JPS5855488A - ベンゾピラノピリジン誘導体 - Google Patents
ベンゾピラノピリジン誘導体Info
- Publication number
- JPS5855488A JPS5855488A JP15507081A JP15507081A JPS5855488A JP S5855488 A JPS5855488 A JP S5855488A JP 15507081 A JP15507081 A JP 15507081A JP 15507081 A JP15507081 A JP 15507081A JP S5855488 A JPS5855488 A JP S5855488A
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- JP
- Japan
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- pyridine
- benzopyrano
- compound
- oxo
- general formula
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式(I)
〔式中、RF!アルキル基を、R□け水素、アミノ基、
水酸基ま九はハロゲンを、R2Fiカルボキシル基また
はカルボキシル基に変えうる基を、mは0,1ま九は2
をそれぞれ表わす〕で示される新規なベンゾピラノlリ
ジン骨核を有する化合物の誘導体゛に関する。
水酸基ま九はハロゲンを、R2Fiカルボキシル基また
はカルボキシル基に変えうる基を、mは0,1ま九は2
をそれぞれ表わす〕で示される新規なベンゾピラノlリ
ジン骨核を有する化合物の誘導体゛に関する。
さらに詳しくは、箪発明の一般式(I)で示されベンゾ
ビラノビリジン誘導体は抗アレルギー作用を有する化合
物として、またはその製造中間体として有用な本のであ
る。
ビラノビリジン誘導体は抗アレルギー作用を有する化合
物として、またはその製造中間体として有用な本のであ
る。
前記式中、町で示されるアルキル基としては、たとえば
メチル、エチル、プロピル、インプロピル、ブチル、イ
ソブチル、−一プチル、ペンチル基などの炭素数1〜6
の直鎖、妙技アルキル基があげられ、なかでも1〜8の
低級アルキル基が実用上好ましい。これらの置換基は同
一ま九は興りて、7,8.9またけ10位の任意の位置
に1またけ2個置換してもよい。
メチル、エチル、プロピル、インプロピル、ブチル、イ
ソブチル、−一プチル、ペンチル基などの炭素数1〜6
の直鎖、妙技アルキル基があげられ、なかでも1〜8の
低級アルキル基が実用上好ましい。これらの置換基は同
一ま九は興りて、7,8.9またけ10位の任意の位置
に1またけ2個置換してもよい。
また−で示されるカルボキシル基に変えうる基としては
、九とえばニトリル、式−COOR。
、九とえばニトリル、式−COOR。
(R3はアルキル基を表わす)で示されるアルコキシカ
ルボニル、式R4>N−Co−(R,および−は水5 素またはアルキル基を表わす)で示される置換されてい
てもよいカルバモイルなどがあげられJリ−および−の
アルキル基としては置換基R工と同様の4のがあげられ
、表かでも嶽素歇1〜$の低級アルキル基が実用上好ま
しい。
ルボニル、式R4>N−Co−(R,および−は水5 素またはアルキル基を表わす)で示される置換されてい
てもよいカルバモイルなどがあげられJリ−および−の
アルキル基としては置換基R工と同様の4のがあげられ
、表かでも嶽素歇1〜$の低級アルキル基が実用上好ま
しい。
本発明の一般式(I)で示され、−にカルボキシル基に
変えうる基を有する化合物は、たとえば次のような方法
によって製造することができる。
変えうる基を有する化合物は、たとえば次のような方法
によって製造することができる。
すなわち、一般式(N):
〔式中、kおよびmけ前記と同意義を表わす〕で示され
る化合物をアルコールとアルカリ金属とから製したアル
コラード中、マロンジアミドと反応させることKよ抄、
一般式(I−1): 〔式中、Rおよびmは前記と同意義を表わす〕で示され
る化金物が製造される。
る化合物をアルコールとアルカリ金属とから製したアル
コラード中、マロンジアミドと反応させることKよ抄、
一般式(I−1): 〔式中、Rおよびmは前記と同意義を表わす〕で示され
る化金物が製造される。
この反6に用いるアルコールとしては、メタノール、エ
タノール、プロパロノール、イソプロパツール等が、ア
ルカリ金属としてはナトリウム。
タノール、プロパロノール、イソプロパツール等が、ア
ルカリ金属としてはナトリウム。
カリクム、バリクム等が挙げられる。反応は通常O℃か
ら使用したアルコールの沸点で10分から16時W4程
度で行われる。
ら使用したアルコールの沸点で10分から16時W4程
度で行われる。
次いで、一般式(I−1)で示される化合物にオキシハ
ロゲン化リン(P Oxj、1 ) 単独、ih b
イは、五ハロゲン化リン(’PXt;))との混合物を
反応させることによって一般式(I−2):〔式中、R
およびmは前記と同意義を、xFiハロゲンを表わす〕
で示される化合物が製造される。
ロゲン化リン(P Oxj、1 ) 単独、ih b
イは、五ハロゲン化リン(’PXt;))との混合物を
反応させることによって一般式(I−2):〔式中、R
およびmは前記と同意義を、xFiハロゲンを表わす〕
で示される化合物が製造される。
本反応に用いるオキシハロゲン化リンとしては、オキシ
塩化リン、オキシ臭化リン、オキショク化リン等が、5
ハロゲン化リンとしては、6塩化リン、5臭化リン、6
オク化リン吟が挙げられる。
塩化リン、オキシ臭化リン、オキショク化リン等が、5
ハロゲン化リンとしては、6塩化リン、5臭化リン、6
オク化リン吟が挙げられる。
反l15FJ通常、室温から150℃付近で、1時間か
ら、sO時間の条件で実施される。
ら、sO時間の条件で実施される。
かくして得られた一般式(1−fi)の化金物にアンモ
ニアを反応させることによって一般式(l−8): 〔式中、RおよびmFi前記と同意義を表わす〕で示さ
れる化合物が製造される。反応は一般に有機溶媒中単独
または混合溶媒中で行なうのが好ましく、この溶媒とし
ては、たとえば、クロロホルム、ジクロルメタン、1,
2−ジクロルエタン等のハロゲン化p化水素、ベンゼン
、トルエン、石油エーテルなpの炭化水素類、テトラヒ
ドロフラン。
ニアを反応させることによって一般式(l−8): 〔式中、RおよびmFi前記と同意義を表わす〕で示さ
れる化合物が製造される。反応は一般に有機溶媒中単独
または混合溶媒中で行なうのが好ましく、この溶媒とし
ては、たとえば、クロロホルム、ジクロルメタン、1,
2−ジクロルエタン等のハロゲン化p化水素、ベンゼン
、トルエン、石油エーテルなpの炭化水素類、テトラヒ
ドロフラン。
ジオキナン、エチルエーテル、エチレングリコールジメ
チルエーテルなどのエーテル類、アセトニトリル、メタ
ノール、エタノール、プロパツール等のアルコール類な
どが挙げられる。この反応は一般に、 0’〜160’
C付近の温度で、数時間から、2日間程度の条件で実施
される。
チルエーテルなどのエーテル類、アセトニトリル、メタ
ノール、エタノール、プロパツール等のアルコール類な
どが挙げられる。この反応は一般に、 0’〜160’
C付近の温度で、数時間から、2日間程度の条件で実施
される。
また一般式(II−2)の化合物を、触媒および塩基の
存在下、接触還元することKよって一般式%式%): 〔式中、Rおよびmtf前記と同意覇を表わす〕で示さ
れる化合物が製造される。反応は一般に有機溶媒中で行
うのがt+FtL<、この溶媒として、ベンゼン、トル
エン、石油エーテルなどの炭化水素類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、エチルエ−チルなどのエーテル類、
酢酸エチル、酢酸メチル、などのエステル類などが、触
媒としては、酸化白金、パラジクム炭素、ラネーニッケ
ル、IIIIが挙げられる。ま九この反応は塩基存在下
で実施されるのが好ましく、例えば巌陵ナトリクム、炭
酸カリクム、炭酸水素ナトリクム、炭酸水素カリウム9
等のアルカリ金属の塩類、ならびに、)リエチルアミン
、トリブチルアミン等の第8級有機アミン等が挙げられ
る。反応けOoから100℃付近の温度で、数分間から
10時間程度の条件で実施される。
存在下、接触還元することKよって一般式%式%): 〔式中、Rおよびmtf前記と同意覇を表わす〕で示さ
れる化合物が製造される。反応は一般に有機溶媒中で行
うのがt+FtL<、この溶媒として、ベンゼン、トル
エン、石油エーテルなどの炭化水素類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、エチルエ−チルなどのエーテル類、
酢酸エチル、酢酸メチル、などのエステル類などが、触
媒としては、酸化白金、パラジクム炭素、ラネーニッケ
ル、IIIIが挙げられる。ま九この反応は塩基存在下
で実施されるのが好ましく、例えば巌陵ナトリクム、炭
酸カリクム、炭酸水素ナトリクム、炭酸水素カリウム9
等のアルカリ金属の塩類、ならびに、)リエチルアミン
、トリブチルアミン等の第8級有機アミン等が挙げられ
る。反応けOoから100℃付近の温度で、数分間から
10時間程度の条件で実施される。
次に1本発明の一般式(I)で示され、へがカルボキシ
ル基である化合物は、上記のようにして得られた一般式
(I−1)、(II)、(夏−1)、(1−4)等の化
金物を加水分解に付すことKよって製造される。加水分
解の条件としては通常の酸性あるいはアルカリ性加水分
解が用いられる。酸性加水分解の場合には硫酸、塩酸、
リン酸等を過剰に用い、その酸のみで、あるいけ、有機
溶媒たとえばギ酸、酢酸等の有機酸類と共に1通常60
〜150℃付近で加熱することに゛より行なわれる。反
F)は化合物により異るが、通常1時間〜歌日−間程度
である。
ル基である化合物は、上記のようにして得られた一般式
(I−1)、(II)、(夏−1)、(1−4)等の化
金物を加水分解に付すことKよって製造される。加水分
解の条件としては通常の酸性あるいはアルカリ性加水分
解が用いられる。酸性加水分解の場合には硫酸、塩酸、
リン酸等を過剰に用い、その酸のみで、あるいけ、有機
溶媒たとえばギ酸、酢酸等の有機酸類と共に1通常60
〜150℃付近で加熱することに゛より行なわれる。反
F)は化合物により異るが、通常1時間〜歌日−間程度
である。
またアルカリ性加水分解の場合には水酸化ナトリクム、
水酸化カリクム、水酸化パリクム、水酸化力ルシクム、
水酸化リチクム、水酸化テトラメチルアンモニクムなど
を用い、通常60〜120℃程度で行なわれる。この加
水分解反応の溶媒としては反応の障害にならない限り制
限はないが、通常メタノール、エタノール、プロパツー
ル、テトラヒドロ7クン、ジオキサンなどが用いられる
。
水酸化カリクム、水酸化パリクム、水酸化力ルシクム、
水酸化リチクム、水酸化テトラメチルアンモニクムなど
を用い、通常60〜120℃程度で行なわれる。この加
水分解反応の溶媒としては反応の障害にならない限り制
限はないが、通常メタノール、エタノール、プロパツー
ル、テトラヒドロ7クン、ジオキサンなどが用いられる
。
また、かくして得られた一般1式(1−6)〔式中、R
およびmは前記と同意義を表わす〕で示される化合物に
、オキシハロゲン化リン(POx3)単独、あるいは、
5ハロゲン化リン(PI3)との混合物を反応させ、つ
いで、一般式R30H(R3け前記と同意義を表わす)
で示されるアルコールと処理することによって一般式(
1,−6):〔式中、R,R3およびmは前記と同意義
を表わす〕で示される化合物が製造される0反I15に
用いるオキシハロゲン化リンとしては、前記の一般式(
I−2)の化合物を製造する際と同様のものが挙げられ
る。またR30Hで示されるアルコールとしてれる。次
Kかくして得られた一般式(I−6)で示されゐ化合物
を、触媒および塩基存在下、接触還元することにより一
般式(I−7):〔式中、R,R5およ・びmtf前記
と同意義を表わす〕で示される化合物が製°造される。
およびmは前記と同意義を表わす〕で示される化合物に
、オキシハロゲン化リン(POx3)単独、あるいは、
5ハロゲン化リン(PI3)との混合物を反応させ、つ
いで、一般式R30H(R3け前記と同意義を表わす)
で示されるアルコールと処理することによって一般式(
1,−6):〔式中、R,R3およびmは前記と同意義
を表わす〕で示される化合物が製造される0反I15に
用いるオキシハロゲン化リンとしては、前記の一般式(
I−2)の化合物を製造する際と同様のものが挙げられ
る。またR30Hで示されるアルコールとしてれる。次
Kかくして得られた一般式(I−6)で示されゐ化合物
を、触媒および塩基存在下、接触還元することにより一
般式(I−7):〔式中、R,R5およ・びmtf前記
と同意義を表わす〕で示される化合物が製°造される。
本反応は、一般式(I−4)で示される化合物を製造す
る場合と同様な条件で実施することができる。
る場合と同様な条件で実施することができる。
上記のようにして得られた一般式(I−6)及び(I−
7)の化合物は、前記した加水分解に付すことによ抄一
般式(I)で示され、−がカルボキシル基である化合物
を製造することができる。
7)の化合物は、前記した加水分解に付すことによ抄一
般式(I)で示され、−がカルボキシル基である化合物
を製造することができる。
一般式(I)において、R2がカルボキシル基である化
合物は、九とえはエタノールアミン、a−メチルエフエ
Fリン、1−(8,6−シヒドロキシフエニル)−L−
イグプロビルアミノエタノール、イソプロテレノール、
デキストロメトルファン、へトラデン(ジエチルカルバ
マシン)、ジエチルアミン、トリエチルアミン々どの有
機アミン類あるいけたとえば水酸化ナトリクム、水酸化
カリクムなどのアルカリ金属の水酸化物あるいはアンモ
ニアなどと一般式(I)の化合物とをたとえば両者を適
宜の溶媒中で混合、加熱するなどKよリ、対応す”る塩
を作ることができる。
合物は、九とえはエタノールアミン、a−メチルエフエ
Fリン、1−(8,6−シヒドロキシフエニル)−L−
イグプロビルアミノエタノール、イソプロテレノール、
デキストロメトルファン、へトラデン(ジエチルカルバ
マシン)、ジエチルアミン、トリエチルアミン々どの有
機アミン類あるいけたとえば水酸化ナトリクム、水酸化
カリクムなどのアルカリ金属の水酸化物あるいはアンモ
ニアなどと一般式(I)の化合物とをたとえば両者を適
宜の溶媒中で混合、加熱するなどKよリ、対応す”る塩
を作ることができる。
゛ かくして製造−ぎれる一般゛式(I)17cおいて
、R2がカルボキシル基である化合物は抗アレルギー作
用を有し、たとえばアレルギー性喘息、アレルギー性交
フ炎、枯草熱などのアレルギー性疾患の予防、治療剤と
して有用である。
、R2がカルボキシル基である化合物は抗アレルギー作
用を有し、たとえばアレルギー性喘息、アレルギー性交
フ炎、枯草熱などのアレルギー性疾患の予防、治療剤と
して有用である。
一般式(I)の化合物をたとえば前記のアレルギー疾患
の予防、治療剤として用いる場合は、成人投与量として
通常約1〜500岬/日程度゛を錠剤、カプセル剤、散
剤、水剤などiして経口投与するほか、注射剤、噴雪吸
入剤、軟こう剤などの適−の調型で睨与することができ
る。
の予防、治療剤として用いる場合は、成人投与量として
通常約1〜500岬/日程度゛を錠剤、カプセル剤、散
剤、水剤などiして経口投与するほか、注射剤、噴雪吸
入剤、軟こう剤などの適−の調型で睨与することができ
る。
本発明の化合物のマクスに対するLD60値け゛506
■/#以上である。
■/#以上である。
以下、KS実施例を挙げて本発明をよシ具体的に説明す
る。
る。
実施例 1゜
マロンジアミド1.02F、メタノールaOII/の混
合物に28%ナトリクムメトキシド・′メタノール溶液
40dを加え、40′cK加湿する。この溶液に6−エ
チル−4−オキソ−4H−(: 1 )ベンゾビラン−
゛8−カルボニトリル1.99Fを加え、80分間、還
流しながらかきまぜる。今後、析出′。
合物に28%ナトリクムメトキシド・′メタノール溶液
40dを加え、40′cK加湿する。この溶液に6−エ
チル−4−オキソ−4H−(: 1 )ベンゾビラン−
゛8−カルボニトリル1.99Fを加え、80分間、還
流しながらかきまぜる。今後、析出′。
する黄色結晶をP取し、酢酸から再結晶し、9−エチル
−!−ハイドロキシー5−オ+7−5■−〔1〕ベンゾ
ピラノ〔4,8−b)ピリジン−8−カルボキサミドの
結晶をt、o、tp得た。融点〉SOO℃。
−!−ハイドロキシー5−オ+7−5■−〔1〕ベンゾ
ピラノ〔4,8−b)ピリジン−8−カルボキサミドの
結晶をt、o、tp得た。融点〉SOO℃。
同様にして以下の化合物を得た。
(1)2−ハイドロキシ−5−オキソ−5H−(1)ベ
ンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−8−カルボキサミ
ド、融点〉800℃。
ンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−8−カルボキサミ
ド、融点〉800℃。
(2) 2−ハイドロキシ−9−イソプロピル−6−オ
キソ−5H−(1)ベンゾピラノ(4,8−b)ピリジ
ン−8−カルボキサミド、融点>800T:。
キソ−5H−(1)ベンゾピラノ(4,8−b)ピリジ
ン−8−カルボキサミド、融点>800T:。
(3) 7 、9−ジメチル−2−ハイドロキシ−5−
オキソ−5H−(1)ベンゾピラノ(4,8−b)ピリ
ジン−8−カルボキサミド、融点>soo’c。
オキソ−5H−(1)ベンゾピラノ(4,8−b)ピリ
ジン−8−カルボキサミド、融点>soo’c。
実施例 2゜
2−ハイドロキシ−9−イソプロピル−5−オキソ−5
H−(1]ベンゾピラノ(4,9−b)ピリジン−3−
カルボキサミド1.5’F、オキシ塩化・リンBowl
、及び6塩化リン2.8fの混合物を120℃でty゛
時間加熱する。ついで反t511!を滅・圧下オキシ塩
化リンを留去し、残留物をクロロホルムにとかし、水洗
し、クロロホルム層を無水硫酸す゛トリタムで乾燥し、
溶媒を留去、これをクロロホルム溶出剤としてシリカゲ
ルクロマトし、目的物を得、アセトニトリルから再結晶
し、2−りPルー9−イソプロピル−6−オキソ−5H
−CI)”ベンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−8−
カルボニトリルの結晶を0.472fl!#九。融点1
75−177℃。
H−(1]ベンゾピラノ(4,9−b)ピリジン−3−
カルボキサミド1.5’F、オキシ塩化・リンBowl
、及び6塩化リン2.8fの混合物を120℃でty゛
時間加熱する。ついで反t511!を滅・圧下オキシ塩
化リンを留去し、残留物をクロロホルムにとかし、水洗
し、クロロホルム層を無水硫酸す゛トリタムで乾燥し、
溶媒を留去、これをクロロホルム溶出剤としてシリカゲ
ルクロマトし、目的物を得、アセトニトリルから再結晶
し、2−りPルー9−イソプロピル−6−オキソ−5H
−CI)”ベンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−8−
カルボニトリルの結晶を0.472fl!#九。融点1
75−177℃。
実施例 8゜
2−クロル−9−インプロピル−5−オキンー6H−(
1)ベンゾピラノ(”4.8−b)ピリジン−8−カル
ボニトリル0.840FtクロロホルムlG−にとかし
、これに6・%アンモニア・エタノール溶液10−を加
え、還流下、8時間加熱した。反IF5混合物に水を加
え、クロロホルム可溶部のみを集め、ついで、クロロホ
ルムを減圧下溶媒−を留去し、ついで1.アセト−ニト
リルから再結晶して、2−アミノ−9−イソプロピル−
5−オキソ−51−(1)ベンゾピラノ〔4;a−−b
〕ピリジン78−カルボニトリルの結晶を()、817
’Fllた。融点2,78〜275℃、 、 実施例 4゜ 2−クロル−9−イソプロピル−5−オキンー5H−(
1)ペンゾピライ〔4,B−b:+ピリジンー8でカル
ボニトリル0.298f、テトラヒドロ7ラン80d、
596バラジクム4・′炭素8(1w’、・炭酸カーリ
クム0,100Fを加え、常圧下、コ寛温で。
1)ベンゾピラノ(”4.8−b)ピリジン−8−カル
ボニトリル0.840FtクロロホルムlG−にとかし
、これに6・%アンモニア・エタノール溶液10−を加
え、還流下、8時間加熱した。反IF5混合物に水を加
え、クロロホルム可溶部のみを集め、ついで、クロロホ
ルムを減圧下溶媒−を留去し、ついで1.アセト−ニト
リルから再結晶して、2−アミノ−9−イソプロピル−
5−オキソ−51−(1)ベンゾピラノ〔4;a−−b
〕ピリジン78−カルボニトリルの結晶を()、817
’Fllた。融点2,78〜275℃、 、 実施例 4゜ 2−クロル−9−イソプロピル−5−オキンー5H−(
1)ペンゾピライ〔4,B−b:+ピリジンー8でカル
ボニトリル0.298f、テトラヒドロ7ラン80d、
596バラジクム4・′炭素8(1w’、・炭酸カーリ
クム0,100Fを加え、常圧下、コ寛温で。
接触還元し、ついで反応液を一過し、減圧下、溶媒を留
去し、インプロピ、ル、エーテルから再結晶″して、9
−インプロピル二器、=’jキソニ6 H−(,1〕ベ
ンゾピラノC4,l’8〒b〕ピリジン−8−カルボニ
トリルの結晶をO,?、2f得た〇融点 186〜18
8℃。
去し、インプロピ、ル、エーテルから再結晶″して、9
−インプロピル二器、=’jキソニ6 H−(,1〕ベ
ンゾピラノC4,l’8〒b〕ピリジン−8−カルボニ
トリルの結晶をO,?、2f得た〇融点 186〜18
8℃。
実施例5゜
9−エチル−2−ハイドロ干シー5−オキソ−5H−(
1)ベンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−8−力tL
td?キV=ド0.150FK60J硫酸・酢酸(1:
1)溶液7s/l−加え、120’Cで8時間かきまぜ
る。今後、水80−を加え、析出した結晶をpHXシ、
ついで水洗する。これを酢酸から再結晶し、9−エチル
−2−ハイFo+シー5−オキソ−5H−(1)ベンゾ
ピラノ(4,1l−b〕ピリジン−8−カルボン酸の結
晶を0IIF得た。融点〉800℃。
1)ベンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−8−力tL
td?キV=ド0.150FK60J硫酸・酢酸(1:
1)溶液7s/l−加え、120’Cで8時間かきまぜ
る。今後、水80−を加え、析出した結晶をpHXシ、
ついで水洗する。これを酢酸から再結晶し、9−エチル
−2−ハイFo+シー5−オキソ−5H−(1)ベンゾ
ピラノ(4,1l−b〕ピリジン−8−カルボン酸の結
晶を0IIF得た。融点〉800℃。
同様にして以下の化合物を得た。
(1)2−ハイドロキシ−5−オキソ−5H−(1)−
ベンゾピラノ(4,!1−b)ピリジン−3−カルボン
酸 融点〉800℃。
ベンゾピラノ(4,!1−b)ピリジン−3−カルボン
酸 融点〉800℃。
(り !−ハイドロキシー9−イソプロピル−5−オキ
ソ−5H−(1)ベンゾピラノ(,4,8−b)ピリジ
ン−8−カルボン酸 融点 2.94〜296℃。
ソ−5H−(1)ベンゾピラノ(,4,8−b)ピリジ
ン−8−カルボン酸 融点 2.94〜296℃。
(3) 7 、9−ジメチル−2−ハイドロキシ−5−
オキソ−6B−(1)ベンゾピラノ(:4,8−b)ピ
リジン−8−カルボン酸、融点>800T:実施例 6
゜ 9−イソプロピル−5−オキソ−5H−(1)ベンゾピ
ラノ(:4.8−b)ピリジン−8−カルボニトリル0
.25Of、50*ffl酸・酢酸(1:1)溶液IQ
sfとともに、120℃、16時間かきまぜる。今後、
反応波に水811/を加え、析出する結晶をr取し、こ
れをエタノールから再結晶して、9−イソプロピル−5
−オキソ−5H−〔!〕ベンゾピラノ(4,8−b)ピ
リジン−8−カルボン酸の結晶を0.19−OF得た。
オキソ−6B−(1)ベンゾピラノ(:4,8−b)ピ
リジン−8−カルボン酸、融点>800T:実施例 6
゜ 9−イソプロピル−5−オキソ−5H−(1)ベンゾピ
ラノ(:4.8−b)ピリジン−8−カルボニトリル0
.25Of、50*ffl酸・酢酸(1:1)溶液IQ
sfとともに、120℃、16時間かきまぜる。今後、
反応波に水811/を加え、析出する結晶をr取し、こ
れをエタノールから再結晶して、9−イソプロピル−5
−オキソ−5H−〔!〕ベンゾピラノ(4,8−b)ピ
リジン−8−カルボン酸の結晶を0.19−OF得た。
融点 260〜262℃
実施例 7゜
2−アミノ−9−イソプロピル−5−オキソ−6H−(
1)ベンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−8−カルボ
ニトリル0.217jFK50J硫酸・酢酸(1:1)
溶液6−を加え、120℃、4時間かきまぜる。今後、
反応液に水20dを加え析出すゐ結晶をP取し、ジメチ
ルホルムアミドから再結晶し、2−アミノ−9−イソプ
ロピル−6−オキソ−6R−(1)ベンゾピラノ(4,
8−b〕ピリジン−8−カルボン酸の結晶を6.185
F得た。融点 260〜264℃(分解、)実施例 8
゜ 9−エチル−2−ハイドロキシ−6−オキソ−1IH=
(1)ベンゾピラノ(4,8−1s)ピリジン−1−カ
ルボン酸0.270 fに、オキシ塩化リン及び6塩化
リン0.15 fを加え、110℃、16時間かきまぜ
る。反応波を減圧下、オキシ塩化リンを留去し、得たる
残留物にメタノール3−を加え、60℃で10分間、加
熱すると白色沈澱物を得た。これをP取し、ついでシリ
カゲルカラムクロマトに付し、クロロホルム溶出部より
、2−クロル−9−エチル−6−オキソ−5R−(1)
ベンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−8−カルボン酸
メチルエステルを70岬得え。
1)ベンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−8−カルボ
ニトリル0.217jFK50J硫酸・酢酸(1:1)
溶液6−を加え、120℃、4時間かきまぜる。今後、
反応液に水20dを加え析出すゐ結晶をP取し、ジメチ
ルホルムアミドから再結晶し、2−アミノ−9−イソプ
ロピル−6−オキソ−6R−(1)ベンゾピラノ(4,
8−b〕ピリジン−8−カルボン酸の結晶を6.185
F得た。融点 260〜264℃(分解、)実施例 8
゜ 9−エチル−2−ハイドロキシ−6−オキソ−1IH=
(1)ベンゾピラノ(4,8−1s)ピリジン−1−カ
ルボン酸0.270 fに、オキシ塩化リン及び6塩化
リン0.15 fを加え、110℃、16時間かきまぜ
る。反応波を減圧下、オキシ塩化リンを留去し、得たる
残留物にメタノール3−を加え、60℃で10分間、加
熱すると白色沈澱物を得た。これをP取し、ついでシリ
カゲルカラムクロマトに付し、クロロホルム溶出部より
、2−クロル−9−エチル−6−オキソ−5R−(1)
ベンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−8−カルボン酸
メチルエステルを70岬得え。
融点 165〜168℃
同様にして次の化合物を得た。
2−クロル−9−エチル−6−オキソ−5H−(1)ベ
ンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−3−カルボン酸エ
チルエステル。融点136〜188℃爽施例 9゜ 2実施ロル−9−エチル−6−オキソ−5H−〔1〕ベ
ンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−$−カルボン酸エ
チルエステlし0゜1ior、テ)?ヒドロフラン80
w1,5%パラジクム・炭素86岬、炭酸カリウム0.
100Fを加え、常圧下、室温で、接触還元し、ついで
反応液を濾過し、減圧下、溶媒を留去し、9−エチル−
5−オキソ−6H−(1)ベンゾピラノ(4,8−b)
ピリジン−8−カルボン酸エチルエステルの結晶t80
q得た。融点 tSO〜186℃。
ンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−3−カルボン酸エ
チルエステル。融点136〜188℃爽施例 9゜ 2実施ロル−9−エチル−6−オキソ−5H−〔1〕ベ
ンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−$−カルボン酸エ
チルエステlし0゜1ior、テ)?ヒドロフラン80
w1,5%パラジクム・炭素86岬、炭酸カリウム0.
100Fを加え、常圧下、室温で、接触還元し、ついで
反応液を濾過し、減圧下、溶媒を留去し、9−エチル−
5−オキソ−6H−(1)ベンゾピラノ(4,8−b)
ピリジン−8−カルボン酸エチルエステルの結晶t80
q得た。融点 tSO〜186℃。
実施例 10゜
2−クロル−9−エチ4/−5−オキソ−511−(1
)ベンゾピラノ(4,8−b)−ピリジン−8−カルボ
ン酸エチルエステ7E10.180PK50%硫酸・酢
酸(1:1)溶液5dを加え、120℃で10時間かき
まぜる。今後、水を加え、析出する結晶をF取し、水洗
乾燥して、9−エチル−2−ハイドロキシ−5−オキン
ー5H−(1)ベンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−
3−カルボン酸の結晶を得た。66岬、融点>soo’
c。
)ベンゾピラノ(4,8−b)−ピリジン−8−カルボ
ン酸エチルエステ7E10.180PK50%硫酸・酢
酸(1:1)溶液5dを加え、120℃で10時間かき
まぜる。今後、水を加え、析出する結晶をF取し、水洗
乾燥して、9−エチル−2−ハイドロキシ−5−オキン
ー5H−(1)ベンゾピラノ(4,8−b)ピリジン−
3−カルボン酸の結晶を得た。66岬、融点>soo’
c。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 〔式中、Rけアルキル基を、R□は水素、アミ7基、水
酸基またはハロゲンを、R2Fiカルボキシル基または
カルボキシル基に変えうる基を、mけ0,1f九は2を
それぞれ表わす〕で示されるベンゾビラノビリジン誘導
体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15507081A JPS5855488A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | ベンゾピラノピリジン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15507081A JPS5855488A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | ベンゾピラノピリジン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5855488A true JPS5855488A (ja) | 1983-04-01 |
Family
ID=15597996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15507081A Pending JPS5855488A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | ベンゾピラノピリジン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5855488A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014525451A (ja) * | 2011-08-29 | 2014-09-29 | ピーティーシー セラピューティクス, インコーポレイテッド | 抗菌化合物および使用方法 |
WO2023017813A1 (en) * | 2021-08-10 | 2023-02-16 | Ono Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for making an ep4 antagonist |
-
1981
- 1981-09-29 JP JP15507081A patent/JPS5855488A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014525451A (ja) * | 2011-08-29 | 2014-09-29 | ピーティーシー セラピューティクス, インコーポレイテッド | 抗菌化合物および使用方法 |
WO2023017813A1 (en) * | 2021-08-10 | 2023-02-16 | Ono Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for making an ep4 antagonist |
JP2023025693A (ja) * | 2021-08-10 | 2023-02-22 | 小野薬品工業株式会社 | Ep4アンタゴニストの製造方法 |
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