JPS5865704A - 光重合性歯科用材料 - Google Patents
光重合性歯科用材料Info
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- JPS5865704A JPS5865704A JP57159026A JP15902682A JPS5865704A JP S5865704 A JPS5865704 A JP S5865704A JP 57159026 A JP57159026 A JP 57159026A JP 15902682 A JP15902682 A JP 15902682A JP S5865704 A JPS5865704 A JP S5865704A
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 26
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 11
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002362 bornane-2,3-dione group Chemical group 0.000 claims description 2
- -1 vinyl compound Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 abstract description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000005548 dental material Substances 0.000 abstract 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 abstract 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 abstract 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 abstract 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920004943 Delrin® Polymers 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- MKVYSRNJLWTVIK-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCOC(N)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O MKVYSRNJLWTVIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNAWDMGRAHXCKX-UHFFFAOYSA-N N-(dimethylaminooxy)-N-methylmethanamine 2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound C(C(=C)C)(=O)O.CN(C)ON(C)C ZNAWDMGRAHXCKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 210000000936 intestine Anatomy 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
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- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/884—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising natural or synthetic resins
- A61K6/887—Compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔式中、X ハ00,0(R’XR”)1 タハ0(R
”)(OR’)f、ここにR’、R”、R″及びR4は
11または炭化水素残基を意味し、nは0tたはI、ム
は必要に応じ置換された、炭化水素残基で、ム同志互番
こ結合していてもよ(、rs=/、X=−0(R’)(
R″)の場合及びn = 0の場合にはムは芳香族基で
ある〕 で表わされる少くともlsの光増感剤と、―) 少くと
も還元剤とからなる光開始剤の存在1ζおいてビニル化
合物の光重合方法δζ関する〇光重合は多方面の用途、
工業上の用途、例えばラッカー及び被覆塗装用樹脂硬化
製造、印刷原版の製造及び書類印刷への使用など多方面
の用途がある。
”)(OR’)f、ここにR’、R”、R″及びR4は
11または炭化水素残基を意味し、nは0tたはI、ム
は必要に応じ置換された、炭化水素残基で、ム同志互番
こ結合していてもよ(、rs=/、X=−0(R’)(
R″)の場合及びn = 0の場合にはムは芳香族基で
ある〕 で表わされる少くともlsの光増感剤と、―) 少くと
も還元剤とからなる光開始剤の存在1ζおいてビニル化
合物の光重合方法δζ関する〇光重合は多方面の用途、
工業上の用途、例えばラッカー及び被覆塗装用樹脂硬化
製造、印刷原版の製造及び書類印刷への使用など多方面
の用途がある。
歯科領域においても光重合は使用される。光重合性物質
は歯牙充填材及び歯牙封止材の製造、歯冠部及び架工義
歯の製造、及び義歯の製造(例えに英国特許第!1a9
9クダ及びドイツ特許公開公報或はドイツ特許会報第2
J/!&uZ号、第JJj?JJ参号、第1デ100ク
ク号及び第Jviazsり号参照)に使用される。
は歯牙充填材及び歯牙封止材の製造、歯冠部及び架工義
歯の製造、及び義歯の製造(例えに英国特許第!1a9
9クダ及びドイツ特許公開公報或はドイツ特許会報第2
J/!&uZ号、第JJj?JJ参号、第1デ100ク
ク号及び第Jviazsり号参照)に使用される。
英国特許第14401241号明細書には光開始剤とし
て(SL)一般式 %式%) (式中、IはCo、O(R’)(R″)tたはOCR”
XOR’)?、ここに11. R2R1及びR4はit
sたは炭化水素残基を意味し、nはOlたはlで、ムは
必畳化応じ置換されていてもよい、炭化水素残基で、ム
同志互に結合していてもよ<sa”tで!==O(R’
)(R”)の場合、及びn = 00場合にはムは芳香
族基である)で表わされる少くとも/@(Q光増感剤と
、一般式 (式中、輩は周期律表VB族の元素で、場合により1個
の基Rと共に一つの環を形成していてもよい)で表わさ
れる少くとも/@(D還元剤とを含み、可視光または紫
外線の照射によ〉硬化できる光重合性材料が記載されて
廖る。
て(SL)一般式 %式%) (式中、IはCo、O(R’)(R″)tたはOCR”
XOR’)?、ここに11. R2R1及びR4はit
sたは炭化水素残基を意味し、nはOlたはlで、ムは
必畳化応じ置換されていてもよい、炭化水素残基で、ム
同志互に結合していてもよ<sa”tで!==O(R’
)(R”)の場合、及びn = 00場合にはムは芳香
族基である)で表わされる少くとも/@(Q光増感剤と
、一般式 (式中、輩は周期律表VB族の元素で、場合により1個
の基Rと共に一つの環を形成していてもよい)で表わさ
れる少くとも/@(D還元剤とを含み、可視光または紫
外線の照射によ〉硬化できる光重合性材料が記載されて
廖る。
光増感剤の例として特にビアセチル、ベンジル、p−P
・−ジアルコキシベンジル、ベンゾイン及び樟脳中ノン
(カンフアキノン)が記載され、還元剤としてプμビル
アミン、ジメチルアミノエチルメタクリレ−)、N、M
l−ジメチルアニリン及びピペリジンが挙げられる。
・−ジアルコキシベンジル、ベンゾイン及び樟脳中ノン
(カンフアキノン)が記載され、還元剤としてプμビル
アミン、ジメチルアミノエチルメタクリレ−)、N、M
l−ジメチルアニリン及びピペリジンが挙げられる。
これらの光重合性材料は暗所では貯蔵安定性があ)、先
番こ照射されると迅速に硬化する。
番こ照射されると迅速に硬化する。
英国特許第4#411t7号iこよシ光重合性歯牙材料
は既知であ〉、この光重合性歯牙材料では光開始剤はt
a)一般式 %式% で表わされる少くとも1種の光増感剤、例えばベンジル
または樟脳キノンと、(b)少くとも1種の還元剤、例
えばジメチルアミノエテルメタクリレートとを含む。
は既知であ〉、この光重合性歯牙材料では光開始剤はt
a)一般式 %式% で表わされる少くとも1種の光増感剤、例えばベンジル
または樟脳キノンと、(b)少くとも1種の還元剤、例
えばジメチルアミノエテルメタクリレートとを含む。
Cの発明の課題は、迅速に硬化し、且つ良好な着色安定
性を与える、ビニル化合物の光重合に対する(IL)少
くとも1種の光増感剤と(b)少くともlsの還元剤と
からなる光開始剤を見出す番こある。
性を与える、ビニル化合物の光重合に対する(IL)少
くとも1種の光増感剤と(b)少くともlsの還元剤と
からなる光開始剤を見出す番こある。
ζO@題はこの発明−こよル還元剤として一般得られた
重谷一体付形物め層厚を調定し、光開始剤ora性の評
価または比1f!に使用した。
重谷一体付形物め層厚を調定し、光開始剤ora性の評
価または比1f!に使用した。
例1〜J
ビス−()Mム フタトリエ
チレングリコールジメタクリレート Jf光開始
剤 第1@−ζ記載の化合物及び量からな
る混合物をガラス管(内径4■、高さJ Ow )中に
入れ、このガラス管を横から光がさし込まないよう憂こ
アル1=ウムはくで覆った。
チレングリコールジメタクリレート Jf光開始
剤 第1@−ζ記載の化合物及び量からな
る混合物をガラス管(内径4■、高さJ Ow )中に
入れ、このガラス管を横から光がさし込まないよう憂こ
アル1=ウムはくで覆った。
この混合物にフィリップス社Oタングステン灯(Jjo
ワット/J−ボルト)を/1all離して配置して1分
間照射した。
ワット/J−ボルト)を/1all離して配置して1分
間照射した。
混合物の未重合部分を除き、得られた重合成形体の層厚
を橢定した。
を橢定した。
第1表番こ光開始剤の種類及び量、及び前述の厚さを掲
げる。
げる。
一−−−−−−−−−−
第 I 表
例1に相蟲する混合物を、光を照射しても混合物に照射
された放射線は光重合には作用しないように完全にアル
ミニウムはくで覆ったガラス管(内径6■、高さJ O
W )に入れ、次いで前記ガラス管をtttsの距離に
配置されたタングステン灯(agoワット/コダボルト
)(フィリップス社製)で1分間照射した。重合は起ら
なかった。
された放射線は光重合には作用しないように完全にアル
ミニウムはくで覆ったガラス管(内径6■、高さJ O
W )に入れ、次いで前記ガラス管をtttsの距離に
配置されたタングステン灯(agoワット/コダボルト
)(フィリップス社製)で1分間照射した。重合は起ら
なかった。
龍lコ」Juil
例1に相轟する混合物をガラス管(内径6腫、高さJ1
7sm)$ζ入れ、j分間ンコO℃に加熱した〇重合は
起らなかった0 例6〜/1− ビス−GMA 9−
3fトリエチレングリコールジメタクリレート
?、f )ウレタンジメタクリレート*1)
4.デを微粉状二酸化ケイ素12ゝ
J J、/ f微粉状酸化アルミニウム
2.4を破砕重合体$8)
z 6.3 f光開始剤
第11N記載の貴*1)・・トリメチルへキ
サメチレンジイソシアネート1モルとコーにドロキシエ
チルメタクリレ−トコモルとの反応によって得たO 本!)・・火焔加水分解することによって得たもの*S
)・・火焔加水分解によシ製造した二酸化ケイ素の微粉
とトリエチレングリコールジメタクリレートとの混合物
を重合することによって得たもの との混合物を、横から光がさし込まないよう1こアルミ
ニウムはくで覆ったガラス管(内径轟■、腸におかれた
フィリップ社製タングステン灯(Jjoワツ) / J
41ボルト)で−分間照射した。
7sm)$ζ入れ、j分間ンコO℃に加熱した〇重合は
起らなかった0 例6〜/1− ビス−GMA 9−
3fトリエチレングリコールジメタクリレート
?、f )ウレタンジメタクリレート*1)
4.デを微粉状二酸化ケイ素12ゝ
J J、/ f微粉状酸化アルミニウム
2.4を破砕重合体$8)
z 6.3 f光開始剤
第11N記載の貴*1)・・トリメチルへキ
サメチレンジイソシアネート1モルとコーにドロキシエ
チルメタクリレ−トコモルとの反応によって得たO 本!)・・火焔加水分解することによって得たもの*S
)・・火焔加水分解によシ製造した二酸化ケイ素の微粉
とトリエチレングリコールジメタクリレートとの混合物
を重合することによって得たもの との混合物を、横から光がさし込まないよう1こアルミ
ニウムはくで覆ったガラス管(内径轟■、腸におかれた
フィリップ社製タングステン灯(Jjoワツ) / J
41ボルト)で−分間照射した。
混合物の未重合部分を除き、得られた重合体成形体の層
厚を測定した。
厚を測定した。
第Jl!に光開始剤の種類と量及び層厚を掲げるO
第 J 派
カンフアキノン 0.A &、ふり(
比較例) 十 ビスーGMム !、
3tトリエチレングリコールジメタクリレート
り、tPウレタンジメタクリレートIt)
b、q発微粉状二酸化ケイ素*″)J s
、t f微粉状酸化アルミニウム J
、A fP破砕重合物*l) !
0.JF光重合開始剤 第JIIK記載
O量〔*1)・拳トリメチルへキサメチレンジイソシア
ネート1モルとコーヒドqキシエチル メタクリレート2モルとの反応によ〉 得た *2)・・火焔加水分解により得た *s)・・火焔加水分解によ)製造した微粉状二酸化ケ
イ素とトリエチレングリコール ジメタクリレートとの混合物を重合さ せることによって得た〕 からなる混合物をボリア(タール合成樹脂であるデルリ
ン[株](Delrin、登録商標)から造った管(内
t 41Els高さ30 wx ) Iこ入れ、クルツ
アー社のタングステン−ハロゲン発光装置でJθ秒間照
射した。混合物の未重合部分を除き、得られた重合体成
形体の層厚を測定した0 光開始剤の種類と量及び前述の層厚を第3表に掲げる。
比較例) 十 ビスーGMム !、
3tトリエチレングリコールジメタクリレート
り、tPウレタンジメタクリレートIt)
b、q発微粉状二酸化ケイ素*″)J s
、t f微粉状酸化アルミニウム J
、A fP破砕重合物*l) !
0.JF光重合開始剤 第JIIK記載
O量〔*1)・拳トリメチルへキサメチレンジイソシア
ネート1モルとコーヒドqキシエチル メタクリレート2モルとの反応によ〉 得た *2)・・火焔加水分解により得た *s)・・火焔加水分解によ)製造した微粉状二酸化ケ
イ素とトリエチレングリコール ジメタクリレートとの混合物を重合さ せることによって得た〕 からなる混合物をボリア(タール合成樹脂であるデルリ
ン[株](Delrin、登録商標)から造った管(内
t 41Els高さ30 wx ) Iこ入れ、クルツ
アー社のタングステン−ハロゲン発光装置でJθ秒間照
射した。混合物の未重合部分を除き、得られた重合体成
形体の層厚を測定した0 光開始剤の種類と量及び前述の層厚を第3表に掲げる。
第 、71I!
上述の例に記載のこの発明番こよる光重合性組酸物から
造った直径IO譚、厚さ1■の供試サンプルを歯牙充填
材用規格工80参0#9により色彩安定性について試験
したO光照射月番こ4d W、O,ヘレウス拳ゲゼルシ
ャフト・ミット−ペシエレンクテル・ハフラングの発光
(sunteat)装置を使用した。
造った直径IO譚、厚さ1■の供試サンプルを歯牙充填
材用規格工80参0#9により色彩安定性について試験
したO光照射月番こ4d W、O,ヘレウス拳ゲゼルシ
ャフト・ミット−ペシエレンクテル・ハフラングの発光
(sunteat)装置を使用した。
規定1ζよる照射時間後に供試サンプル番ま諺めうる着
色を示さなかったO 還元剤としてアミンを使用して造った供試サンプルは同
じ条件下で着色が確■された。
色を示さなかったO 還元剤としてアミンを使用して造った供試サンプルは同
じ条件下で着色が確■された。
昭和57年10月14 日
特許庁長官殿
1、事件の表示
昭和st年特許願第119024 号
2、 発明の名称
光重合性組成物
3、 補正をする者
事件との関係 特許出願人
5、補正の対象
ム補正の内容
O)特許請求の範囲の記載を別紙通す補正する。
(2) 明細書第7頁7行「アラルキル基」を「アリ
ール基」と補正する。
ール基」と補正する。
別紙
特許請求の範囲
1 (&’) 一般式
%式%)
(式中、Iは00,0 (R’) (♂>1*は0(的
(OR4)で、ことVtR”、R”、R”及び♂はHl
たは炭化水素基を意味し、nは0または!。
(OR4)で、ことVtR”、R”、R”及び♂はHl
たは炭化水素基を意味し、nは0または!。
ムは必要に応じ置換された、炭化水素基で、ム同志互に
結合していてもよく、ム= /、 X : O(R’)
(R”) f)場合及びn = 0の場合にはムは芳
香族基である) で表わされる少くとも1種の光増感剤と、(1))
少くとも1種の還元剤 とからなる光開始剤と、少なくとも1種のビニル化合物
とからなる光重合性組成物において、 (式中Iは0.8またはMR”で、R1はHまたはアル
キル基であり、”tjコ〜J個の炭素原子のアルキレン
基で、その1位のO原子は異種元素0及び80/種によ
)置換されていてもよく、或はコ位00原子は異種原子
0.8及び/iたはMKより置換されていてもよ<、”
はアルキル基ま九はアリール基で、これらは必要に応じ
置換されていて4よい) で表わされる化合物を使用することを特徴とする光重合
性組成物0 1 還元剤が!−アルキルーま九はよ一7リールーパル
ビツル酸である特許請求の範囲第1項記載の光重合性組
成物。
結合していてもよく、ム= /、 X : O(R’)
(R”) f)場合及びn = 0の場合にはムは芳
香族基である) で表わされる少くとも1種の光増感剤と、(1))
少くとも1種の還元剤 とからなる光開始剤と、少なくとも1種のビニル化合物
とからなる光重合性組成物において、 (式中Iは0.8またはMR”で、R1はHまたはアル
キル基であり、”tjコ〜J個の炭素原子のアルキレン
基で、その1位のO原子は異種元素0及び80/種によ
)置換されていてもよく、或はコ位00原子は異種原子
0.8及び/iたはMKより置換されていてもよ<、”
はアルキル基ま九はアリール基で、これらは必要に応じ
置換されていて4よい) で表わされる化合物を使用することを特徴とする光重合
性組成物0 1 還元剤が!−アルキルーま九はよ一7リールーパル
ビツル酸である特許請求の範囲第1項記載の光重合性組
成物。
ユ 光増感剤として一般式
(式中ムは互に結合していてもよい、必要に応じ置換さ
れ喪、炭化水素′残基である)で表わされる化合物であ
る特許請求の範囲第7項1+は第1項記載の光重合性組
成物。
れ喪、炭化水素′残基である)で表わされる化合物であ
る特許請求の範囲第7項1+は第1項記載の光重合性組
成物。
礪 光増感剤がカン7アーキノンである特許請求の範囲
第1項ないし第3項のいずれかに記載の光重合性組成物
。
第1項ないし第3項のいずれかに記載の光重合性組成物
。
よ 光開始剤がカンファーキノンと!−アルキルパルビ
y、xmtたはカンファーキノンとよ一アリールパルビ
2!酸とからなる特許請求の範囲第1項記載の光重合性
組成物・
y、xmtたはカンファーキノンとよ一アリールパルビ
2!酸とからなる特許請求の範囲第1項記載の光重合性
組成物・
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a) 一般式 %式%) (式中、Xはco、o(R’)(n*)fiたはO(R
’)(OR’)で、ここにR1,Hl 、 RB及びR
4はHlたは炭化水素基を意味し、nはotたは11ム
は必!!−と応じ置換された、炭化水素基で、ム同志互
に結合していてもよ<%””/%X = O(R’)(
It”) C)場合及びn=Oの場合与こはムは芳香族
基である) で表わされる少くとも/@0光増感剤と、(′b)少く
とも7種の還元剤 とからなる光開始剤と、少なくとも1種のビニル化合物
とからなる光重合性組成物ζζおいて、 還元剤として一般式 (式中Yは0,8またはMR’でH+はalたはアルキ
ル基であシ、zは2〜3個の炭素原子のアルキレン基で
、その1位のC原子は異種元素0及びSの1種によ多置
換されていてもよく、或はコ位の0原子は異種原子0゜
8及び/lたはNにより置換されていてもよ<s”はア
ルキル基またはアラルキル基で、これらは必要に応じ置
換されていてもよい) で表わされる化合物を使用することを特徴とする光重合
性組成物3 1 還元剤が!−アルキルーまたは!−アリールーバル
ビチェル酸である特許請求の範囲第1項記載の光重合性
組成物。 1 光増感剤として一般式 (式中ムは互に結合していてもよい、必要に応じ置換さ
れた、炭化水素残基である)で表わされる化合物である
特許請求の範囲第1項または第2項記載の光重食性組成
物O倶光増感剤がカンファーキノンである特許請求の範
囲第1項ないし第3項のいずれか憂こ記載の光重合性組
成物0 よ 光開始剤がカンファーキノンと!−アルキルバルビ
ッール酸またはカンファーキノンとS−アリールバルビ
チェール酸とからなる特許請求の範囲第事項記載の光重
合性組成物O
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE31364845 | 1981-09-15 | ||
DE19813136484 DE3136484A1 (de) | 1981-09-15 | 1981-09-15 | "verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindu ngen und photopolymerisierbares material" |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5865704A true JPS5865704A (ja) | 1983-04-19 |
JPS5928569B2 JPS5928569B2 (ja) | 1984-07-13 |
Family
ID=6141656
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57159026A Expired JPS5928569B2 (ja) | 1981-09-15 | 1982-09-14 | 光重合性歯科用材料 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4534839A (ja) |
EP (1) | EP0074475B1 (ja) |
JP (1) | JPS5928569B2 (ja) |
AT (1) | ATE11293T1 (ja) |
AU (1) | AU551834B2 (ja) |
DE (2) | DE3136484A1 (ja) |
Cited By (3)
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DE3414163A1 (de) * | 1984-04-14 | 1985-10-17 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Photopolymerisierbarer phosphathaltiger dentaler haftvermittler-lack |
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US7025954B2 (en) * | 2002-05-20 | 2006-04-11 | Esstech, Inc. | Materials for reshaping of essentially rigid keratinaceous surfaces |
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DE3001616A1 (de) * | 1980-01-17 | 1981-07-23 | ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld | Verfahren zur herstellung von zahnersatzteilen durch photopolymerisieren einer verformbaren masse |
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1981
- 1981-09-15 DE DE19813136484 patent/DE3136484A1/de not_active Withdrawn
-
1982
- 1982-07-08 EP EP82106103A patent/EP0074475B1/de not_active Expired
- 1982-07-08 AT AT82106103T patent/ATE11293T1/de active
- 1982-07-08 DE DE8282106103T patent/DE3261948D1/de not_active Expired
- 1982-08-24 AU AU87548/82A patent/AU551834B2/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-09-01 US US06/413,804 patent/US4534839A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-09-14 JP JP57159026A patent/JPS5928569B2/ja not_active Expired
-
1984
- 1984-03-07 US US06/587,176 patent/US4576976A/en not_active Expired - Fee Related
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AU551834B2 (en) | 1986-05-15 |
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EP0074475A1 (de) | 1983-03-23 |
ATE11293T1 (de) | 1985-02-15 |
JPS5928569B2 (ja) | 1984-07-13 |
AU8754882A (en) | 1983-03-24 |
US4576976A (en) | 1986-03-18 |
DE3261948D1 (en) | 1985-02-28 |
EP0074475B1 (de) | 1985-01-16 |
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