JPS5857632A - 可撓性磁気記録体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気テープ記憶装置、フレキシブルディスク記
憶装置などに用いられる可撓性磁気記録体にｌする。

磁気テープ記憶装置、フレキシブルディスク記憶装置な
どに用いられる可撓性の磁気記録体としては従来、第１
図もしくは第２図のごとく、ポリニスデルなどの可撓性
基体１の片面もしくは両面に磁性膜２を被覆した構成の
ものが用いられている。磁性膜２としては従来γ−Ｐ　
ｅ　１０　ｓ、Ｃｒｏｗ、磁性金属などの微粒子塗布膜
が主に用いられている。

一般に磁気記録において記録密度を上げる方法のひとつ
は記録媒体の保磁力を上げることであるが、保磁力を極
端に大きくする古記録ヘッドの磁気飽和番こより書き込
みが困難となる為、自から限界がある。今ひとつのより
効果的な方法は磁性膜厚を薄くすることである。しかし
ながら、従来用いられているような塗布膜媒体の場合に
はその製造上の問題、すなわち微粒子自体の大きさく長
さ）以下の厚さの塗布膜では箪布ムラがどうしても生じ
てしまうことから、エラーを少なく保って磁性膜厚を薄
くすることが困難であり、記録密度の向上にも限界があ
った。

そこで磁性膜厚を飛躍的に減少させる媒体として連続薄
膜媒体が注目され開発が進められている。

中でも磁性酸化鉄連続薄膜は化学的安定性（耐食性）の
点から金属薄膜に優っている。この磁性酸化鉄連続薄膜
媒体は従来、リジッド磁気ディスク媒体として専ら開発
が進められてきたものであるが、本発明者らのひとりは
先にポリエステル、ポリイミドもしくはテフロンなどの
可撓性基体上にスパッタリング及びそれに続く比較的低
温における酸化処理によって磁気記憶装置として好まし
い磁気特性を有する薄い均一な磁性酸化鉄連続薄膜を形
成した可撓性磁気記録体を提案した（特願昭５６−０６
３６６５）。

一般に磁気テープ装置、フレキシブルディスク装置など
のような可撓性磁気記録体を用いる磁気記憶装置ではぞ
の使用状態に・おいて磁気記録体と磁気ヘッドとは接触
摩擦状態にある。

このような磁気記憶装置に前記磁性酸化鉄連続薄膜を記
録媒体とする可撓性磁気記録体を使用した時、接触摩擦
状態にある磁気記録体と磁気ヘッドとの間に生じる摩擦
力により磁気ヘッドおよび磁気記録体が摩耗し、ついに
は磁気ヘッドおよび磁性媒体に傷が生ずることがあり１
また前記接触摩擦状態において、磁気ヘッドのわずかな
姿勢の変化がヘッドにかかる荷重を不均一にさせヘッド
および磁性媒体表面に傷を作ることもあることが本発明
者らにより確められた０ 本発明の目的は本発明者らの発明にかかる新規な磁気記
録体である磁性酸化鉄連続薄膜を記録媒体とする可撓性
磁気記録体において、磁気ヘッドと磁気記録体との接触
摩擦および接触摩耗から磁気ヘッドおよび磁気記録体を
十分に保護するために潤滑剤層が被覆された可撓性磁気
記録体を提供することにある。

すなわち本発明の磁気記録体は可撓性基体上に磁性酸化
鉄の連続薄膜が被覆された可撓性磁気記録体において該
磁性酸化鉄連続薄膜上に直接潤滑剤層が被覆されている
か、もしく磁性酸化鉄連続薄膜上に磁気ヘッドとの接触
摩擦に対する機械的耐久性を増強させるための保護膜が
被覆され、更に該保護膜上に潤滑剤層が被覆されている
ことを特徴としている。

次に図面を診照して本発明の詳細な説明する。

第３図および第４図は本発明の磁気記録体の部分断面図
である。

第３図においてポリエステル、ポリイミドあるいはテフ
ロンなどの可撓性基体１の片面もしくは両面に、磁性酸
化鉄連続薄膜３が被覆され、更にこの磁性酸化鉄連続薄
膜３の上に潤滑剤層４が被覆されている。

また第４図においてポリエステル、ポリイミドあるいは
テフロンなどの可撓性基体ｌの片面もしくは両面に磁性
酸化鉄連続薄膜３が被覆され、この磁性酸化鉄連続薄膜
３上に磁気ヘッドとの接触摩擦に対する機械的耐久性を
増強させ５− るための保護膜５としてｋＬｚＯｓもしくはＳ　ｉ（ｈ
などの硬質非磁性酸化物あるいは珪酸重合物からなる薄
膜を被覆し、更にこの保護膜５の上に潤滑剤層４か被覆
されている。

第３図あるいは第４図における磁性酸化鉄連続薄膜３と
してはｒ　　Ｆｅ２Ｏ２，もしくはＦｅ２Ｏ２とγ−Ｆ
ｅ　、０．との中間組成物を主成分とするもので、磁気
特性を変化させるためにコバルト、銅などの他元素を少
量含んだものであっても良い。

また上記の潤滑剤としては、オイル系潤滑剤であっても
あるいは固体潤滑剤であっても良い。

以下にこれらのうち代表的なものを例示する。

オイル系潤滑剤としては高級脂肪酸（ラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オ
レイン酸、リノール酸、リルン酸、アラキドン酸など）
、オキシ脂肪酸（オキシステアリン酸、ラッパルミチン
酸など）、脂肪酸アミド（ラウリン酸アミド、ミリスチ
ン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸６− アミド、エシル酸アミド、メチレンビスステアロアミド
、メチレンビスステアロアミド、硬化牛脂アミドなど）
、脂肪酸エステル（ステアリン酸メチル、バルミチン酸
セチル、ステアリン酸モノグリセリドなど）、脂脂アル
コール（セチルアルコール、ステアリルアルコールナト
）、金属石けん（ラウリン酸、ミリスチン酸、バルミチ
ン酸、ステアリン酸などの亜鉛、銅、マグシリコンオイ
ル（ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポリシロ
キサン、モノアルキルモノアルココキシポリシロキサン
、フェニルポリシロキサン、プロロアルキルボリシロキ
サンなど）、トリオレイン、パーフロロアルキルポリエ
ーテル、フロロシランなどがある。

また固体潤滑剤としては■族、■族、■族。

■族金属の硫化物、セレン化物、またはテルル化物（Ｚ
ｒＳ＊、Ｖ８＊　、　ＮｂＳｍ、Ｔａ５ｔ、　Ｍｏ５ｔ
、ＷＳｇ。

几ｅ８ｚ、Ｗｏｅｘ　、Ｍｏｄｅｌ、Ｎｂ５ｅｓ　、Ｍ
ｏＴｅｔ　、ＷＴｅｔなど）、塩化物（ＣｄＣＬｘ　、
　ＣｒＣＬｓなど）、ヨウ化物（Ｃｄ１．など）、窒化
物（ＢＮなど）、酸化物（ＰｂＯ，タルク、　８　ｂ　
＠Ｏｓ　、　ＭｏＯｓなど）、黒鉛、フタロシアニンな
どがある。

オイル系潤滑剤層はスピンコード法、浸漬法、スプレー
法などにより形成される。また固体潤滑剤層は、固体潤
滑剤粉末を磁気記録体表面に塗布した後、圧力をかけて
こするなどの方法により形成することができる。

また潤滑剤層は上記潤滑剤の中の１１１類のみを用いて
も２種以上のものの混合物を用いても良い。また２種以
上のものを多層に形成してもよい。

次ｌこ実施例および比較例により本発明による磁気記録
体を詳細１こ説明する。

実施例１゜ 可撓性基体１としてポリイミドを用い、Ｆｅ５０４をタ
ーゲットとしアルゴン雰囲気中でスパッタリングするこ
とにより該可撓性基体１上に磁性薄膜３としてＦｅ１Ｏ
４からなる連続薄膜を０．２４１１］の厚さに形成した
のち、これを２００℃、１０間の大気中酸化によってγ
−Ｐｅｓｏｓ暎とし、更に該磁性薄膜３上にパーフロロ
アルキルポリエーテルの一部であるタライトツクスから
なる潤滑剤層４を浸漬法により形成してフレキシブルデ
ィスクを作った。

実施例２゜ 実施例１と同様にして、但し磁性薄ｖ３としてｐ６３０
４を大気中１７５℃で１時間大気中酸化することにより
Ｆ６３０４と１−　Ｆｅ　＊Ｏｓ中間組成物としたフレ
キシブルディスクを作った。

実施例３゜ 実施例１と同様にして、但し潤滑剤層４としてフロロシ
ランを用いてフレキシブルディスクを作った。

実施例４ 実施例１と同様にして、但し潤滑剤層４としてステアリ
ン酸を用いてフレキシブルディスクを作った。

９一 実施例５゜ 実施例１と同様にして、但し潤滑剤層４としてステアリ
ン酸アミドを用いてフレキシブルディスクを作った。

実施例＆ 実施例１と同様にして、但し潤滑剤層４としてステアリ
ン酸メチルを用いてフレキシブルディスクを作った。

実施例７、 実施例１と同様にして、但し潤滑剤層４としてジアルキ
ルポリシロキサンを用いてフレキシブルディスクを作っ
た。

実施例８゜ 実施例１と同様にして但し潤滑剤層４として、磁性媒体
３の上に粒子径３μｍのフッ化黒鉛粉末をまぶし、かつ
ポリッシング用布（こもそのフッ化黒鉛粉末をまぶし、
お互いに圧力をかけてこすり合わせ、フッ化黒鉛粒子の
ごく一部を前記磁性媒体３の上に移着させることにより
フッ化黒鉛薄膜を形成してフレキシブルディスクを１０
− 作った。

実施例９゜ 可撓性基体１としてポリイミドを用い、Ｉｉ’ｅｍ０４
をターゲットとじアルゴン雰囲気中でスパッタリングす
ることにより、該可撓性基体１−１ｔに磁性薄膜３とし
てｌ？　ｅＢ　Ｏａからなる連続薄膜を（）、２μｍの
厚さに形成した後、大気中２０　＋１　℃で１時間焼成
酸化すること１こよりγ−ｐｅｌＯｓ膜とした。

この磁性薄膜３の土に保１１＃５としてテトラヒドロキ
シシランの２％ｎ−ブチルアルコール溶液を５０ＯＡの
厚さに塗布、２００℃で焼成することにより珪酸ｎ合物
簿膜を形成した。次にこの保護膜５の」−にフロロシラ
ンからなる潤滑剤層４を浸漬法により形成してフレキシ
ブルディスクを作った。

実施例１０ 実施例９と同様にして、１■シ保護膜５としてスパッタ
リング法によりＡ　Ｌ　ｓ　Ｏｓからなる硬質非磁性酸
化物被膜を約５００にの厚さに形成し−（フレキシブル
ディスクを作った。

比較例１゜ 可撓性基体ｌとしてポリイミドを用い、Ｆｅ３Ｏ３をタ
ーゲットとしアルゴン雰囲気中でスパッタリングするこ
とにより該可撓性基体１上に磁性薄膜３としてＦ’ｅｓ
０４とγ−１ＩｌｅｚＯｓとの中間組成物からなる連続
薄膜を０．２μ口］の厚さ昏こ形成してフレキシブルデ
ィスクを作った。

比較例２゜ 比較例１と同様にして作った磁気記録体を大気中２００
℃で焼成すること４こよりＦｅｘ０４ｆ酸化し１−Ｆｅ
１Ｏｚとしたフレキシブルディスクを作った。

比較例３６ 比較例１と同様にして作った磁気記録体の磁性薄膜３の
上に保護膜５としてテトラヒドロキシシランの２％ｎ−
ブチルアルコール溶液を５００Ａの厚さ１こ塗布、２０
０℃で焼成することにより珪酸重合物薄膜を形成してフ
レキシブルディスクを作った。

比較例４゜ 比較例１と同様にして作った磁気記録体の磁性薄膜３の
−１１に保護膜としてスパッタリング法によりＡＩ−２
ＯＢからなる硬質非磁性酸化物被膜を約５０ＯＡの厚ざ
に形成してフレキシブルディスクを作った。

実施例１〜１０、比較例１−・４で示した各フレキシブ
ルディスクを磁気ヘッドと接触させたまま連続運転する
こと４こより耐久試験を行なったところ比較例１．２の
フレキシブルディスクはそ１１ぞれ１万パス及び５万パ
スで磁性薄膜表面に傷がつき、また比較例３．４のフレ
キシブルディスクは１０万パスで保護膜表面に傷がつい
た。これに対し、実施例１〜８のフレキシブル以上のよ
うに本発明ζこよれば、本発明者らの発明にかかる新規
な磁気記録体である磁性酸化鉄連続薄膜を記録媒体とす
る可撓性磁気記録体において、磁気ヘッドとの接触摩擦
に対して何１３− らの損傷も受けない磁気記録体が得られる。

なお上記実施例には可撓性磁気記録体をフレキシブルデ
ィスクとした場合をあげたが、これを磁気テープとした
場合もまったく同様である。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は匝来の磁気記録体の部分断面図。第３
図および第４図は本発明による磁気記録体の部分断面図
である。 図において１は可撓性基体、２は磁性膜媒体、３は磁性
酸化鉄連続薄膜媒体、４は潤滑剤層、５は保護膜を示す
。 −へ１４− 第　１　図 篇　３　図 第　２　口 第　４　図 １４９−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、可撓性基体上に磁性酸化鉄の連続薄膜が被覆され、
   更に該磁性酸化鉄連続薄膜上に潤滑剤層が被覆されてい
   ることを特徴とする可撓性磁気記録体。 ２、可撓性基体上に磁性酸化鉄連続薄膜が被覆され、該
   磁性酸化鉄連続薄膜上に磁気ヘッドとの接触膠擦に対す
   る機械的耐久性を増強させるための保護膜が被覆され、
   更に該保護膜−ヒに潤滑剤層が被覆されていることを特
   徴とする可撓性磁気記録体。 ３、保護膜が珪酸重合物もしくは硬質非磁性酸化物から
   なる特許請求の範囲第２項Ｈ１シ載の可撓性磁気記録体
   。