JPS5868999A - 多層プリント配線板の製造方法 - Google Patents
多層プリント配線板の製造方法Info
- Publication number
- JPS5868999A JPS5868999A JP16703281A JP16703281A JPS5868999A JP S5868999 A JPS5868999 A JP S5868999A JP 16703281 A JP16703281 A JP 16703281A JP 16703281 A JP16703281 A JP 16703281A JP S5868999 A JPS5868999 A JP S5868999A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hole
- multilayer printed
- holes
- layer
- printed wiring
- Prior art date
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- Granted
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は多層プリント配線板の製造方法に関し、特(二
七のスルーホールの形成方法鑞;関する〇多層プリント
配線板の製造方法を多層導−関のスルーホールの接続方
法C:よ゛・9て分類すれば今日では次の2方法が一般
的となって)る0その第1は111図に示す如く内層材
1にパターン2を作成し九のちi層材3.3′を積層し
1次いで所定の位置に孔明けした後、スルーホールめっ
きを行ないスルーホール4を形成するコンベンジ璽ナル
法であり、llI2は112図に示す如くスルーホール
めつきを各層5.6単位で行ない、それぞれスルーホー
ル7.8を作成し念のち、各鯛別層の孔位置を合わせな
がら積層を行ないインターコネクシッンを形成するサブ
アッセンブリ法である。このような多層プリント配線板
の製造方法において後者の場合は各層単位(二孔明け、
スルーホールめっきを行なう為、その工数が多層化傾向
に伴って莫大となり、ま是積層時(:各層毎の孔位置を
精密に合わせる必要があるが、孔位置の加工精度のばら
つきや基材の伸縮、積層時のずれ等により孔のずれを/ 生ずるという欠点がある。このため現在はgtt者の製
造方法が主流を占めている0とζろがこの製造方法も近
年の半導体素子の高集積化によりプリント配線板での静
合e実装化は増々晶まっており。
七のスルーホールの形成方法鑞;関する〇多層プリント
配線板の製造方法を多層導−関のスルーホールの接続方
法C:よ゛・9て分類すれば今日では次の2方法が一般
的となって)る0その第1は111図に示す如く内層材
1にパターン2を作成し九のちi層材3.3′を積層し
1次いで所定の位置に孔明けした後、スルーホールめっ
きを行ないスルーホール4を形成するコンベンジ璽ナル
法であり、llI2は112図に示す如くスルーホール
めつきを各層5.6単位で行ない、それぞれスルーホー
ル7.8を作成し念のち、各鯛別層の孔位置を合わせな
がら積層を行ないインターコネクシッンを形成するサブ
アッセンブリ法である。このような多層プリント配線板
の製造方法において後者の場合は各層単位(二孔明け、
スルーホールめっきを行なう為、その工数が多層化傾向
に伴って莫大となり、ま是積層時(:各層毎の孔位置を
精密に合わせる必要があるが、孔位置の加工精度のばら
つきや基材の伸縮、積層時のずれ等により孔のずれを/ 生ずるという欠点がある。このため現在はgtt者の製
造方法が主流を占めている0とζろがこの製造方法も近
年の半導体素子の高集積化によりプリント配線板での静
合e実装化は増々晶まっており。
谷素子間の接続を行なうパターン収容数をできるだけ多
くすることが必要となっているなかで1−のスルーホー
ルの信号収容数は1信号のみであ゛り後者の持つ同一孔
明は位置;:て異種信号を扱うという利点がなく、パタ
ーン収容数の低下を招いている。本発明はこの欠点を解
消して1gsのスルーホールで2つの信号を扱えるよう
1ニした多層プリント板の製造方法を提供することを目
的とするものである0 このため本発明においては、予めノくターンを形成した
内層材及び外ノー材を積層して1体化し、その後スルー
ホールを形αする多層プリント配線板の製造方法C=お
いて、スルーホールの形成時(:は、同一座標位置での
孔明けを正規スルーホール形成用と、該孔明は直径より
小さい直径のスルーホール分岐用下孔(−分けて孔明け
し、次いで無を解めっきを行い4目電層を形成し、その
後前記スルーホール分岐用下孔を拡大して核部の導を鳩
を除去し絶縁基材を露出させ、次いでm解めっきを行な
い工程↓f)成ることを特徴とするものである。
くすることが必要となっているなかで1−のスルーホー
ルの信号収容数は1信号のみであ゛り後者の持つ同一孔
明は位置;:て異種信号を扱うという利点がなく、パタ
ーン収容数の低下を招いている。本発明はこの欠点を解
消して1gsのスルーホールで2つの信号を扱えるよう
1ニした多層プリント板の製造方法を提供することを目
的とするものである0 このため本発明においては、予めノくターンを形成した
内層材及び外ノー材を積層して1体化し、その後スルー
ホールを形αする多層プリント配線板の製造方法C=お
いて、スルーホールの形成時(:は、同一座標位置での
孔明けを正規スルーホール形成用と、該孔明は直径より
小さい直径のスルーホール分岐用下孔(−分けて孔明け
し、次いで無を解めっきを行い4目電層を形成し、その
後前記スルーホール分岐用下孔を拡大して核部の導を鳩
を除去し絶縁基材を露出させ、次いでm解めっきを行な
い工程↓f)成ることを特徴とするものである。
以下、添付図rJiJζ:基づいて本発明方法を詳細(
二説明する〇 第3図≦二各製造工程における断面図を示す0図(二よ
り本発明方法を説明すると、先ず(a)図の如く予めり
、〜L、のパターンを形成した外1m材9,10と内層
材11とをプリプレグ12を挾んで槓W L加圧加熱し
て一体化する。次に5)図の如く同一座標位置の表面及
び裏面より直径φAの正規スルーホールの下孔を内層材
11の基材が残留す+ように制御して穿孔し、その後内
層材11の基材C:前記φAより直径の小さい直径φB
の孔を穿孔する0このときLl−1,、の全層を接続す
るスルーホールを形成する場合はφ人にて全層の孔明け
を行なう。
二説明する〇 第3図≦二各製造工程における断面図を示す0図(二よ
り本発明方法を説明すると、先ず(a)図の如く予めり
、〜L、のパターンを形成した外1m材9,10と内層
材11とをプリプレグ12を挾んで槓W L加圧加熱し
て一体化する。次に5)図の如く同一座標位置の表面及
び裏面より直径φAの正規スルーホールの下孔を内層材
11の基材が残留す+ように制御して穿孔し、その後内
層材11の基材C:前記φAより直径の小さい直径φB
の孔を穿孔する0このときLl−1,、の全層を接続す
るスルーホールを形成する場合はφ人にて全層の孔明け
を行なう。
次<= (c)図の如く無電解銅めっき法1(二より全
1iiH→電層13を形成する。この導電層13は磁気
めつきを行なうときの通電の役割を果すものでありその
厚さは2〜゛5μ雪程屍で↓い0次シニ(d)図の如く
同層材11の孔を直径−〇(=琳大するように孔明けし
、この部分の導ntt−を除去し基材を産出せしめる。
1iiH→電層13を形成する。この導電層13は磁気
めつきを行なうときの通電の役割を果すものでありその
厚さは2〜゛5μ雪程屍で↓い0次シニ(d)図の如く
同層材11の孔を直径−〇(=琳大するように孔明けし
、この部分の導ntt−を除去し基材を産出せしめる。
次に(e)図の如く導電層13の上にi[M銅めっき1
4を施す0この場合内層材11の基材の孔内面C二はめ
っきは析出されない。従ってパターンL、〜ム1用のス
ルーホール15とり、 、 L−用のスルーホール16
(1り2個のスルーホールが同一座標位置に完rftさ
れる。この後の外層材9及びlOの外面のパターンの形
成は従来公知の方法であり、(f)図1′ の如く感光膜16を両面に塗布し、これにアートワーク
フィルムをムねて露光現像して鴫)図の如くパターンs
17以外の感光膜を除去する。次にrb)図の如、く工
ヴナングして感光膜のない部分を#!解私去し、次いで
+i)図の如く感光膜を除去してバター718の形成を
完了するのである。
4を施す0この場合内層材11の基材の孔内面C二はめ
っきは析出されない。従ってパターンL、〜ム1用のス
ルーホール15とり、 、 L−用のスルーホール16
(1り2個のスルーホールが同一座標位置に完rftさ
れる。この後の外層材9及びlOの外面のパターンの形
成は従来公知の方法であり、(f)図1′ の如く感光膜16を両面に塗布し、これにアートワーク
フィルムをムねて露光現像して鴫)図の如くパターンs
17以外の感光膜を除去する。次にrb)図の如、く工
ヴナングして感光膜のない部分を#!解私去し、次いで
+i)図の如く感光膜を除去してバター718の形成を
完了するのである。
本発明はこのよう(=シて1つの座標、装置に2@のス
ル、−ホールを形成することができるので従来(=比し
てパターンの収容数を増j口せしめることができるつ そ91例を′ig4図及び爾5図を用いて説明する・第
4図は1座像位nt(=11固のスルーホール19を形
成し念従来の多層プリント配線板の1例であり、(a)
図はLl、L、層のパターン(Ll層は実線、 L21
−は点線)を示し、(b)図はり、、L6層のバターy
(Lsmは賽線、L6層は点線)を示している0なお図
にないり、;L、層はそれぞれアース層、tt源層であ
って配線には使用できないものとする。このjIIJ会
、(31図のし1層のパターン■及ヒ(b)図のり6層
のパターン■、OμそれぞれスルーホールA、B、C(
s接続しようとしても、既にD−Hの各スルーホールが
他に使用されているためパイ了ネヴクとな9目「ソのス
A/−、ホールに接続することができない。
ル、−ホールを形成することができるので従来(=比し
てパターンの収容数を増j口せしめることができるつ そ91例を′ig4図及び爾5図を用いて説明する・第
4図は1座像位nt(=11固のスルーホール19を形
成し念従来の多層プリント配線板の1例であり、(a)
図はLl、L、層のパターン(Ll層は実線、 L21
−は点線)を示し、(b)図はり、、L6層のバターy
(Lsmは賽線、L6層は点線)を示している0なお図
にないり、;L、層はそれぞれアース層、tt源層であ
って配線には使用できないものとする。このjIIJ会
、(31図のし1層のパターン■及ヒ(b)図のり6層
のパターン■、OμそれぞれスルーホールA、B、C(
s接続しようとしても、既にD−Hの各スルーホールが
他に使用されているためパイ了ネヴクとな9目「ソのス
A/−、ホールに接続することができない。
仁れ≦一対しwE5図に示す本発明の製造方法による多
層プリント板はスルーホールE、F、Gをそれぞれ分割
しE’、F’、G’を形成することζ二より、(a)図
のパターン[株]はスルーホールE′を経由してスルー
ホーA/Aへ、(b)図のパターン■はスルーホールG
′ヲfi由してスルーホールBへ、パターンΩはスルー
ホールF’を経由してスルーホールCへソ扛ぞれ接続す
ることが可能となる。
層プリント板はスルーホールE、F、Gをそれぞれ分割
しE’、F’、G’を形成することζ二より、(a)図
のパターン[株]はスルーホールE′を経由してスルー
ホーA/Aへ、(b)図のパターン■はスルーホールG
′ヲfi由してスルーホールBへ、パターンΩはスルー
ホールF’を経由してスルーホールCへソ扛ぞれ接続す
ることが可能となる。
以上、説明した如く本発明の多層プリン1板の′製心方
法は同一・座標に2−のスルーホールを形成[り面々し
たものであってパターン収容数のj!a7JIIに多大
な効果を与えるものである。
法は同一・座標に2−のスルーホールを形成[り面々し
たものであってパターン収容数のj!a7JIIに多大
な効果を与えるものである。
粥1図及び第2図は従来の多層プリント配線板の製造方
法をω?明するための断面図、第3図は本発明にがかる
多1−プリント板の製造方法の工程を一乙例するための
4t1図、第4図は従来の製造方法(−よる多層〕“リ
ント板J〕配線方法を示した説明図。 粥5図は本発明の製造方法による多層プリント板の配線
方法4示した説明2図である。 L1〜L、・・・・・・辱座ノー、9,10・・・・・
・外N1拐。 11・・・・・・内rtii l、12・・・・・プリ
プレグ、13・・・・・・無電ルtめっき(二よる導′
砿l―、14・・・・・・電解銅めっき、1.5 、1
6・・・・・・スルーホー ル、18・・・・・・パタ
ーン。 □ 一第1図 第2図 第4図 (a) 第5図 (G) (b) (b)
法をω?明するための断面図、第3図は本発明にがかる
多1−プリント板の製造方法の工程を一乙例するための
4t1図、第4図は従来の製造方法(−よる多層〕“リ
ント板J〕配線方法を示した説明図。 粥5図は本発明の製造方法による多層プリント板の配線
方法4示した説明2図である。 L1〜L、・・・・・・辱座ノー、9,10・・・・・
・外N1拐。 11・・・・・・内rtii l、12・・・・・プリ
プレグ、13・・・・・・無電ルtめっき(二よる導′
砿l―、14・・・・・・電解銅めっき、1.5 、1
6・・・・・・スルーホー ル、18・・・・・・パタ
ーン。 □ 一第1図 第2図 第4図 (a) 第5図 (G) (b) (b)
Claims (1)
- 、1.予めパターン形成した内層材及び外層材を積層し
て1体化し、その後スルーホールを形成する多層プiン
ト配線板の製造方法において、スルーホールの形成時C
:は、/同一座標位置での孔明けを、正規スルーホール
形成用と、該孔明は直径より小さい直径のスルーホール
分岐用下孔C二分けて孔明けし、次いで無電解めっきを
行ない導体層を形成し、その後前記スルーホール分岐用
下孔を拡大して核部の4電層を除去し絶縁基材を露出さ
せ、次いで電解めっきを行ない同一座標位置に2−゛の
一−−ホー〜を形成する諸工橿より成る2とを特徴とす
る多層プリント配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16703281A JPS5868999A (ja) | 1981-10-21 | 1981-10-21 | 多層プリント配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16703281A JPS5868999A (ja) | 1981-10-21 | 1981-10-21 | 多層プリント配線板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5868999A true JPS5868999A (ja) | 1983-04-25 |
JPS6244880B2 JPS6244880B2 (ja) | 1987-09-22 |
Family
ID=15842120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16703281A Granted JPS5868999A (ja) | 1981-10-21 | 1981-10-21 | 多層プリント配線板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5868999A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62186594A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | 日本電気株式会社 | 多層印刷配線板の製造方法 |
JP2016528742A (ja) * | 2013-08-19 | 2016-09-15 | サンミナ コーポレーションSanmina Corporation | 2重直径のスルーホールエッジトリミングを使用する分割スルーホール形成の方法 |
US9781844B2 (en) | 2013-03-15 | 2017-10-03 | Sanmina Corporation | Simultaneous and selective wide gap partitioning of via structures using plating resist |
US10820427B2 (en) | 2013-03-15 | 2020-10-27 | Sanmina Corporation | Simultaneous and selective wide gap partitioning of via structures using plating resist |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01121065U (ja) * | 1988-02-09 | 1989-08-16 |
-
1981
- 1981-10-21 JP JP16703281A patent/JPS5868999A/ja active Granted
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62186594A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | 日本電気株式会社 | 多層印刷配線板の製造方法 |
JPH0542157B2 (ja) * | 1986-02-12 | 1993-06-25 | Nippon Electric Co | |
US9781844B2 (en) | 2013-03-15 | 2017-10-03 | Sanmina Corporation | Simultaneous and selective wide gap partitioning of via structures using plating resist |
US10820427B2 (en) | 2013-03-15 | 2020-10-27 | Sanmina Corporation | Simultaneous and selective wide gap partitioning of via structures using plating resist |
US11304311B2 (en) | 2013-03-15 | 2022-04-12 | Sanmina Corporation | Simultaneous and selective wide gap partitioning of via structures using plating resist |
JP2016528742A (ja) * | 2013-08-19 | 2016-09-15 | サンミナ コーポレーションSanmina Corporation | 2重直径のスルーホールエッジトリミングを使用する分割スルーホール形成の方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6244880B2 (ja) | 1987-09-22 |
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