JPS587825A - ロ−ルコ−タ - Google Patents

ロ−ルコ−タ

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Publication number
JPS587825A
JPS587825A JP10447581A JP10447581A JPS587825A JP S587825 A JPS587825 A JP S587825A JP 10447581 A JP10447581 A JP 10447581A JP 10447581 A JP10447581 A JP 10447581A JP S587825 A JPS587825 A JP S587825A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roll
glass substrate
photo resist
coating
photoresist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10447581A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuhiro Miyazaki
勝弘 宮崎
Toshiharu Nakamura
中村 利春
Shoji Fujita
藤田 正二
Masanori Munakata
宗形 正典
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP10447581A priority Critical patent/JPS587825A/ja
Publication of JPS587825A publication Critical patent/JPS587825A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はロールコータに関する。
以下、−例として、液晶表示素子用ガラス基板にホトレ
ジストを塗布する場合について説明する。
従来のロールコータは、バックアップロールの洗浄につ
いて考慮されていないため、液晶表示素子のガラス基板
(両面ネサ基板)にホトレジストを塗布するような鳩舎
、コーティングロール部よりホトレジストが飛散してバ
ックアップロールを汚染している。この汚れ部分も露光
工程で光反応して現像工稠においてレジスト残りとなり
、結果的にはエツチング後にガラス基板車両のネサ残り
となる欠点があった。
本発明の目的は前記従来技術の欠点に鑑みなされたもの
で、バックアップロールに飛散したホトレジストを連続
自動的に洗浄を行ない、両面ネサ基板の車両ネサ残りを
なくすバックアップロールの洗浄機構を備えたロールコ
ータを提供することにある。
以下、本発明を図示の実施例により説明する。
第1図は本発明になるロールコータの一実施例を示し、
液晶表示素子のガラス基板lξζ電極パターンを形成す
るためのホトレジスト2を塗布するロールコータに適用
した場合を示す。3はガラス基板1を矢印入方向に搬送
する搬送ベルト、4はガラス基板1にホトレジスト2を
転写するためのコーティングロール、5はホトレジスト
2を練るための練りロール、6はホトレジスト2を供給
する為の供給ノズル、7はガラス基板1にホトレジスト
2を転写する際の圧力を受けるバックアップロール、8
はバックアップロール7の表面を洗浄する為の洗浄ブラ
シ、9は洗浄ブラシ8を回転させる為のモータ、10は
洗浄するための洗浄液を入れる容器、11は洗浄液を貯
わえるタンク、12はタンク11内の洗浄液を循環する
ためのポンプである。
次にかから構成される装置0作用について説明する。ガ
ラス基板1は上流の設備から1枚づつ搬送ベルト3上に
供給され、搬送ベルト3により矢印A方向に搬送される
。そこでガラス基板1はコーティングロール4とバック
アップロール7の間に入り、それぞれのロール4.7の
回転により更−こ前進すると同時にガラス基板1の上T
iJ(コーティングロール4個)にホトレジスト2が塗
布されて矢印B方向に搬送され、次の設備へ移動する。
このように、本装置において、ガラス基板1#こコーテ
ィング中は特に問題ないが、ガラス基板1は所定の間隔
で搬送されるため、コーティングをしないいわゆる空運
転の状態がある。この空運転状態においてコーティング
ロール4部からホトレジスト2の一部が飛散してバック
アップロール7の表面に付着する。
このバックアップロール7#こ付着したホトレジスト2
は次のようにして洗浄される。先ず洗浄液をポンプ12
により循環させておき、更にモータ9によりブラシ8を
回転させる。この状態でブラシ8をバックアップロール
7に接触させて洗浄する。このときのブラシ8の回転方
向はバックアップロール7とは異ったものにする。次ぎ
に洗浄されたバックアップロール7の表面に付着してい
る洗浄液をガラス基板1の裏面へ転写しないようにする
ため、絞りロール13を設けて洗浄液を絞り落す。
このように、本発明になるロールコータによれば、両面
ネサガラス基板の裏面を汚すことなく、片面のみのホト
レジストコーティングが可能となる。
第3図は本発明の他の実施例を示す。本実施例はバック
アップロール7にプラスチックス製のベルト14を掛け
てもう一方をプーリ15へ掛け、ベル)14は図示して
いないモータで回転させて置き、ベルト11の乾燥ノズ
ル16によりベルト14の乾燥を行う方式においても前
記実施例と同じ結果を得ることができる。
本発明によれば、両面ネサ基板であっても片面のみへ清
浄なホトレジストコーティングを可能とし、裏面のネサ
膜残りを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す斜視図、第2図は本発
明の他の実施例を示す側面図である。 4・・・コーティングロール、   5・・・練りロー
ル、7・・・バックアップロール、   8−洗浄ブラ
シ、10−・洗浄容器、       14・・・ベル
ト。 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 練りロールとコーティングロールとバックアップロール
    より成るロールコータにおいて、バックアップロールの
    洗浄機構を設けたことを特徴とするロールコータ。
JP10447581A 1981-07-06 1981-07-06 ロ−ルコ−タ Pending JPS587825A (ja)

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JP10447581A JPS587825A (ja) 1981-07-06 1981-07-06 ロ−ルコ−タ

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JP10447581A JPS587825A (ja) 1981-07-06 1981-07-06 ロ−ルコ−タ

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JPS587825A true JPS587825A (ja) 1983-01-17

Family

ID=14381593

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JP10447581A Pending JPS587825A (ja) 1981-07-06 1981-07-06 ロ−ルコ−タ

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60151968A (ja) * 1984-01-20 1985-08-10 Mitsubishi Electric Corp 燃料電池用電極の製造方法
JPH0514116U (ja) * 1991-08-05 1993-02-23 丸ノ内紙工株式会社 シヤツ

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JPS5263U (ja) * 1975-06-18 1977-01-05

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