JPS5862187A - 6−ヒドロキシメチルウリジンの製造法 - Google Patents
6−ヒドロキシメチルウリジンの製造法Info
- Publication number
- JPS5862187A JPS5862187A JP56160776A JP16077681A JPS5862187A JP S5862187 A JPS5862187 A JP S5862187A JP 56160776 A JP56160776 A JP 56160776A JP 16077681 A JP16077681 A JP 16077681A JP S5862187 A JPS5862187 A JP S5862187A
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- formyluridine
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、6−ヒドロキシメチルウリジンの新規な〜製
造法に関するものである。
造法に関するものである。
従来、6−ヒドロキシメチルウリジンの製造法とじ〜で
は、■5′−〇−アセチルー2’、8′−0−インプロ
ピリデン−6−シアノウリジンにピリジン中硫化水素を
反応させて6−チオカルボキサミド体に導びき、これを
熱90%エタノール中ラネーニッケルにより還元的脱硫
反応に付し、次いて亜硝酸ナトリウム−酢酸でデアミネ
ーションして6−ヒドロキシメチル体を得る方、法((
:hem、 pharmBull、26+91.265
7−2668 (1978))、■5−ブロモー2’、
8’−0−’インプロピリデン−5′−0−トリチルウ
リジンのピリジン溶液を2−リチオ−1,3−ジチアン
のオキソラン溶液に一78°Cで加えて(5S、6S)
−5−ブロモ−5,6−シヒドロー(1,3−ジチアン
−2−イル)−2’、8’−0−イソプロピリデン−5
’ −0−トリチルウリジンおよびその(5R)異性体
を合成し、これらを10%ジメチルスルホキシドを含む
水性アセトン中でヨウ化メチルと処理して6ホルミルー
2’、3’−o−インプロピリデン−5′−0−トリチ
ルウリジンを得、次いてエタノ ル中水素化ホウ素ナト
リウムで還元処理して6−ヒドロキンメチル体を得る方
法(carbohydrateResearch、
、85 (1980)l 5−82)なとが知られてい
る。しがしながら、これらの従来法はいずれも多数の工
程を要する上に収率が低いという欠点がある。
は、■5′−〇−アセチルー2’、8′−0−インプロ
ピリデン−6−シアノウリジンにピリジン中硫化水素を
反応させて6−チオカルボキサミド体に導びき、これを
熱90%エタノール中ラネーニッケルにより還元的脱硫
反応に付し、次いて亜硝酸ナトリウム−酢酸でデアミネ
ーションして6−ヒドロキシメチル体を得る方、法((
:hem、 pharmBull、26+91.265
7−2668 (1978))、■5−ブロモー2’、
8’−0−’インプロピリデン−5′−0−トリチルウ
リジンのピリジン溶液を2−リチオ−1,3−ジチアン
のオキソラン溶液に一78°Cで加えて(5S、6S)
−5−ブロモ−5,6−シヒドロー(1,3−ジチアン
−2−イル)−2’、8’−0−イソプロピリデン−5
’ −0−トリチルウリジンおよびその(5R)異性体
を合成し、これらを10%ジメチルスルホキシドを含む
水性アセトン中でヨウ化メチルと処理して6ホルミルー
2’、3’−o−インプロピリデン−5′−0−トリチ
ルウリジンを得、次いてエタノ ル中水素化ホウ素ナト
リウムで還元処理して6−ヒドロキンメチル体を得る方
法(carbohydrateResearch、
、85 (1980)l 5−82)なとが知られてい
る。しがしながら、これらの従来法はいずれも多数の工
程を要する上に収率が低いという欠点がある。
本発明者らは、下記一般式〔1〕で表わされるN1.6
−ジーもしくはN’、 6. 5’−トリーリチオウ
リジンに対するエステル類の反応性を検討した結果、エ
ステル類のうちギ酸エステルだけが容易に反応にして6
−ホルミル体を与え、これを還元すれば短工程でしかも
高収率て6−ヒドロキシメチルウリジンを合成できるこ
とを知見し、本発明を完成した。すなわち、本発明方法
は、一般式〔l 〕 〔式中、Rは保護基、Rはリチウムまたは保護基を示す
。〕で表わされるN1.6−ジーもしくはNl。
−ジーもしくはN’、 6. 5’−トリーリチオウ
リジンに対するエステル類の反応性を検討した結果、エ
ステル類のうちギ酸エステルだけが容易に反応にして6
−ホルミル体を与え、これを還元すれば短工程でしかも
高収率て6−ヒドロキシメチルウリジンを合成できるこ
とを知見し、本発明を完成した。すなわち、本発明方法
は、一般式〔l 〕 〔式中、Rは保護基、Rはリチウムまたは保護基を示す
。〕で表わされるN1.6−ジーもしくはNl。
6.5”−トリーリチオウリジンにギ酸エステルを反応
させて一般式〔1〕 〔式中、Rは前記と同意義、R′は水素または保護基を
示す。〕で表わされる6−ホルミルウリジンを生成させ
、次いてこれを還元剤で処理して一般□式〔L 〔式中、R1R′は前記と同意義。〕で表わされる6−
ヒドロキシメチルウリジンを得ることを特徴とする方法
である。
させて一般式〔1〕 〔式中、Rは前記と同意義、R′は水素または保護基を
示す。〕で表わされる6−ホルミルウリジンを生成させ
、次いてこれを還元剤で処理して一般□式〔L 〔式中、R1R′は前記と同意義。〕で表わされる6−
ヒドロキシメチルウリジンを得ることを特徴とする方法
である。
本発明方法における原料化合物であるN”、 6−ジ
ーもしくはN’、 6. 5’−)ジーリチオウリジ
ンは公知の方法により調製すればよい(たとえば、Te
trahedron Letters Na 49 、
pp4755−4.758 (1979);昭和5
6年3月10日、社団法人日本薬学会第−101年会講
演要旨集、第394頁など参照)。一般式〔1〕中の保
護基の種類に関しては特に限定がないか、酸処理により
容易に脱離しうるものか好ましく、そのような具体例と
しては、Rとしてインプロピリデン、エチリデンなとの
アルキリデン基、メトキシメチレノ、メトキシメチレノ
、エトキンエチレンなどのアルコキノアルキリデン基、
R′としてメトキシメチル、トリメトキシメチル、エト
キンエチルなどのアルコキンアルキル基などが挙げられ
る。原料化合物の調製にあたり、リチウム化反応に先立
つ−て5′位水酸基に保護基を導入した方が溶解性が改
善され、諸反応の均一化を期すことができる。
ーもしくはN’、 6. 5’−)ジーリチオウリジ
ンは公知の方法により調製すればよい(たとえば、Te
trahedron Letters Na 49 、
pp4755−4.758 (1979);昭和5
6年3月10日、社団法人日本薬学会第−101年会講
演要旨集、第394頁など参照)。一般式〔1〕中の保
護基の種類に関しては特に限定がないか、酸処理により
容易に脱離しうるものか好ましく、そのような具体例と
しては、Rとしてインプロピリデン、エチリデンなとの
アルキリデン基、メトキシメチレノ、メトキシメチレノ
、エトキンエチレンなどのアルコキノアルキリデン基、
R′としてメトキシメチル、トリメトキシメチル、エト
キンエチルなどのアルコキンアルキル基などが挙げられ
る。原料化合物の調製にあたり、リチウム化反応に先立
つ−て5′位水酸基に保護基を導入した方が溶解性が改
善され、諸反応の均一化を期すことができる。
第一反応の6−ホルミル化反応において、反応試薬のギ
酸エステルとしては、ギ酸メチルエステル、ギ酸エチル
エステル、ギ酸フロビルエステルギ酸メチルエステル、
ギ酸フェニルエステルなどが用いられる。反応は、無水
条件および一78〜0°Cの低温条件下で反応溶媒中で
行われる。反応溶媒には、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ンtキサン、ジメトキシエタン、・ジエチ
レングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶ル
ミル体を単離して反応に供することができる力(、6−
ホルミル体は不安定な性質を1丁するため、単離操作な
しに竿−反応の一反応液を直接第二反応に供する方が、
反応も ’one pot“て行うことができ、より有
利である。第二反応における還元処理は、不飽和結合に
隣接するアルデヒドのアルコールへの還元反応に一般に
用いられる還元剤を用いて行えばよい。還元剤の具体例
としては、たとえば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホ
ウ素リチウム、水素化ホウ素カリウムなどか挙げられる
。溶媒としては、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツールなどを適用すればよい。
酸エステルとしては、ギ酸メチルエステル、ギ酸エチル
エステル、ギ酸フロビルエステルギ酸メチルエステル、
ギ酸フェニルエステルなどが用いられる。反応は、無水
条件および一78〜0°Cの低温条件下で反応溶媒中で
行われる。反応溶媒には、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ンtキサン、ジメトキシエタン、・ジエチ
レングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶ル
ミル体を単離して反応に供することができる力(、6−
ホルミル体は不安定な性質を1丁するため、単離操作な
しに竿−反応の一反応液を直接第二反応に供する方が、
反応も ’one pot“て行うことができ、より有
利である。第二反応における還元処理は、不飽和結合に
隣接するアルデヒドのアルコールへの還元反応に一般に
用いられる還元剤を用いて行えばよい。還元剤の具体例
としては、たとえば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホ
ウ素リチウム、水素化ホウ素カリウムなどか挙げられる
。溶媒としては、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツールなどを適用すればよい。
脱保護反応は常法によって行われ、たとえば前記例示保
護基の場合は、トリフルオロ酢酸、過塩素酸、希硫酸、
希塩酸なとの酸による酸処理が適用される。
護基の場合は、トリフルオロ酢酸、過塩素酸、希硫酸、
希塩酸なとの酸による酸処理が適用される。
目的化合物の単離精製も常法を適宜に採用して実施すれ
ばよく、たとえば吸着カラムクロマトグラフィー、再結
晶などの精製手段を適用すればよい。
ばよく、たとえば吸着カラムクロマトグラフィー、再結
晶などの精製手段を適用すればよい。
以下、本発明方法の一実施態様を示す実施例を挙げて本
発明をより一具体的に説明する。
発明をより一具体的に説明する。
実施例
2’,8’−0−インプロビリデ、ソー5′−〇−メト
キシメチルウリジン786111i+のテトラヒドロフ
ラン12111溶液を、窒素ガス陽圧下、−706C以
下に保ちながらリチウムジイソプロピルアミド599m
moleのテトラヒビ0フラン10MII容液中に浦下
し、1時間撹拌した(N1,6−ジ−リチオ体の調製)
。
キシメチルウリジン786111i+のテトラヒドロフ
ラン12111溶液を、窒素ガス陽圧下、−706C以
下に保ちながらリチウムジイソプロピルアミド599m
moleのテトラヒビ0フラン10MII容液中に浦下
し、1時間撹拌した(N1,6−ジ−リチオ体の調製)
。
この反応液にギ酸エチルエステル0.89冨lを滴下し
、3.5時間反応させた。反応液に酢酸0.36IIl
を加えて室温′に戻した(6−ホルミル体の調製)。
、3.5時間反応させた。反応液に酢酸0.36IIl
を加えて室温′に戻した(6−ホルミル体の調製)。
反応液にエタノール45s+tおよび水素化ホウ素ナト
リウム114111?を加え、10分間撹拌した。
リウム114111?を加え、10分間撹拌した。
反応液を減圧乾固し、残渣をエタノニルに溶解させ、少
量のシリカゲルを加えて減圧乾固後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出液:2%一一 エタノールクロロホルム)により精製し、6−ヒドロキ
ラメチル−2’.3’−〇−インプロピリデン− 5’
− 0 メトキシメチルウリジン56411gを得
た(収率65、7%)。メタノール−へキサンから再結
晶して分析に供した。
量のシリカゲルを加えて減圧乾固後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出液:2%一一 エタノールクロロホルム)により精製し、6−ヒドロキ
ラメチル−2’.3’−〇−インプロピリデン− 5’
− 0 メトキシメチルウリジン56411gを得
た(収率65、7%)。メタノール−へキサンから再結
晶して分析に供した。
融点 219−220’C
元素分析 c15H22N2o8トシテ計算値□□
□: C. 50.27 H, 6.19 N,
7.82実験値□□□: C, 50.48 H.
6.21 N、791質量分析スヘクh ル(mlz
) 8 5 g (M+)紫外線吸収スペクトル ’AMeOH2 5 ill nm ( t 1 0
5 0 0 )mテX 1eOH λmin 、228nm (ε 2700)6−ヒ
ドロキシメチル−2’.8’−0−インプロピリデン−
5’ − 0−メトキシメチルウリジン100■を50
%トリフルオロ酢酸水溶液5 mlに溶解させ、室温下
2日撹拌した。反応液を減圧乾固し、残渣をエタノール
に溶解させ、少量のシリカゲルを加えて減圧乾固後,シ
リカゲルカラムクロマトクラフィー (溶出1:9%エ
タノール−クロロポルム)により精製し、6−ヒトロキ
ンメチルウリジン56I+1gを得た(収率73,1%
)。
□: C. 50.27 H, 6.19 N,
7.82実験値□□□: C, 50.48 H.
6.21 N、791質量分析スヘクh ル(mlz
) 8 5 g (M+)紫外線吸収スペクトル ’AMeOH2 5 ill nm ( t 1 0
5 0 0 )mテX 1eOH λmin 、228nm (ε 2700)6−ヒ
ドロキシメチル−2’.8’−0−インプロピリデン−
5’ − 0−メトキシメチルウリジン100■を50
%トリフルオロ酢酸水溶液5 mlに溶解させ、室温下
2日撹拌した。反応液を減圧乾固し、残渣をエタノール
に溶解させ、少量のシリカゲルを加えて減圧乾固後,シ
リカゲルカラムクロマトクラフィー (溶出1:9%エ
タノール−クロロポルム)により精製し、6−ヒトロキ
ンメチルウリジン56I+1gを得た(収率73,1%
)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式(1) 0式中、Rは保護基、Rはリチウムまたは保護基を示す
。〕で表わされるNl、 6−ジーもしくはNl。 6.5’−)リーリチオウリジンにギ酸エステルを反応
させて一゛般式〔困〕 される6−ホルミルウリジンを生成させ、次いでこれを
還元剤で処理して一般式(1,1(式中、R,R”は前
記と同意義である。〕で表わされる6−ヒドロキソメチ
ルウリジンを合成する、 ことを特徴とする6−ヒドロ
キノメチルウ2リジンの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56160776A JPS5862187A (ja) | 1981-10-07 | 1981-10-07 | 6−ヒドロキシメチルウリジンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56160776A JPS5862187A (ja) | 1981-10-07 | 1981-10-07 | 6−ヒドロキシメチルウリジンの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5862187A true JPS5862187A (ja) | 1983-04-13 |
Family
ID=15722202
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56160776A Pending JPS5862187A (ja) | 1981-10-07 | 1981-10-07 | 6−ヒドロキシメチルウリジンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5862187A (ja) |
-
1981
- 1981-10-07 JP JP56160776A patent/JPS5862187A/ja active Pending
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