JPS5855489B2 - 液晶表示セルの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、液晶表示セルの製造方法に係り、とくにセグ
メント周辺に「にじみ」が生じない液晶表示セルの製造
方法に関する。

一般に、液晶表示セルは第１図に示すような構造を有し
、ガラス基板１，２上に酸化インジウム（■ｎ２０３）
などの透明導電膜から成るセグメント電極３，３′を設
け、その上に配向膜（または絶縁膜’） ４ 、４’を
形成し、これを以て液晶５をサンドインチし、周辺部を
シール６によって封止している。

従来、配向膜として有機高分子膜を用いた場合、シール
はエポキシ樹脂などの有機シールを行なっていた。

しかしこうした有機シールは、湿気（水分）がシール部
を通ってセル内部に侵入し、液晶に対して悪影響を及ぼ
すと同時に、セル点灯時に文字等を表示しているセグメ
ント電極周囲に「にじみ」が出たり、近接するセグメン
ト隙間が点灯して、いわゆる「くっつき」を生じたりす
るという問題があった。

水分の液晶に対する影響は、液晶材料を耐湿性のものに
代えることによって改良することができるが、前記の表
示時の「にじみ」や「くっつき」は改善できなかった。

これは、第２図に示すように、シールを通ってセル内に
侵入した水分は、ガラス基板表面にぎよう集して微細な
水滴状１０となって付着する。

これがセグメント電極３の周辺の沿面抵抗（Ｒ）を低下
させて、点灯時にリーク電流が流れ、第３図に示すよう
に、電極周辺の領域１１が電極状となって、その部分の
液晶が点灯状態となるためと考えられる。

この場合の沿面抵抗（Ｒ）は２〜３桁低下している。

こうした沿面抵抗の低下を防ぐことができれば「にじみ
」を防止できる。

本発明は、上記の沿面抵抗の低下を防止する添加剤につ
いて検討した結果、ある種のシラン系カップリング剤が
有効なことを見い出した。

即ち、ガラス基板とポリイミド系有機高分子膜との界面
にアミノ基を有するシラン系カップリング剤を適用し、
かつポリイミド系有機高分子膜が前駆重合体ワニスにア
ミノ−シラン系カップリング剤を配合したワニスの塗膜
を加熱したものから形成することによって、前記沿面抵
抗の低下を防止し、「にじみ」などの発生を防ぐことに
ある。

上記シラン系カップリング剤としては、γ−フェニルア
ミノプロピルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビ
ルトリメトキシシラン、およびＮβ−アミノエチル−γ
−アミノプロピルトリメトキシシランなどアミノファン
クショナルシランである。

なお、上記アミノファンクショナルシランの適用方法は
、ポリアミド系有機高分子の前駆重合体に直接添加する
。

こうすることによって（１）カップリング剤とガラス基
板との反応、前駆重合体ワニスの脱水閉環反応、前駆重
合体ワニス乃至ポリイミド系有機高分子とカップリング
剤との反応が同時に行われるから配向膜形成の工程が短
縮され、（２）カップリング剤の下塗り作業が無いから
それだけ塗工ムラが無くなり、前駆重合体ワニスの塗布
性も良くなり、（３）カップリング剤層とポリイミド系
有機高分子膜との２層構造に比べて絶縁層厚が正味薄く
できるからしきい値電圧が低くなる。

次に本発明を実施例を示して説明する。

実施例 １ ポリアミド酸カルボンアミドの３％Ｎ−メチル２−ピロ
リドン溶液に、γ−フェニルアミノプロピルメトキシシ
ランを０．１重量％添加しワニスを調製した。

カ★ 次に充分に
脱脂洗浄した■ｎ２０３透明電極付きガラス基板上に、
前記ワニスをスピンナー塗布し、２４０℃１時間加熱し
て、膜厚約４００オングストロームの透明な膜を形成し
た。

これを綿布で軽くラビングして配向膜を得た。

こうして得た２枚の基板の周縁シール部分の有機高分子
膜をヒドラジンを用いて除去し、２枚の基板を組合せて
ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂によってシールしセル
を作成した。

次いでアゾキシ系ネマチック液晶を注入し、注入口も前
記エポキシ樹脂を以て封止し液晶表示セルとした。

上記液晶表示セルを、７０℃、ＲＨ９５％のふん囲気中
に１００時間放置した後、点灯し「にじみ」の有無を調
べた。

シラン系カップリング剤を適用したセルにおいては上記
のような極めてきびしいふん囲気中に放置しても「にじ
み」は全く生じなかった。

また、沿面抵抗は初めの１×１０１２ｇが、ｌＸｌ０”
、Ｑに低下したが、この程度の低下はほとんど影響ない
。

一方、シラン系カップリング剤を適用しなかったものは
、沿面抵抗が１×１０９８まで低下し、「にじみ」が発
生した。

上記以外のカップリング剤についても同様にして、「に
じみ」と沿面抵抗を測定した。

結果を第１表に示す。

なお、沿面抵抗は、隣接しているセグメント電極間をＤ
Ｃ２５Ｖで測定した。

実施例 ２ ４・４′−ジ（ｍ−アミノフェノキシ）ジフェニルスル
ホン４３，２グ、３・３′、４・４′−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸二無水物３２．２ＰおよびＮ−メチル
−２−ピロリドン４００′ｆＩをＩＪ４０フラスコに入
れ、１５℃、６時間攪拌し、粘度１５０ポアズ（２５℃
）のポリアミド酸スルホンのワニスを得た。

これに、Ｎ−β−アミノエチルγ−アミノプロピルトリ
メトキシシランを０．１★★重量％添加して、Ｉｎ２Ｏ
３透明電極付きガラス基板上に薄く塗布し２４０℃、１
時間加熱して約４００オングストロームの膜厚の透明な
ポリスルホンエーテルイミド膜を得た。

以下、実施例１．２と同様にして液晶表示セルを作成し
、「にじみ」および沿面抵抗を測定した。

なお、上記以外のカップリング剤についても同様に「に
じみ」、沿面抵抗を測定した。

これらの結果を第２表に示す。

以上詳述したように、本発明によれば、液晶表示セルの
水分による点灯時の「にじみ」、「くっつき」が生じな
いものが得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、液晶表示セルの構造を示す略図、第２図およ
び第３図は、吸湿水分によるセグメント周囲の「にじみ
」を生ずる理由を示す略図である。 １・・・・・・上ガラス基板、２・・・・・・下ガラス
基板、３・・・・・・透明電極、３１・・・・・・電極
、４・・・・・・有機高分子膜、５・・・・・・液晶、
６・・・・・・シール、１０・・・・・・水の微小粒子
（水分）、１１・・・・・・吸湿による低抵抗領域、１
２・・・・・・正規の動作部分、１３・・・・・・吸湿
により新たに生じた動作部分（「にじみ」となる部分）
。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 平行に配置され、少なくともその一方は透明な導電
   性膜を有する２枚のガラス基板間に液晶層を介在し、上
   記導電性膜と液晶層の間にポリイミド系有機高分子膜な
   設けた液晶表示セルの製造方法において、前記ポリイミ
   ド系有機高分子の前駆重合体ワニス中にアミノ−シラン
   系カップリング剤を配合したワニスな前記導電性膜上に
   塗布し加熱することによって前記有機高分子膜を形成す
   ることを特徴とする液晶表示セルの製造方法。