JPS5870215A - エレクトロクロミツク表示素子の製造方法 - Google Patents
エレクトロクロミツク表示素子の製造方法Info
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- JPS5870215A JPS5870215A JP16971281A JP16971281A JPS5870215A JP S5870215 A JPS5870215 A JP S5870215A JP 16971281 A JP16971281 A JP 16971281A JP 16971281 A JP16971281 A JP 16971281A JP S5870215 A JPS5870215 A JP S5870215A
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/153—Constructional details
- G02F1/1533—Constructional details structural features not otherwise provided for
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエレクトロクロミック表示素子の新規な製造方
法に関する。
法に関する。
電圧印加によｐ１可逆的に酸化還元反応が起き、その物
質が可逆的に発消色する現象會、エレクトロクロミズム
と言う。このような現象を示す材料即ちエレクトロクロ
ミック材料を用いて、電圧加除操作により発色・消色を
繰９返す表示素子を作り、この表示素子により時計の数
字や電子計算機の数字ｔ−嵌示しようとの試みは、１５
年以上前から行なわれている。ガえば、ガラス基板の上
に透明電極膜（陰極）、三酸化タングステン薄膜、二酸
化ケイ素のような絶縁膜、電極膜（陽極）を順次積層し
てなるエレクトロクロミック表示素子が既に知られてい
る。この表示素子に電圧を印加すると三酸化タングステ
ン（ＷＯｓ ）薄膜が青色に着色する。その浸、この表
示素子に逆の電圧を印加すると、ＷＯｓ薄膜の青色が消
えて無色になる。この着色・消色する機構は詳しくは解
明されていないがｗ ｏ ｓ ＊ １Ｋ及び絶縁膜中に
含まれる微量の水分が、ＷＯ，の着色・消色を支配して
いることが知られている。
質が可逆的に発消色する現象會、エレクトロクロミズム
と言う。このような現象を示す材料即ちエレクトロクロ
ミック材料を用いて、電圧加除操作により発色・消色を
繰９返す表示素子を作り、この表示素子により時計の数
字や電子計算機の数字ｔ−嵌示しようとの試みは、１５
年以上前から行なわれている。ガえば、ガラス基板の上
に透明電極膜（陰極）、三酸化タングステン薄膜、二酸
化ケイ素のような絶縁膜、電極膜（陽極）を順次積層し
てなるエレクトロクロミック表示素子が既に知られてい
る。この表示素子に電圧を印加すると三酸化タングステ
ン（ＷＯｓ ）薄膜が青色に着色する。その浸、この表
示素子に逆の電圧を印加すると、ＷＯｓ薄膜の青色が消
えて無色になる。この着色・消色する機構は詳しくは解
明されていないがｗ ｏ ｓ ＊ １Ｋ及び絶縁膜中に
含まれる微量の水分が、ＷＯ，の着色・消色を支配して
いることが知られている。
着色の反応式は下記のように推定されている。
Ｈ鵞Ｑ−）Ｈ＋ ０Ｈ−
（ＷＯ，膜＝陰極＠）
ＷＯＩ ＋ ｎＨ＋ ｎｓ−−画一→ＨｎＷＯ１無色
青色 （絶縁膜＝陽極＠） ２０ Ｈ”’−ンＨｆＯ＋２０ｔ↑十・−従って、この
ような表示素子の欠点は、■着色反応の際、酸素ガス発
生という好ｆしくない副反応によ）−含有水分が消費さ
れること、及び■逆の消色反応によって水が生成されな
いので、着色の繰り返しには大気中からの水の補給が必
要なことである。咎に後者■の理由によｐｌこのタイプ
の表示素子には、着色の再現性が大気中の水分の影響を
受ける欠点がある。
青色 （絶縁膜＝陽極＠） ２０ Ｈ”’−ンＨｆＯ＋２０ｔ↑十・−従って、この
ような表示素子の欠点は、■着色反応の際、酸素ガス発
生という好ｆしくない副反応によ）−含有水分が消費さ
れること、及び■逆の消色反応によって水が生成されな
いので、着色の繰り返しには大気中からの水の補給が必
要なことである。咎に後者■の理由によｐｌこのタイプ
の表示素子には、着色の再現性が大気中の水分の影響を
受ける欠点がある。
最近、着色反応によｐ消費される水の量と同じ量の水が
消色反応により生成され、従って外界からの水分の補給
を必要とせすに着色・消色を繰シ返すことができ、しか
も繰シ返される着色鎖度が外界の影響を受けない全固体
溢エレクトロクロミンク表示素子が提案され友（％開昭
５２−７３７４９号公報参照）。この表示素子は、基本
的には透明電極、電解還元発色性薄膜ガえばＷＯ，、電
解酸化性薄膜ガえばＣｒ ＠ Ｑ Ｂ及び対向電極を順
次積層してなるものである。１した、前記公報の開示に
よれば、電圧印加による着色後、電圧を解除した場合、
着色が自然放電によｐ次第に消色する現象が見られ、電
圧解除後も着色が保存される性質（これをメモリー性と
言う）ｔ−この表示素子に与える几めには、透明電極と
対向電極との間の任意の位置に絶縁膜例えば二酸化ケイ
素、フッ化マグネシウムなどの薄膜を設けることが必要
であると言う。なお、この絶縁膜は本発明者らの推察に
よれば、電子の良導体ではないが、プロトン（Ｈ＋）及
びヒドロキシイオン（ＯＨ−、ｌの移動は自由にできる
物質である。
消色反応により生成され、従って外界からの水分の補給
を必要とせすに着色・消色を繰シ返すことができ、しか
も繰シ返される着色鎖度が外界の影響を受けない全固体
溢エレクトロクロミンク表示素子が提案され友（％開昭
５２−７３７４９号公報参照）。この表示素子は、基本
的には透明電極、電解還元発色性薄膜ガえばＷＯ，、電
解酸化性薄膜ガえばＣｒ ＠ Ｑ Ｂ及び対向電極を順
次積層してなるものである。１した、前記公報の開示に
よれば、電圧印加による着色後、電圧を解除した場合、
着色が自然放電によｐ次第に消色する現象が見られ、電
圧解除後も着色が保存される性質（これをメモリー性と
言う）ｔ−この表示素子に与える几めには、透明電極と
対向電極との間の任意の位置に絶縁膜例えば二酸化ケイ
素、フッ化マグネシウムなどの薄膜を設けることが必要
であると言う。なお、この絶縁膜は本発明者らの推察に
よれば、電子の良導体ではないが、プロトン（Ｈ＋）及
びヒドロキシイオン（ＯＨ−、ｌの移動は自由にできる
物質である。
本発明者は今ここにそれ自体一部公知のエレクトロクロ
ミック表示素子であるが、その製造方法について研究を
行なった。
ミック表示素子であるが、その製造方法について研究を
行なった。
電解酸化性薄膜として水酸化ニッケルや水酸化イリジウ
ムｔ−便用する場合、先ず、それらの金楓自体會真空蒸
着し死後、（ｊｔ酸水溶液や水酸化ナトリウム水溶液中
で電解酸化（陽極酸化）することにより、それらの金属
を水酸化物に変えることを試みた。しかしながら、この
ような酸又はアルカリ水溶液中での電解酸化は、その後
の洗浄、乾燥工程なども含め、極めて面倒であシ、製造
設備や製造コストの上昇を招く。ところが、研究を進め
るうち本発明者らは偶然にも金属ニッケルや金属イリジ
ウムを蒸着した後、その１１史に電極層會蒸着し得られ
友構造物に大気中で交扼電ａｔしばら〈通電すると次第
にそれらの金属が大気中又は他の層中の水分と反応して
水酸化物に変わｐ１エレクトロクロミズムを示すことを
発見した。
ムｔ−便用する場合、先ず、それらの金楓自体會真空蒸
着し死後、（ｊｔ酸水溶液や水酸化ナトリウム水溶液中
で電解酸化（陽極酸化）することにより、それらの金属
を水酸化物に変えることを試みた。しかしながら、この
ような酸又はアルカリ水溶液中での電解酸化は、その後
の洗浄、乾燥工程なども含め、極めて面倒であシ、製造
設備や製造コストの上昇を招く。ところが、研究を進め
るうち本発明者らは偶然にも金属ニッケルや金属イリジ
ウムを蒸着した後、その１１史に電極層會蒸着し得られ
友構造物に大気中で交扼電ａｔしばら〈通電すると次第
にそれらの金属が大気中又は他の層中の水分と反応して
水酸化物に変わｐ１エレクトロクロミズムを示すことを
発見した。
従って、本発明は、少なくとも次の５層：Ａ：電極層
Ｂ：可逆的に電解還元発色可能な層
Ｃ：電子絶縁性でイオン電導性の層
Ｄ：その水酸化物が可逆的に電解酸化可能な金属の層
Ｅ：電極層
からなる構造物の電極間に大気中で交流電圧を印加して
Ｄ層を水醗化物化することを特徴とするエレクトロクロ
ミック表示素子の製造方法を提供する。
Ｄ層を水醗化物化することを特徴とするエレクトロクロ
ミック表示素子の製造方法を提供する。
本発明１に実施するに際しては必要に応じ電極層の外側
に基板を設けてもよく、この場合には例えば、ガラス、
セラミックス、プラスチックスのように強靭で透明なも
のが使用されるが、反射徴の表示素子の場合には、観察
されない側の基板は必ずしも透明である必要はない。
に基板を設けてもよく、この場合には例えば、ガラス、
セラミックス、プラスチックスのように強靭で透明なも
のが使用されるが、反射徴の表示素子の場合には、観察
されない側の基板は必ずしも透明である必要はない。
Ａ、Ｅの電極層としては、ネサ（８１０１）、ＩＴＯ（
酸化インジウムに５−程度の８ｎＯ＠の混入したもの
−透明性がよい）、酸化インジラム（Ｉｎ４０．）
、ヨウ化鋼、金、白金、パラジウム、アルミニウム、銀
、導電性ｆＩｉ脂などが使用されるが、Ａ、Ｅ２層のう
ち少なくとも観察側の電極は透明でなければならない。
酸化インジウムに５−程度の８ｎＯ＠の混入したもの
−透明性がよい）、酸化インジラム（Ｉｎ４０．）
、ヨウ化鋼、金、白金、パラジウム、アルミニウム、銀
、導電性ｆＩｉ脂などが使用されるが、Ａ、Ｅ２層のう
ち少なくとも観察側の電極は透明でなければならない。
電極層の厚さは０．０１〜α５μｍ で十分であるが、
これより厚いものを望む場合には、厚くともよい。
これより厚いものを望む場合には、厚くともよい。
Ｂ層の可逆的に電解還元発色可能な層としては、三酸化
タングステン、三酸化モリブデンが挙げられるが、なか
でも三酸化タングステンが好ましい。
タングステン、三酸化モリブデンが挙げられるが、なか
でも三酸化タングステンが好ましい。
０層の電子絶縁性でイオン電場性の層としては、■液状
電解質・・・・・・・・・ ガえばａＳ−塩酸のような
酸又はその水ｆＩ！ｒ液、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムのようなアルカリの水溶液、塩化ナトリウム、塩
化リチウム、塩化カリウム、硫酸リチウムのような固体
強電解質の水溶液、 ■半固体ゲル電解質・・・・・・・・・例えば電解質水
浴液をゲル化剤ガえはポリビニルアルコール、ＣＭＣ，
寒天、ゼラチンなどでゲル化させたもの、 ＜Ｐ−ＴｓＯＨ＋尿素（モル比で１２：ｌで混合したも
の）〉■固体電解質・・・・・・・・・例えばＨＶＰ、
Ｂ−，４／、Ｏｓ、Ｎａ ３ Ｚｒ２５ｔ！Ｐ０，１
、Ｎ１．＋ｘＺｒｌＳｔｘＰ１−ｘｏ１＊＼”！ｌ Ｙ
Ｑ Ｏａｔ％ Ｒｂ１ｇ４１＠ ｓ など、■水又は
イオン含有合成樹脂固体・・・・・・・・・例えばメタ
クリル酸β−ヒドロキシエチルと２−アクリルアミド−
２−メチルプロパンスルホン酸との共重合体、含水メタ
クリル酸メチル共１合体のよつな含水ビニル重合体、含
水ポリエステルなど、 ■その但・・・・・・・・・酸化タンタル（Ｔａ！Ｏ＠
）、ＷＲ化ニオブ（Ｎｂ、０．）、酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ，）、酸化チタン（Ｔｉｅ、）、酸化ハフニウ
ム（ＨｆＯヨ〕、酸化イツトリウム（Ｙ、Ｏ，Ｊ、酸化
ランタン（’ＬｍｔＯ３）、酸化珪素（Ｓｔ、、 ）フ
ッ化マグネシウム、リン酸ジルコニウムあるいはこれら
の混合物質であるがその中で酸化タンタルが好１し７い
。これらの物質は、電子に対して絶縁体であるが、プロ
トン（Ｈ＋）及びヒドロキシイオン（ＯＨ−）に対して
Ｆｉ曳導体である。
電解質・・・・・・・・・ ガえばａＳ−塩酸のような
酸又はその水ｆＩ！ｒ液、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムのようなアルカリの水溶液、塩化ナトリウム、塩
化リチウム、塩化カリウム、硫酸リチウムのような固体
強電解質の水溶液、 ■半固体ゲル電解質・・・・・・・・・例えば電解質水
浴液をゲル化剤ガえはポリビニルアルコール、ＣＭＣ，
寒天、ゼラチンなどでゲル化させたもの、 ＜Ｐ−ＴｓＯＨ＋尿素（モル比で１２：ｌで混合したも
の）〉■固体電解質・・・・・・・・・例えばＨＶＰ、
Ｂ−，４／、Ｏｓ、Ｎａ ３ Ｚｒ２５ｔ！Ｐ０，１
、Ｎ１．＋ｘＺｒｌＳｔｘＰ１−ｘｏ１＊＼”！ｌ Ｙ
Ｑ Ｏａｔ％ Ｒｂ１ｇ４１＠ ｓ など、■水又は
イオン含有合成樹脂固体・・・・・・・・・例えばメタ
クリル酸β−ヒドロキシエチルと２−アクリルアミド−
２−メチルプロパンスルホン酸との共重合体、含水メタ
クリル酸メチル共１合体のよつな含水ビニル重合体、含
水ポリエステルなど、 ■その但・・・・・・・・・酸化タンタル（Ｔａ！Ｏ＠
）、ＷＲ化ニオブ（Ｎｂ、０．）、酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ，）、酸化チタン（Ｔｉｅ、）、酸化ハフニウ
ム（ＨｆＯヨ〕、酸化イツトリウム（Ｙ、Ｏ，Ｊ、酸化
ランタン（’ＬｍｔＯ３）、酸化珪素（Ｓｔ、、 ）フ
ッ化マグネシウム、リン酸ジルコニウムあるいはこれら
の混合物質であるがその中で酸化タンタルが好１し７い
。これらの物質は、電子に対して絶縁体であるが、プロ
トン（Ｈ＋）及びヒドロキシイオン（ＯＨ−）に対して
Ｆｉ曳導体である。
０層は液状又は半固体ゲル状の場合Ｂ層とＤ層にサンド
イッチされ良形で存在するが、水又はイオン含有合成樹
脂固体の場合Ｂ層とＤ層との接着剤層ｔ−兼用させても
よく、この方法は本出願人の特願昭５６−９８４０４号
の明細書に詳しい。この場合、０層の厚さは約α１〜１
０００μｍ で十分である。
イッチされ良形で存在するが、水又はイオン含有合成樹
脂固体の場合Ｂ層とＤ層との接着剤層ｔ−兼用させても
よく、この方法は本出願人の特願昭５６−９８４０４号
の明細書に詳しい。この場合、０層の厚さは約α１〜１
０００μｍ で十分である。
０層を薄くしたい目的あるいは液もれの心配を解決した
い目的から、■のいわゆる固体絶縁体を使用することは
好ましく、この場合には厚さ１＆：０．００１〜１０趨
にすることが可能である。
い目的から、■のいわゆる固体絶縁体を使用することは
好ましく、この場合には厚さ１＆：０．００１〜１０趨
にすることが可能である。
ＣＭＩは透過機の表示素子を希望する場合には、できる
だけ透明なものでなければならない。
だけ透明なものでなければならない。
Ｄ層の水酸化物が可逆的に電解酸化可能な金属としては
、飼えばイリジウム、ニッケル、ルテニウム、ロジウム
、クロムなどが挙げられるがなかでも、イリジウム及び
ニッケルが好ましい。これらの金属は水酸化物になると
エレクトロクロミズムを示す。
、飼えばイリジウム、ニッケル、ルテニウム、ロジウム
、クロムなどが挙げられるがなかでも、イリジウム及び
ニッケルが好ましい。これらの金属は水酸化物になると
エレクトロクロミズムを示す。
Ｄ層の厚さはＢ層も同じであるが、通常α００１〜数μ
ｍ で十分である。
ｍ で十分である。
Ａ〜Ｅ層は、０層が液状、半固体ゲル状、合成樹脂であ
る場合を除き、薄膜形成技術ガえは真空蒸着、スパッタ
リングなどによｐ形成される。
る場合を除き、薄膜形成技術ガえは真空蒸着、スパッタ
リングなどによｐ形成される。
また、パターン状に表示したい場合には、０層を除く、
いずれか少くとも一層をパターニングしてもよく、ある
いは任意の層間又は層上にパターン状の遮光層又は電子
・イオン絶縁性の層を設けてもよい。
いずれか少くとも一層をパターニングしてもよく、ある
いは任意の層間又は層上にパターン状の遮光層又は電子
・イオン絶縁性の層を設けてもよい。
Ａ−ＥＭＩは０層の選択に応じてＡ−ＩＣ１−願に積層
するか父はＡ−Ｂ積層物とＤ−Ｅ積層物を予め作成して
おき、両者でＣＮＩを挾持する方法で所望の構造物が作
られる。
するか父はＡ−Ｂ積層物とＤ−Ｅ積層物を予め作成して
おき、両者でＣＮＩを挾持する方法で所望の構造物が作
られる。
こうして得られた構造物を大気中に置き、そのＡ−Ｅ電
極間に本発明に従い交流電圧を印加する。交流の周波数
はα０１〜ｌ０Ｈｓ位で十分であｐ、波形は三角波、矩
形波、ノコギリ波、正弦波のいずれでもよい。電圧は０
．５〜３ポルト位で十分である。
極間に本発明に従い交流電圧を印加する。交流の周波数
はα０１〜ｌ０Ｈｓ位で十分であｐ、波形は三角波、矩
形波、ノコギリ波、正弦波のいずれでもよい。電圧は０
．５〜３ポルト位で十分である。
交流電圧を印加すると、Ｄ層の金属は大気中又は他の層
中からの水分と反応し、次第に金属色が抜けて透明化し
、やがてエレクトロクロミズムを示すようになる。
中からの水分と反応し、次第に金属色が抜けて透明化し
、やがてエレクトロクロミズムを示すようになる。
こうして、優れ次エレクトロクロミック表示素子が得ら
れる。
れる。
本発明によれば、酸又はアルカリ水溶液中で電解酸化す
る方法に比べて、製造設備及び工程が簡略化され、製造
コストの大巾な低下が期待される。
る方法に比べて、製造設備及び工程が簡略化され、製造
コストの大巾な低下が期待される。
本発明によシ製造されたエレクトロクロミック表示素子
は、低電圧で着色・消色ｔｍ９返すことができ、電卓や
時計の数字又は文字の表示手段、カメラ測量機等のファ
インダー内の警告表示手段、自動車のインスツルメント
パネルの表示手段、広告用ディスプレイなどに使用可能
である。
は、低電圧で着色・消色ｔｍ９返すことができ、電卓や
時計の数字又は文字の表示手段、カメラ測量機等のファ
インダー内の警告表示手段、自動車のインスツルメント
パネルの表示手段、広告用ディスプレイなどに使用可能
である。
次に本発明の実施例を示す。
実施例１
ガラス板に担持され之厚さ０．１５趨 の透明電極膜Ｃ
ＩＴＯ；微量の酸化スズの混入した酸化インジウムで形
成されている）の上に、真空蒸着法（真空［１〜５ Ｘ
１０−” Ｔｏｒｒ、蒸着速度０．００１μｍ／ｓｅ
）により厚さα０１ Ａｍのイリジウム金属の薄膜を
形成させ良。
ＩＴＯ；微量の酸化スズの混入した酸化インジウムで形
成されている）の上に、真空蒸着法（真空［１〜５ Ｘ
１０−” Ｔｏｒｒ、蒸着速度０．００１μｍ／ｓｅ
）により厚さα０１ Ａｍのイリジウム金属の薄膜を
形成させ良。
更に真空蒸着法（真空度１〜２ Ｘ １０−’Ｔａｒ。
蒸着速［２〜３ｘ１０ｉμｍ／５ｅｅ）によｐ厚さα２
５μｍの五酸化タンタルの透明な薄膜を形成させ友。五
酸化タンタル薄膜の上に真空蒸着法（真空［１〜２ Ｘ
ｌ Ｏ−’ Ｔｏｒｒ、蒸着速度５〜１０ Ｘ １０
−’ 翔／５ｅｅ）により厚さα２Ｂ４ｍの三酸化タン
グステンの透明な薄膜を形成させた。
５μｍの五酸化タンタルの透明な薄膜を形成させ友。五
酸化タンタル薄膜の上に真空蒸着法（真空［１〜２ Ｘ
ｌ Ｏ−’ Ｔｏｒｒ、蒸着速度５〜１０ Ｘ １０
−’ 翔／５ｅｅ）により厚さα２Ｂ４ｍの三酸化タン
グステンの透明な薄膜を形成させた。
最後に対向電極として透明な酸化インジウムをα１２畑
の厚さに蒸着した。
の厚さに蒸着した。
得られた構造物の２つの電極のうち、三酸化タングステ
ンに接している電極を外部電源の陽極に、金属イリジウ
ムに接している電極を外部電源の陽極に接続し、α５Ｈ
ｚ、１．５ボルトの矩形波交流電圧を印加すると、５分
後には金属イリジウム層が不透明暗灰色から次第に透明
と着色を繰り返すようになった。
ンに接している電極を外部電源の陽極に、金属イリジウ
ムに接している電極を外部電源の陽極に接続し、α５Ｈ
ｚ、１．５ボルトの矩形波交流電圧を印加すると、５分
後には金属イリジウム層が不透明暗灰色から次第に透明
と着色を繰り返すようになった。
実施？！１２
ガラス板に担持された厚さへ１５μｍの透明電極膜ＣＩ
ＴＯ）の上に、真空蒸着法（真空度１〜５ Ｘ １０−
’ Ｔｏｒｒ、蒸着速１ｊ ｌ Ｏｘ １０−４／＆ｔ
ｎ／ｗａ ）に↓９厚さα０１μｍのイリジウム金属薄
膜を形成させ九。
ＴＯ）の上に、真空蒸着法（真空度１〜５ Ｘ １０−
’ Ｔｏｒｒ、蒸着速１ｊ ｌ Ｏｘ １０−４／＆ｔ
ｎ／ｗａ ）に↓９厚さα０１μｍのイリジウム金属薄
膜を形成させ九。
次いでイリジウム薄膜の上に真空Ｓ理法（真空［１〜２
ｘ １０−’ Ｔｏｒｒ、蒸着速度２〜３ Ｘ １０
−’ μｍ／ｍｅ ）に↓〉厚さα２５μｍの五酸化タ
ンタル膜を形成させ、その上に真空蒸着法（真９．＊
１〜２ ｘ １０−’ Ｔｏｒｒ、蒸！速［５〜１０
Ｘ Ｉ Ｏ−’ μｍ／ｓａｃ ）により厚さ１２５
〜の透明な三酸化タングステンｉａｔ形成させた。
ｘ １０−’ Ｔｏｒｒ、蒸着速度２〜３ Ｘ １０
−’ μｍ／ｍｅ ）に↓〉厚さα２５μｍの五酸化タ
ンタル膜を形成させ、その上に真空蒸着法（真９．＊
１〜２ ｘ １０−’ Ｔｏｒｒ、蒸！速［５〜１０
Ｘ Ｉ Ｏ−’ μｍ／ｓａｃ ）により厚さ１２５
〜の透明な三酸化タングステンｉａｔ形成させた。
形成され九三酸化タングステン膜を写真蝕刻法により所
望のパターンＶＣパターニンクＬ友。
望のパターンＶＣパターニンクＬ友。
最後に対向電極として透明な酸化インジウムを全体に０
，１２翔 の厚さに蒸着した。
，１２翔 の厚さに蒸着した。
得られた構造物に冥施例１と同様に０．５ Ｈｚ ％１
．５ボルトの矩形波交流電圧を印加すると、５分後には
三酸化タングステン膜のパターン状に無色透明←→着色
を繰り返すようになった。前記パターンを除い皮部分は
エレクトロクロミック性を示さなかったので、その部分
に相当する金属イリジウム層は水酸化物化されなかった
と言える。
．５ボルトの矩形波交流電圧を印加すると、５分後には
三酸化タングステン膜のパターン状に無色透明←→着色
を繰り返すようになった。前記パターンを除い皮部分は
エレクトロクロミック性を示さなかったので、その部分
に相当する金属イリジウム層は水酸化物化されなかった
と言える。
実施ガ３
実施ガ１に於いて、イリジウムの代りにルテニウムを使
用し次が、はば同様の費示累子が得られ友。
用し次が、はば同様の費示累子が得られ友。
実施ｆＰ１１４
実施ｉＦＨに於いて、イリジウムの代ｐにロジウムを使
用し念が、はぼ同様の表示素子が得られた。
用し念が、はぼ同様の表示素子が得られた。
実施ガ５
ガラス板に担持された厚さα１５μｍの透明電極膜（Ｉ
ＴＯ）の上に真空蒸着法（真空度１〜２ Ｘ Ｉ Ｑ−
’ Ｔｏｒｒ、蒸着速９２〜３ＸＩ□””μｍ／（８）
）により金属ニッケルの薄＊＜厚さ０．１２丸 ）１に
形成させ良。この金属ニッケル薄膜を写真蝕刻法によｐ
所定の形状にパターニングした。その後、実施例１と同
様に三酸化タンタル薄膜、三ぽ化タングステン薄膜、対
向電極膜（酸化インジウムノを順次に蒸着し、得られ次
構造物にα５ ＨＫ 、 Ｌ ５ボルトの三角波交流電
圧を印加するを、５分後には、ニッケルのパターンに相
当する表示部が無色透明？−）黒っぽい灰色を繰シ返す
ようになった。着色前後のコントラスト比は約１：２で
あつ九、 実施ガロ 横幅３０■×長さ２０−×厚さｌ■のルミラーの上にα
１５趣の厚さの透明なＩＴＯ電極層全蒸着させた。この
ＩＴＯ層の上に実施例１と同じ条件で厚さ０．２５μｍ
の三酸化タングステンの薄層を形成し、これにより第１
部材を得た。第１部材と同様に形成されたＩＴＯ層の上
に真空蒸着法（真空度 １〜５ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒ：蒸着速度Ｉ Ｘ １
０−’μｒｎ／ｗｃ ’、温度３り℃−により、厚さα
０１μｍのイリジウム金属の薄層を形成δせ、これによ
り第２部材を製造した。
ＴＯ）の上に真空蒸着法（真空度１〜２ Ｘ Ｉ Ｑ−
’ Ｔｏｒｒ、蒸着速９２〜３ＸＩ□””μｍ／（８）
）により金属ニッケルの薄＊＜厚さ０．１２丸 ）１に
形成させ良。この金属ニッケル薄膜を写真蝕刻法によｐ
所定の形状にパターニングした。その後、実施例１と同
様に三酸化タンタル薄膜、三ぽ化タングステン薄膜、対
向電極膜（酸化インジウムノを順次に蒸着し、得られ次
構造物にα５ ＨＫ 、 Ｌ ５ボルトの三角波交流電
圧を印加するを、５分後には、ニッケルのパターンに相
当する表示部が無色透明？−）黒っぽい灰色を繰シ返す
ようになった。着色前後のコントラスト比は約１：２で
あつ九、 実施ガロ 横幅３０■×長さ２０−×厚さｌ■のルミラーの上にα
１５趣の厚さの透明なＩＴＯ電極層全蒸着させた。この
ＩＴＯ層の上に実施例１と同じ条件で厚さ０．２５μｍ
の三酸化タングステンの薄層を形成し、これにより第１
部材を得た。第１部材と同様に形成されたＩＴＯ層の上
に真空蒸着法（真空度 １〜５ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒ：蒸着速度Ｉ Ｘ １
０−’μｒｎ／ｗｃ ’、温度３り℃−により、厚さα
０１μｍのイリジウム金属の薄層を形成δせ、これによ
り第２部材を製造した。
次いで両部材を、三酸化タングステン層と金属イリジウ
ム層が互いに内側になるようＶＣ対向させ、多少横にず
らして重ね合わせ、両部材の中間に水／アクリル酸＝２
０／８０（重量比）の混合液を浸透させ、約２０国上に
ある５００Ｗの水銀灯から紫外線ｔ−１０分間照射する
ことによジアクリル＃Ｒを重合硬化させた。
ム層が互いに内側になるようＶＣ対向させ、多少横にず
らして重ね合わせ、両部材の中間に水／アクリル酸＝２
０／８０（重量比）の混合液を浸透させ、約２０国上に
ある５００Ｗの水銀灯から紫外線ｔ−１０分間照射する
ことによジアクリル＃Ｒを重合硬化させた。
こうして厚さ約１０ＩｔｒＱ のイオン透過性の電子
絶縁性樹脂層を有する構造物が得られ九。
絶縁性樹脂層を有する構造物が得られ九。
両部材のＩＴＯ層からり−ド５ｔａｂ出し三酸化タング
ステン＠を負に、金属イリジウム側を正になる様にα５
Ｈｚ１．３ボルトの矩形波交流電圧を印加した。１０分
経過すると、素子は次第に無色透明←→青色を繰や返す
ようになつ次。コントラスト比は１：３であり九。
ステン＠を負に、金属イリジウム側を正になる様にα５
Ｈｚ１．３ボルトの矩形波交流電圧を印加した。１０分
経過すると、素子は次第に無色透明←→青色を繰や返す
ようになつ次。コントラスト比は１：３であり九。
実ｍガフ
横幅３０■×長さ２０■×厚さ２５μｍの石英板の上に
敢素分圧２ Ｘ ｌ Ｏ”” Ｔｏｒｒｘ ＠着速度６
Ｘ １０−’ μｍ／ｍｅ ％温度１００℃の条件の
もとにＲＦイオンブレーティング法により厚さα１５μ
ｍの透明なＩＴＯ電極層を形成させ次。次にこのＩＴＯ
層の上に真空蒸着法（真空［１〜２ Ｘ １０−’ Ｔ
ｏｒｒ：蒸着速Ｉｆ、５〜１０ Ｘ １０−’ μｍ／
ｓｓｃ ； ｍｌ温）により厚さα２６μｍ の三酸化
タングステンの薄層を形成しこれにより第１部材【得九
〇 籐１部材と同様に形成されたＩＴＯ層の上に真空蒸着法
（真空度１〜５Ｘ１０−’ Ｔｏｒｒｓ蒸着速ｆ Ｉ
Ｘｌ ０−’ ｆｉｍ／ｗ： ”、 ｍｌ温）によ）厚
さαＯ１― のニッケル金属の薄層を形成させ、これに
よ、Ｄ＃Ｅ２部材を形成した。
敢素分圧２ Ｘ ｌ Ｏ”” Ｔｏｒｒｘ ＠着速度６
Ｘ １０−’ μｍ／ｍｅ ％温度１００℃の条件の
もとにＲＦイオンブレーティング法により厚さα１５μ
ｍの透明なＩＴＯ電極層を形成させ次。次にこのＩＴＯ
層の上に真空蒸着法（真空［１〜２ Ｘ １０−’ Ｔ
ｏｒｒ：蒸着速Ｉｆ、５〜１０ Ｘ １０−’ μｍ／
ｓｓｃ ； ｍｌ温）により厚さα２６μｍ の三酸化
タングステンの薄層を形成しこれにより第１部材【得九
〇 籐１部材と同様に形成されたＩＴＯ層の上に真空蒸着法
（真空度１〜５Ｘ１０−’ Ｔｏｒｒｓ蒸着速ｆ Ｉ
Ｘｌ ０−’ ｆｉｍ／ｗ： ”、 ｍｌ温）によ）厚
さαＯ１― のニッケル金属の薄層を形成させ、これに
よ、Ｄ＃Ｅ２部材を形成した。
次いで、この両部材を多少ずらして重ね合わせ、両部材
の中間に、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンス
ルホン＠／２−ヒドロキシ７クリレート＝４０／６０（
重量比）を充填し、ｒ線（α４ Ｍ ｒａＶｈｒ） ｆ
約５分間照射したところ重合硬化が完了した。こうして
厚さ１０１Ｒｎのイオン透過性の電子絶縁性樹脂層を有
する構造物を得た。
の中間に、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンス
ルホン＠／２−ヒドロキシ７クリレート＝４０／６０（
重量比）を充填し、ｒ線（α４ Ｍ ｒａＶｈｒ） ｆ
約５分間照射したところ重合硬化が完了した。こうして
厚さ１０１Ｒｎのイオン透過性の電子絶縁性樹脂層を有
する構造物を得た。
両部材のＩＴＯ層からリード線を引き出し実施９１１と
同様の手法でセルにα５ Ｈｚ 、 １．３Ｖの交流電
圧を印加したところ、１０ｅ後には、無色透明−一黒っ
ぽい灰色ｔｍｐ返すようにな）、そのコントラスト比は
約ｌ：２であった。
同様の手法でセルにα５ Ｈｚ 、 １．３Ｖの交流電
圧を印加したところ、１０ｅ後には、無色透明−一黒っ
ぽい灰色ｔｍｐ返すようにな）、そのコントラスト比は
約ｌ：２であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ａ：電極層 Ｂ：可逆的に電解還元発色可能な層 Ｃ；電子絶縁性でイオン電導性の層 Ｄ：その水酸イビ物が可逆的に電解酸化可能な金属の層 Ｅ：電極層 からなる構造物の電極間に大気中で交流電圧を印加して
０層を水数化物化することヲ特徴とするエレクトロクロ
ミックｌＩＩ！７１＜ ｘ子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16971281A JPS5870215A (ja) | 1981-10-23 | 1981-10-23 | エレクトロクロミツク表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16971281A JPS5870215A (ja) | 1981-10-23 | 1981-10-23 | エレクトロクロミツク表示素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5870215A true JPS5870215A (ja) | 1983-04-26 |
| JPS641775B2 JPS641775B2 (ja) | 1989-01-12 |
Family
ID=15891462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16971281A Granted JPS5870215A (ja) | 1981-10-23 | 1981-10-23 | エレクトロクロミツク表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5870215A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2625573A1 (fr) * | 1988-01-05 | 1989-07-07 | Nikon Corp | Procede pour fabriquer un dispositif a effet d'electrochrome |
| JPH0559724U (ja) * | 1991-09-20 | 1993-08-06 | テー・アー・トリウムフ−アドレル・アクチエンゲゼルシヤフト | コンピュータ等のための入力キーボード |
| CN102478740A (zh) * | 2010-11-29 | 2012-05-30 | 财团法人金属工业研究发展中心 | 一种液态充填型的变色装置和其制作方法 |
-
1981
- 1981-10-23 JP JP16971281A patent/JPS5870215A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2625573A1 (fr) * | 1988-01-05 | 1989-07-07 | Nikon Corp | Procede pour fabriquer un dispositif a effet d'electrochrome |
| DE3900244A1 (de) * | 1988-01-05 | 1989-07-13 | Nikon Corp | Verfahren zum herstellen eines elektrochromen bauelements |
| US5011582A (en) * | 1988-01-05 | 1991-04-30 | Nikon Corporation | Method for producing electrochromic device with application of AC voltage between the electrode layers |
| JPH0559724U (ja) * | 1991-09-20 | 1993-08-06 | テー・アー・トリウムフ−アドレル・アクチエンゲゼルシヤフト | コンピュータ等のための入力キーボード |
| CN102478740A (zh) * | 2010-11-29 | 2012-05-30 | 财团法人金属工业研究发展中心 | 一种液态充填型的变色装置和其制作方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS641775B2 (ja) | 1989-01-12 |
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