JPH0521121B2 - - Google Patents

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JPH0521121B2
JPH0521121B2 JP60223324A JP22332485A JPH0521121B2 JP H0521121 B2 JPH0521121 B2 JP H0521121B2 JP 60223324 A JP60223324 A JP 60223324A JP 22332485 A JP22332485 A JP 22332485A JP H0521121 B2 JPH0521121 B2 JP H0521121B2
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

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  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規な光重合性組成物に関する。よ
り詳しくは貯蔵安定性にすぐれ、かつ着色が少な
く高い機械的性質を有する硬化物を得ることので
きる光重合性組成物に関する。 光重合は、印刷版材、複写用感光剤、プリント
配線、IC、シヤドーマスクなどの精密加工用の
画像形成、さらに塗料、印刷インキ、接着剤など
多方面で利用されている。 光重合は歯科領域においても利用され、例え
ば、光重合性物質は歯牙充填材(コンポジツトレ
ジン等)、歯牙封止材および歯科用接着剤の製造、
う蝕予防填塞材、歯冠部および義歯の製造等に供
されている。 〔従来の技術〕 従来、上述のように利用される光重合性組成物
としては、例えば、特公昭54−10986号には、次
のような組成を有する、可視光または紫外線の照
射により硬化し得る光重合性組成物が記載されて
いる。すなわち、この光重合性組成物は感光剤/
還元剤を光開始剤として、(a)下記一般式 (式中、Xは>C=0、>CR1R2または>
CR3OR4であり、R1〜R4は同一であるかまたは相
異してよく、水素または炭化水素基であり、nは
ゼロまたは1であり、基Aは同一であるかまたは
相異してよく炭化水素基または置換炭化水素基で
あり、そして両方の基Aが直接接合もしくは二価
の炭化水素基を介して一緒に結合していても、あ
るいは両方の基Aが一緒になつて縮合芳香族環系
を形成してもよく、nが1かつXが>CR1R2であ
るときおよびnがゼロであるときに基Aは芳香族
基または置換芳香族基である。)で表わされる少
なくとも1種の感光剤と(b)下記一般式 (式中、単位Rは同一であるか、または相異し
てよく、水素、炭化水素基、置換炭化水素基、ま
たは2個の単位RがNと共に環系を形成している
基であり、3個の単位Rが同時に置換炭化水素基
でなく、そしてNは芳香族基に対して直接に結合
していない)で表わされる少なくとも1種の還元
剤とを含む感光性触媒と重合性エチレン系不飽和
物質とからなる。上記の中で特に好ましい感光剤
の具体例としては、ビアセチル、ベンジル、ベン
ゾフエノンおよびカンフオルキノン(樟脳キノ
ン)等が挙げられており、還元剤としてはトリメ
チルアミン、トリプロピルアミン、ジメチルアミ
ン、プロピルアミン、N,N′−ジメチルアニリ
ン、N−メチルジフエニルアミン、エチレンジア
ミン、ヘキサメチレンジアミン、ジメチルアミノ
エチルメタクレートおよびピペリジン等が記載さ
れている。これらの光開始剤を使用した材料は光
照射によつて迅速に硬化するものの、硬化物は著
しく着色(多くは黄色)しかつ太陽光および水中
での色調経時変化が大きく、強度物性も低い水準
のものしか得られず、さらに熱、環境光(自然
光)下における貯蔵安定性が著しく低く、自然に
硬化するという実用上極めて重要な問題点を有し
ていた。 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明の目的は、上記の従来技術の問題点を解
決し、熱、環境光下での貯蔵安定性にすぐれ、着
色および色調の経時変化がなく、かつ機械的特性
にすぐれた製品を与える光重合性組成物を提供す
ることにある。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明の光重合性組成物は、 (1) ビニル系モノマー (2) メルカプトカルボン酸とα−ジケトンとの組
合せからなる光重合開始剤および (3) 貯蔵安定剤 からなることを特徴とする。 本発明の組成物を形成するビニル系モノマー
は、単官能性のビニル化合物であつてもよく、ま
た多官能性のビニル化合物であつてもよい。単官
能性のビニル化合物の例としては、スチレン、ア
クリロニトリル、酢酸ビニル、メチルアクリレー
トおよびメタクリレート、エチルアクリレートお
よびメタクリレート、ブチルアクリレートおよび
メタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート
およびメタクリレート、メトキシエチルアクリレ
ートおよびメタクリレート、グリシジルアクリレ
ートおよびメタクリレート、メタクリロキシエチ
ルトリメリツト酸およびその酸無水物等が挙げら
れる。また、多官能性のビニル化合物の例として
は、下記一般式 (式中、R1は水素原子またはメチル基、pは
1〜20の整数である。)で示されれるエチレング
リコールジアクリレートおよびメタクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレートおよびメタ
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ートおよびメタクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレートおよびメタクリレート類、
1,4−ブタンジオールジアクリレートおよびメ
タクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリ
レートおよびメタクリレート、1,6−ヘキサン
ジオールジアクリレートおよびメタクリレート、
グリセリンジアクリレートおよびメタクリレー
ト、ならびに下記一般式 (式中、R1は水素原子またはメチル基、pは
1〜20の整数である。)で示されるビスフエノー
ルAジグリシジルアクリレートおよびメタクリレ
ート類、ウレタンジアクリレートおよびメタクリ
レート類、トリメチロールプロパントリアクリレ
ートおよびメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレートおよびメタクリレート、ビ
スフエノールAジアクリレートおよびメタクリレ
ート等が挙げられる。これらのアクリレートおよ
びメタクリレート類は、その1種を使用しても、
2種以上を組合せて用いてもよい。 本発明の光重合開始剤として使用されるメルカ
プトカルボン酸は好ましくは、下記の一般式
〔実施例〕
次に、実施例により、本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はかかる実施例に限定されるも
のではない。 実施例1〜3、比較例1
【表】 からなるモノマー混合物を、下面がシールされた
テフロン筒(内径4mm、高さ20mm)に上液面がテ
フロン筒上面と一致するまで注ぎ入れた。次に、
3M社の可視光照射器(商品名:OPTILUX)の
光線照射面と上記液面との距離が1mmになるよう
に配置して30秒間可視光線を照射した。その後、
注入モノマー混合物をテフロン筒からはずし、未
重合部分を除いて、得られた重合硬化物の“厚
み”を測定した。 また上記組成と同じモノマー混合物を別途調製
して、2個のポリプロピレン製の容器(容量30
c.c.)に5gずつ入れ、一方は蓋で密閉した後60℃
の暗室中に置き、他方は蓋をしないで常温の環境
光下に置いて自然硬化するまでの貯蔵安定性を測
定した。 第1表に貯蔵安定剤の種類、量、前述の“厚
み”および貯蔵安定性の測定結果を示す。
【表】 第1表から明らかなように、本発明による組成
物は貯蔵安定剤を添加しても光硬化性能に何ら影
響を与えず、貯蔵安定性にすぐれていることが判
る。また本発明による光硬化重合体の外観は、着
色がほとんどなく、著しくきれいであつた。 実施例4〜6、比較例2 Bis−GMA …0.8g 3G …1.2g シラン化石英粉 8g 光重合開始剤 (チオサルチル酸…3.0重量% カンフアーキノン…0.05重量% いずれも対モノマー) 貯蔵安定剤(第2表記載の化合物および添加量)
の組成からなるモノマー・フイラー混合物(ペー
スト)を調製し、実施例1で行なつた同じ測定法
を用いて重合硬化物の“厚み”および貯蔵安定性
を測定した。 第2表に貯蔵安定性の種類、量、“厚み”およ
び貯蔵安定性の測定結果を示す。
【表】 第2表から明らかなように、フイラーが追加さ
れた場合においても、本発明に組成物は、すぐれ
た光硬化性能に何ら影響を与えず、貯蔵安定性に
すぐれていることが判る。また本発明による光硬
化重合体の外観は、着色がほとんどなく、著しく
きれいであつた。 実施例7〜15、比較例3〜4 Bis−GMA …0.8g 3G …1.2g シラン化石英粉 …7.4g 二酸化ケイ素微粉 …0.6g 光重合開始剤 からなるモノマー・フイラー混合物(ペースト)
を実施例4と同様に操作して60秒間可視光線を照
射した後、得られた光重合硬化物を切断して4×
6mmの円筒状試片を作製し、その圧縮強度、太陽
光による1週間曝露試験後の色調変化及び60℃水
中での1週間浸漬試験後の色調変化を測定した。 第3表に貯蔵安定剤の種類、量および前述の測
定結果を示す。
【表】
〔発明の効果〕
本発明に係る光重合性組成物においては、可視
光線領域で硬化し得る光重合開始剤を使用してい
るため、従来の紫外線による光重合の欠点である
人体に対する有害性、硬化性能(深度)が劣るお
よび設備投資が高価である等の問題点をすべて解
決したものであり、また、光硬化して得られる硬
化物は、従来方法では得られなかつた優れた色調
安定性および外観性能と高い機械的性質を有し、
さらに本発明の組成物は著しく高い貯蔵安定性を
示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (1) ビニル系モノマー (2) メルカプトカルボン酸とα−ジケトンとの組
    合せからなる光重合開始剤および (3) 貯蔵安定剤 からなる光重合性組成物。 2 ビニル系モノマー、光重合開始剤および貯蔵
    安定剤の他に、さらにフイラーを含んでなる特許
    請求の範囲第1項記載の光重合性組成物。 3 貯蔵安定剤がトリアジン系化合物、ベンゾト
    リアゾール系化合物、オキザリツクアシツドアニ
    リド系化合物、ヒンダードアミン系化合物または
    チウラムスルフイド系化合物である特許請求の範
    囲第1項または第2項記載の光重合性組成物。 4 メルカプトカルボン酸が、一般式
    【式】または (式中、R1およびR2は、炭素数1〜5のアル
    キレン基またはフエニレン基を示し、R3はニト
    ロ基、水酸基、アミノ基またはハロゲン原子を示
    す。)で表わされる化合物である特許請求の範囲
    第1項または第2項記載の光重合性組成物。 5 α−ジケトンがカンフアーキノンである特許
    請求の範囲第1項または第2項記載の光重合性組
    成物。 6 メルカプトカルボン酸がオルソーメルカプト
    安息香酸(チオサリチル酸)、メタ−メルカプト
    安息香酸またはパラーメルカプト安息香酸である
    特許請求の範囲第1項または第2項記載の光重合
    性組成物。 7 トリアジン系化合物が、一般式 〔式中、R1、R2およびR3は、水素原子、ハロ
    ゲン原子、アルキル基、水酸基、アルコキシ基、
    フエノキシ基、アルキルペルオキシ基、NR4R5
    (式中、R4およびR5は水素原子、アルキル基また
    は芳香族基およびそれらの誘導体を示す。)で表
    わされるアミノ基、またはSR6(式中、R6は水素
    原子またはアルキル基を示す)で表わされるチオ
    基を示す。〕で表わされる化合物であることを特
    徴とする特許請求の範囲第3項記載の光重合性組
    成物。 8 トリアジン系化合物が2,4−ビス−(n−
    オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−
    ジ−tert.−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリ
    アジン、2−(N,N−ジブチルアミノ)−4,6
    −ジメルカプト−1,3,5−トリアジンまたは
    2−アニリノ−4,6−ジメルカプト−1,3,
    5−トリアジンである特許請求の範囲第3項また
    は第7項記載の光重合性組成物。 9 ベンゾトリアゾール系化合物が、一般式 (式中、R1は水素原子またはハロゲン原子を
    示し、R2,R3,R4,R5およびR6は水素原子、水
    酸基、炭素数1〜10のアルキル基またはベンジル
    基およびその誘導体を示す)で表わされる化合物
    である特許請求の範囲第3項記載の光重合性組成
    物。 10 ベンゾトリアゾール系化合物が2−(5−
    メチル−2−ヒドロキシフエニル)ベンドトリア
    ゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ビス
    (α,α−ジメチルベンジル)フエニル〕ベンゾ
    トリアゾール、2−(3,5−ジ−tert.−ブチル
    −2−ヒドロキシフエニル)ベンゾトリアゾー
    ル、2−(3−tert.−ブチル−5−メチル−2−
    ヒドロキシフエニル)−5−クロロベンゾトリア
    ゾール、2−(3,5−ジ−tert.−ブチル−2−
    ヒドロキシフエニル)−5−クロロベンゾトリア
    ゾールまたは2−(3,5−ジ−tert.−アミル−
    2−ヒドロキシフエニル)ベンゾトリアゾールで
    ある特許請求の範囲第3項または第9項記載の光
    重合性組成物。 11 オキザリツクアシツドアニリド系化合物が
    2−エトキシ−2′−エチルオキザリツクアシツド
    アニリドまたは2−エトキシ−5−tert.−ブチル
    −2′−エチルオキザリツクアシツドビスアニリド
    である特許請求の範囲第3項記載の光重合性組成
    物。 12 ヒンダードアミン系化合物がコハク酸ジメ
    チル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロ
    キシ−2,6,6,6−テトラメチルピペリジン
    重縮合物、ポリ〔〔6−(1,1,3,3−テトラ
    メチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン
    −2,4−ジイル〕〔(2,2,6,6−テトラメ
    チル−4−ピペリジル)イミノ〕ヘキサメチレン
    〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
    ル)イミノ〕〕または2−(3,5−ジ−tert.−ブ
    チル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチ
    ルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
    チル−4−ピペリジル)である特許請求の範囲第
    3項記載の光重合性組成物。 13 チウラムスルフイド系化合物が、一般式 (式中、R1,R2,R3およびR4は水素原子また
    は炭素数1〜10のアルキル基を示し、nは1〜4
    の整数である)で表わされる化合物である特許請
    求の範囲第3項記載の光重合性組成物。 14 チウラムスルフイド系化合物がテトラエチ
    ルチウラムジスルフイド、テトラメチルチウラム
    ジスルフイドまたはテトラキス(2−エチルヘキ
    シル)チウラムジスルフイドである特許請求の範
    囲第3項または第13項記載の光重合性組成物。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2653458B2 (ja) * 1988-03-26 1997-09-17 旭化成工業株式会社 凸版印刷版用感光性樹脂組成物
US5217760A (en) * 1990-07-20 1993-06-08 Loctite Corporation Free radically curable formulations employing dithiolate catalysts
JP3859182B2 (ja) * 1997-03-27 2006-12-20 東京応化工業株式会社 ネガ型ホトレジスト組成物
MY120763A (en) * 1997-09-19 2005-11-30 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive film, process for laminating photosensitive resin layer, photosensitive resin layer-laminated substrate and process for curing photosensitive resin layer
US6204302B1 (en) 1998-11-20 2001-03-20 Bisco, Inc. Photosensitizers for free radical polymerization initiation resins and method of making the same
JP4163561B2 (ja) * 2003-06-17 2008-10-08 富士フイルム株式会社 色素化合物
JP5895264B2 (ja) * 2011-12-27 2016-03-30 株式会社トクヤマデンタル 歯科用充填修復キット
US9789031B2 (en) * 2013-10-10 2017-10-17 Kuraray Noritake Dental Inc. Dental adhesive kit
CN117757458B (zh) * 2024-02-22 2024-04-19 广饶六合化工有限公司 一种季铵盐类复合黏土稳定剂

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57176035A (en) * 1981-03-30 1982-10-29 Du Pont Photosensitive composition

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3639321A (en) * 1967-05-06 1972-02-01 Bayer Ag Polyester moulding and coating materials which can be hardened by uv-irradiation
US3829369A (en) * 1972-10-19 1974-08-13 American Can Co 4-methoxy benzene diazonium hexafluorophosphate catalyst for photopolymers in epoxy systems
DE2720228B2 (de) * 1976-05-06 1979-10-18 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd., Tokio Photopolymerisierbares Gemisch und seine Verwendung
US4204928A (en) * 1977-03-01 1980-05-27 Stauffer Chemical Company Photopolymerizable composition stabilized with nitrogen-containing aromatic compounds
US4330612A (en) * 1979-01-23 1982-05-18 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Laminate of monolayer film of cyclized butadiene polymer and other photosensitive layer
US4349619A (en) * 1979-09-19 1982-09-14 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Photoresist composition
DE2944866A1 (de) * 1979-11-07 1981-05-21 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
JPS57211145A (en) * 1981-06-23 1982-12-24 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Photoresist composition
JPS60149603A (ja) * 1984-01-17 1985-08-07 Kuraray Co Ltd 光重合性の組成物
JPS60197609A (ja) * 1984-03-16 1985-10-07 Kuraray Co Ltd 歯科用組成物
US4777190A (en) * 1985-05-13 1988-10-11 Mitsubishi Rayon Company Limited Photopolymerizable composition based on a vinyl compound, a sulfur-containing compound and an α-diketone

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57176035A (en) * 1981-03-30 1982-10-29 Du Pont Photosensitive composition

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6281404A (ja) 1987-04-14
US4826888A (en) 1989-05-02

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