理時間）により、上記の作用が複層１にからみ合い、基
体表面の金属薄膜には金属酸化物層および金属層に複雑
なき裂、しわ、条などが生じ、また、金属酸化物層が釉
に溶解されて消失し、そこは釉の地４莫様になったり、
泡や突沸ができ／ζすし、Ｊ、た、培体の凹凸釉面の効
果とあいよって、従来の甲純な干渉色模様とは巽った複
雑で深遠な味わいをもった干渉色模様が得られる。

さらに高温処理によっ°Ｃ１金属′ａ膜を強固に釉と結
合させることができ、摩１察、摩耗に耐えるＪ、うにな
る。

高温処理時間は上記の？！２雑な作用を考えて、望みの
模様が現れるところに設定すればよい。

以下、実施例について説明ηる。

実施例１耐熱性ヒラミックス板に焼成温度８５０℃の粕粉を篩を
用いて粗く散布し、８７０℃の炉に３分間入れて、表面
がらりめん状模様をなづ釉がすしたセラミックス板を得
た。これをチタン金属をターグツ１〜と覆るスパッタリ
ング装置に入れ、低圧アルゴン気流中で直流放電を５０
秒行ない、釉面をもったセラミックス板上に金属チタン
イ１９股を作った。これを７００℃の電気炉（空気浴）
に入れＣ酸化１つ）を作り、黄金干渉色を承りセラミッ
クス板を得た。この板はちりめ／υ模様の凹凸の面から
黄金干渉色が見られ、見る方向による干渉色の強弱は極
めてわづ°かであり、美的な黄金色らりめ／υ模様の光
干渉１１表面層をｂつセラミックス板が得られた。

実施例２耐熱性セラミックス板に焼成温度８５０°Ｃの釉を施こ
し、０．２〜０．８ｍｍのカラスヒーズを１友イ［ｊし
て焼成し、微細凹凸表面を形成した。これに実施例１と
同様の方法で釉面をもったセラミックス板上にブタンの
酸化ＩＦＪを作った。この板はゆず皿状の微細凹凸表面
をもち、その而から青色干渉口が見られ、見る方向によ
る干渉色の強弱は極めてわずかであり、美的な青色ゆず
肌模様の光干渉性表面層をｂつセラミックス板が（ｒ、
７られた。

以上のようにこの発明によれば、新規な模様面をｂつ装
飾体が得られ、これは装飾品、食器、建材、工芸品など
とし′Ｃ極めて行用なしので゛ある。

１・冒′１出願人　　真　志　ＩＪｊ　　　亭代理人弁
理士　小　松　　秀　岳

Claims

【特許請求の範囲】（１）　　基体面に釉を微柵凹凸状に施し、その上に金
属薄膜を形成して、これを酸素雰囲気中で高温処理し、
美的模様を示づ光干渉性表面層を形成することを特徴と
Ｊ“る装飾体の製造法。）２）釉を施した基体面に、耐熱性剤１粒を散布して焼
成することによって微細凹凸表面を形成し、その土に金
属薄膜を形成して、これを酸素雰囲気中で高温処理し、
美的模様を示す光干渉性表面層を形成することを特徴と
する装飾体の製造法。（３）　　金属薄膜の形成を真空蒸着、スパッタリング
、イオンブレーティング、気相成長およびメッキのいず
れかの方法にて行なう特へ′１請求の範囲第１項又は第
２項記載の装飾体の製造法。（４）　　高温処理は金属薄膜が酸化し、釉が半流動性
となる記麿で行なう特許請求の範囲ｑ１１項又は第２項
記載の装飾体の製造法。