JPS58501361A - 人の頭髪を加熱するための熱処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 人の頭髪を加熱するための熱処理装置 本発明は支持部に固定された複数の赤外線放熱器によって人の頭髪を加熱するた めの熱処理装置に関するものである。

背景技術 熱処理装置には種々の型のものが知られている。たとえばフランス特許明細書第 ９４４６２３号に記載されたものは、地面に支持されたスタンドの３本の相互に 位置変更可能な腕にそれぞれ赤外線ランプが取り付けられている。自由に位置変 更できる開放型の放熱ランプを有する装置は、頭表面全体への均一な照射性に欠 ける。この欠点は位置の調節を個々のランプに実施して頭髪を部分的に過加熱す ることを避けなければならないことになる。さらに既知の熱処理装置として、た とえばフランス特許明細書第９２２１０３号には、赤外線放熱器の固定配置と閉 鎖式反射板ケーシングを有するもので、非常に低い合計熱力で頭髪を照射するの で長い処理時間か必要となる。

上述のような種類の熱処理装置、特に、理髪店における１＜−マ不ントウエーブ 処理、矯正処理、又は乾燥処理用の装置の構成はその操作の簡易化と部分的に過 加熱を生じる危険性を減少する方法でなされることが望まれる。

発明の開示 本発明は弓形状に曲がった実質的に線形状の加熱本体を持った表面加熱器として 構成された少なくさも３個の赤外線ランプか支持アームに取り付けられており、 その支持アームが地面に支持されたスタンド又は壁面取付部に位置変更可能に取 り付けられている加熱装置を提供するものであって、この赤外線放熱器は２個の 側部赤外線放熱器とその上に配置して使用される中央赤外線放熱器からなり、２ 個の側方に配置された赤外線放熱器の中心軸はそれぞれ曲率半径の方向に伸び、 その間に少な（とも８０°の角度をなしている。曲がった線形状の加熱本体の長 さの曲率半径に対する比率は少なくとも０．２である。

開放型の構成をとる利点は頭髪上での操作か照射期間にも実施できることにある 。又、パーマネントウェーブをかけた髪の乾燥の間にもその利点がある。頭髪、 好ましくは頭髪を巻いたカールローラの表面に配置された温度センサーを用いる のがよく、この温度センサーは赤外線放熱器の熱力を制御モジュールによって予 め定められた一定温度に調節する。この制御モジュールは制御盤に位置するのが 好ましい。

熱処理、特に非常に感度のよい頭髪のパーマネントウェーブ処理にとってこの技 術は熱エネルギーとその処理期間に応じてかなり狭い限定を受ける。熱エネルギ ーのバロメータは非常に厳密に温度センサーによって制御された温度調整によっ Ｃ測定できる。本発明の熱処理装置の利点は高度の照射エネルギーでもってすべ ての頭髪部分（首、上類部、側部）の非常に均一な照射にある。

速く適当な方法で化学処理するためには正確に測定した熱供給が非常に有用であ る。これらの処理が熱の付加的な供給なしになされるとき、単に瞬間的な室温が エネルギー供給源として存在するだけである。この室温は（夏、冬、１日の時間 帯に応して）強く変動するので処理時間の正確な表示は不可能である。熱処理装 置によって所定の頭髪温度は室温以上に調整される。薬品調合に均一な反応を得 るために温度は頭髪の各部分にできるだけ均一に保たれなければならない。

製品の化学濃度から出発してさらに加熱手段の種類の最適条件を研究してきた。

製品は非常に高い比率で水を含むので、放射熱源はその最大放射が水の最高吸収 率の位置するところにあるものから選ばれるのが好ましい。この好ましい範囲は ２．３ｕｍ〜２．１ｐｍｚ好ましくは２．５即の範囲に存在することかわかって いる。これらの結果は薄い水層による吸収の理論と明らかに一致する。

本発明のさらに好ましい特徴は従属の特許請求の範囲に記載される通りである。

本発明をさらに添付図面に示される実施例に従って説明する。この図面は一部図 式的に簡略化して熱処理装置の２つの具体例を示す。図面において互いに関連す る部分は同し符号で示し、本発明を理解するのに必要でないものは省略する。

図面の簡単な説明 第１図は側方の赤外線放熱器が（処理される頭部に関連して）上方傾斜位置に回 転されている使用の第１位置にある地面に支持される装置の側面図である。

第２図は同様に使用の第１位置における第１図の矢印Ｘの方向における背面図で ある。

第３図は使用の第１図に示される装置の正面図である。

第４図は第３図の装置の正面図であるが、側方の赤外線放熱器は中央に回転して 休止状態をとっている。

第５図は（処理される頭部に関連して）使用の第１位置における第１図のＡ　− Ａ線における横断面図である。

第６図は（処理される頭部に関連して）中央の赤外線放熱器を通して第３図のＢ −Ｂ線における縦断面図である。

第７図はく処理される頭部に関連して）使用の第１位置における側方赤外線放熱 器を通る第５図のＣ−Ｃ線の縦断面図である。

第８図は第７図に類似する縦断面図であるが、使用の第２状態を示すもので側方 の赤外線放熱器は長髪用に傾斜した位置に回転されている。

第９図は暮かれたカールローラをつけた処理される頭部の背面図であり、光学調 節装置によって頭部に生した正しい位置に対する十字を示しており、同様に頭部 の悪い位置をも示している。

第１０図は第５図に示される制御盤の操作板の拡大図である。

第１１図は第１図に類似する使用の第１状態における第２の具体例の側面図であ るか、壁面支持された装置として構成されている。

発明を実施するための最良の形態 第１図〜第３図に示される熱処理装置はキャスタ（１）上を走る十字型のヘース （２）を有し、任宜に縦方向に位置変更でき、軸を中心として回転できる垂直の 管（３）を支持するスタンドを有するものである。スタンドの管（３）の上端（ ４）には２個のサイトアーム（５）かあり、それぞれ側部の赤外線放熱器（６） を保持している。さらに上端（４）は実質的に水平に突出した支持アーム（７） を有し、そこには実質的に下方に放射する２個の中央赤外線放熱器（９）が取り 付けられている。スタンドの管（３）の上端（４）は赤外線放熱器（６）＜９） から離れた位置に制御パネル（１１）を有する制御盤（１０）を備えている。盤 （１０）に固定された握り（１０ａ）は赤外線放熱器（６）（９）の垂直調整や 回転をなすものである。

制御盤（１０）は柔軟なり−ト線（【３）によって温度センサー（１２）に連結 されてしする。

第１図はカールローラ（１５）に巻いた髪を有する人頭（１４）を示すもので、 この人頭は放熱器＜　６　＞（９＞の放射範囲に位置し、そこから処理状態を見 ることかできる。

ローラ（１５）の１個はクリップ（示されていない）によって巻かれた髪の毛に 接触して温度センサー（１２）を有している。

放熱器（６）（９）と頭（１４）の間の適当な頭部空間を調節するためにスタン ドの管（３）の上端（４）は頭（１４）の位置を固定するための光字調節装置を 有している。それは２個の近接して配置されたプロジェクタランプ（１７）によ って形成されており、そこから２個の交差する光字ヒームか生じ、このヒームの 軸は互いに角度α、好ましくは２４°〜３５°を形成する。ランプ（１７）は頭 （１４）のヘアライン（首の輪郭（１７））の領域に輝く水平線（２０）と垂直 線（２１）を生じ、正しく調節された頭部空間ではそれらははっきりしており、 好ましくは等しいリムを有する十字型（２２）を形成する（第９図参照）。もし 、頭部空間が悪いと、２つの線（２０）と（２２）は第９図に１点鎖線で付加的 に示したように並んで位置する。

側方のアーム（５）はスタンドの管（３）の上端〈４）に連結部（１９）によっ て実質的に垂直軸の周りを回転可能に結合され、その結果、側方放熱器（６）を 持ったアームは休止位置では互いに第４図に示されるように中央の方向へ傾けら れ、使用しないときには熱処理装置によって占める空間を減することかできる。

赤外線放熱器（６）（ｇ）の構成は第３図及び第５図に最もよく示される。放熱 器（６）又は（９）の各々は反射板（２４）の前に配置された石英ガラスの長い 少し曲がった管状の加熱器具（２３）を含むもので、各放熱器＜６）（９）の開 放側は接触から保護するために働く格子（２５）によって覆われている。

第５図は加熱器具（２３）の長さ方向の曲率を明らかにするもので、好ましい曲 率半径Ｒは８００ｍｍである。２個の側方加熱器（６）の各々の中実軸（２６） は互いに主放熱方同を限定している。２個の側方放熱器（６）の中実軸（２６） はその間に１０８°の角度Ｂを有するのか好ましく、各加熱器具（２３）からの 一般的な交屯Ｎ１の距＠Ｓは曲率半径Ｒの約半分である。

各加熱器具（２３）の長さしと曲率半径Ｒの間の比率は少なくとも０．４、好ま しくは０．６である。赤外線放熱器の受ける力が２５０Ｗてあれば有利であり、 各加熱器具（２３）と頭髪又はノノールローラか使用されている場合には各カー ルローラとの間の最少間隔りか曲率半径Ｒの２５〜３０？６であるのか好ましい ことかわかっている。各側方放熱器（６）の長軸は第１図に示されるように水平 線（２９）に関して仰角ρ杓１０〜１２を有する。

第５図はプロジェクタランプ（１７）の光学ヒーム軸（１８）を示すもので、そ の通常の交点が首輪郭（２７）のヘアラインの位置に破線で示されている。

第６図に示される中央赤９ｊ線放熱器（９）の形状は側方赤外線放熱器（６）の 第５図に示される配置に類似する。２個の中央放熱器（９）の中実軸はその間に ６８．５゜の角度γを有し、それぞれ管状加熱器具（２３）から交点Ｐの距離Ｈ か曲率半径Ｒの約半分であるのが好ましい。さらに中央放熱器（９）の下方のも のの中実軸（２８）ａ水平線（２９）が勺の間に約５５°の角度φを有する。そ れによって心地好い頭部位置か座った状態で達成できる。

頭部、又はカールローラか使用される場合にはそれぞれノノールローラから各加 熱器具（２３）の最少間隔りは有力な曲率半径Ｒの２５〜３０Ｑ６であるのか好 ましい。各中央放熱器（９）の反射板（２４）は相対する側壁をもった溝状断面 形状をとるものであり、すなわち断面が好ましくは等しい長さのリムを有し、光 学ビーム軸（１８）に垂直な基盤を有する不等辺四辺形として形成される。それ によって放熱は頭上の一線に沿って集中するこ七なく、頭の表面に可能なかぎり 均一な放射か得られる。

第７図からさらに詳しくわかるように反射板（２４）の半開口角δは約３０°で ある。頭髪、好ましくはカールローラに巻いたものの第１位置、すなわち短い頭 髪に関しては、側方放熱器（６）の各・２の中実軸（２６）か水平線（２９）Ｉ こ関して上方に、好ましくは１０°の角度εをもって傾けられている。長髪の処 理に関しては特に肩までの長さを有する髪に関しては側方放熱器（６）は第８図 に示される。ように第２使用位置に下方へ回転させてもよい。この場合、中実軸 （２６）は水平線（２９）に関して下方に角度λ（好ましくは２０°）だけ傾け られる。したかって側方放熱器（６）の回転角度（ε＋λ）は３０°であるのか 好ましい。

上記した装置によって三種の異なる頭髪処理方法か可能となる。すなわちパーマ ネントウェーブプログラム、矯正染色プログラム及び乾燥プログラムであり、そ の各々を以下に示す。

（ａ）　パーマネントウェーブプログラム第１図に示される制御盤（１１）は底 部右側に数値１〜６を書込むための第１キー面（３９）の６個の押圧キーがある 。このキーはそれぞれ個々の数値に位置決めされ、対応する数値を刻印して操作 側に提供される。５個の異なった数値かそれぞれキーを押すことによって連続し て挿入することができ、連続して挿入された数値は５個の１位の７分割指示器（ ＬＥＤ）（３１）に適当な配置で上方がら底部に下に示される。たとえば第１０ 図では数値１−１−１−１−５が連続して制御盤（１１）に挿入されており、指 示器（３１）にそれに相当する数値か示される。許されない数値が挿入されると 、対応する指示器（３１）はまたたいて選ばれたパーマネントウェーブプログラ ムはブロックされる。−格下の指示器（３１）に調整された数値は（第１０図で は数値５である）頭髪に予め実施されたパーマネントウェーブ処理の種類を示す コードＮｏである。内部のプログラム貯蔵物にこのために貯蔵された処理期間が 続いて三位の７分割指示器（３２）によって示される（たとえば第１Ｏ図では１ ５分の処理期間が示されている）。第２のキー面（３３）のＤによって示された キーの押圧後パーマネントウェーブプログラムはスタートする。残存する処理期 間が指示器（３２）によって示され侶（たとえば実施例の方法で与えられた１５ 分の処理期間は減少カウンタによって１分毎に減少される）パーマネントウェー ブプログラムは残存する処理期間が０として示されたときスイッチか切れる。こ のパーマネントウェーブプログラムの進行する間、側方及び中央の赤外線放熱器 （６）及び（９）は頭髪を加熱し、（カールローラ（１５）によって固定された ）温度センサー（１２）がそこに生じる温度を測定し、加熱器具（２３）の熱力 が内部の制御機構によって好ましくはスイッチのオンオフによって制御される。

４５°〜５５°Ｃ１好ましくは５０°Ｃの範囲の特定温度が温度センサー（１２ ）で調節される。

パーマネントウェーブプログラムの終了後、プログラムによって予め定められた 付加的な処理期間をＮによって示されるキー（３４）を押すことによって選ぶこ とができる。この期間は指示器（３２）によって示される。第２のキー面（３３ ）のＤによって示されるキーの繰り返し押圧によって、そこに構成された減少カ ウンタが始動する。残存する付加的な処理期間が適当に０まて減少カウントされ る。この方法はパーマネントウェーブ処理か完了するまで数回繰り返されてもよ い。使用者が適当なときに加熱期間の終了を認めるこ七ができるように指示器（ ３２）によって示される３分の残存進行速度で数値は瞬きし始め、残存処理期間 が１０秒になる七聴覚ブザーか始動する。通常予め定められた処理期間又は付加 的な処理期間をモニターするためにその数値はＭによって示されるキー（３５） を短時間押すことによって指示器（３２）に短時間示すことができる。さらに制 御盤（１１）はＣによって示されるキー（３６）を備えており、その押圧によっ て進行しているパーマネントウェーブプログラムは停止される。消去可能な貯蔵 内容は消去され、赤外線放熱器＜６＞（９）による加熱もまたスイッチが切られ る。たとえば第１のキー面（３ｏ）のキーによって誤った数値の入力をした場合 、すへての１位の７分割指示器（３１）はＣによって示されるキー（３６）の押 圧によって消去でき、その後、再び正しく入力できる。個々に組み合わせて予め 選ばれたパーマネントウェーブプログラムに対する数値が（詳細には示されてい ないが）登録された面（２７）に配置される。核部（２７）はそれぞれ１位の７ 分割指示器（３１）の近くに配置される。

（ｂ）　矯正及び染色プログラム この場合、染毛の間又は処理エマルションの付与に際して頭髪上の効果は熱の影 響で改良され、特に促進される。この目的には第３のキー面（３９）によって処 理期間かテンスキーとユニットキーを押すことによって調整される（第１０図に はキー＜３９）にそれぞれ■０及びｌが表わされている）。そしてこの処理期間 は指示器（３２）によって示される。対応するキーか押圧されて止とまる長さだ け処理期間の数値のそれぞれ１０位又は１位がゆっくりしたリズムでカウントア ツプされる。第２のキー面（３３）のＦによって表わされるキーの押圧で矯正及 び染色プログラムはスタートする。残存処理期間か０となったとき、時間満了に よってスイッチが切れる。

この場合、頭髪のセンサー（１２）における所定の温度は４０°Ｃが好ましい。

この温度はスイッチ入力期間１３秒とスイッチ切断期間８秒の間のインパルス切 断比率によって赤外線放熱器（ｉｔ）（ｑ＞それぞれに２５０Ｗの熱力て産出さ れるのが好ましい。

このプログラムの終わりの表示はパーマネントウェーブプログラムに類似して効 果的である。

（ｃ）　乾燥プログラム 熱処理装置は濡れた頭髪を乾燥するのに同様に使用できる。この処理期間は第３ のキー面（３９）によって挿入され、第２のキー面（３３）のＴによって示され るキーによって始動される。内部に貯蔵されたプログラムによって赤外線放熱器 はまず最大入力で、好ましくは５分間操作される。その後、熱力は約１５秒間ス イッチ入力し、７秒間スイッチ切断する間のインパルス切断比率によって適当に 減少される。このようなインパルス切断制御はいわゆるトライアック半導体によ る既知の方法か効果的である。処理される人か（図示されていないが）上方の中 央の赤外線放熱器の前方に配置されたスイッチによって好ましくは１０秒間入力 し、９秒間切断する七いううようなインパルス切断比率を有する減少された熱力 にスイッチ転換してもよい。これによって頭髪温度は対応する方法で減少される 。側方放熱器（６）はＴｏによって示されるキー（４０）によってスイッチが切 られる。その結果、中央の赤外線放熱器（９）だけが加熱される。又、別の方法 としてＴｕに示されるキー（４１）を押すことによって中央の放熱器（９）のス イッチが切られ、側方のヒータ（６）だけか加熱されてもよい。このスイッチの オンオフは３種のプログラムいずれにおいても実施されてもよく、処理される人 の髪の結方に応して個ヤに調節できる。

操作方法 頭髪処理される人か、たとえば赤外線放熱器の照射範囲に配置された適当な椅子 に座り、第１図に示されるような位置にあるとする。必要とされる最少空間りは その後、第９図におけるヘアラインの首輪郭（２７）の領域における等しい長さ の十字（２２）を水平線（２０）と垂直線（２１）が形成するような方法でプロ ジェクタランプ（１７）によって調節される。たとえば毛束はカールローラにす でに巻き上げられ、パーマネントウェーブ液で適当に濡らされている。頭髪のケ ラチンの転換工程を促進するために前述のごときパーマネントウェーブプログラ ムがその後開始される。もし、特殊な毛髪の構成、たとえば頭髪が多いのでパー マネントウェーブプログラムによって予め定められた処理期間では不十分な場合 にはこの処理期間はＮ（第１Ｏ図）によって示されるキー（３４）の発動によっ て所定の値に適当に延長される。熱処理装置の取扱者は光学的に、又聴覚的な警 戒信号によって熱処理の終了に気付くことができる。任意的なものであるが、他 の２つのプログラムの一種が上述のごとき方法で対応して開始されてもよい。

第１１図はスタンド式に代えて壁面取付部（４２）が支持アーム（７）を支持し ている熱処理装置の第２例を示す。既知の方法でこの取付部（４２）は壁に取り 付けられたソケット（４３）を有し、そこに上方アーム（４５）が垂直軸（４４ ）の周りを回転可能に担持されており、その他端に下方アーム（４９）が垂直軸 （４６）の周りを任意に回転可能であり、かつ水平軸（４７）の周りを垂直に枢 軸回転するように配置されている。下方アーム（４９）の他端には突出部（５１ ）か平行移動ガイドによって水平軸（５０）の周りに関節接合されており、任意 に水平に回転可能な支持アーム（７）を支えている。

それによって赤外線放熱器（６）及び（９）は握り（１０ａ）によって既知の方 法で予め定められた最少空間りで処理される頭部（１４）に関して所望の位置に 調節できる。

さらなる具体例（示されていないか）では２個のプロジェクタランプ（１７）を もった光学調節装置の代わりに多種の、たとえば機械的な空間調節装置が赤外線 放熱器（６）及び（９）から頭部（１４）の空間を調節するのに使用されてもよ い。

Ｆｉｇ、　１ −５フユ 旦咲見 国際調査報告

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．支持部（７）、該支持部（７）に取り付けられた２個の側方放熱器（６）及 び該支持部（７）の側方放熱器〈６〉上方に取り付けられた、少なくとも１個の 中央放熱器（９）を有するものであって、各放熱器（６）（９＞が弓状の線形加 熱器具（２３）を含み、器具（２３）の長さＬとその曲率半径Ｒの比率が少なく とも０．２であり、側方放熱器（６）の中実軸（２６）がその間に少なくとも８ ０°の角度Ｂを有することを特徴とする人の頭髪を加熱するための熱処理装置。 ２．２個の中央赤外線放熱器（９）か存在し、それらの放射中実軸（２８）か少 なくとも４５°の角度γを有することを特徴とする請求の範囲第１項に記載の装 置。 ３．２個の中央放熱器（９）の下方の放射中実軸（２８）が水平軸線（２９）と 少なくとも３０°の角度φを作ることを特徴とする請求の範囲第２項に記載の装 置。 ４、側方放熱器（９）の放射中実軸（２６）かその間に少なくとも１００°の角 度Ｂを有することを特徴とする請求の範囲第１項記載の装置。 ５、側方放熱器（６）の各々の長方軸が水平軸（２９）と少なくとも５°の仰角 ρを形成することを特徴とする請求の範囲第１項に記載の装置。 ６、側方放熱器（６）の中実軸（２６）か上方に傾いていることを特徴とする請 求の範囲第１項記載の装置。 ７、側方放熱器（６）かそれらの放射中実軸（２６）が上方に傾いている第１位 置から該軸（２６）が下方に傾いている第２軸まで少なくとも１５°の角度（ε ＋λ）をとっていることを特徴とする請求の範囲第１項記載の装置。 ８、側方放熱器（６）が支持部（７）に近接して位置する接合部（１９）によっ て互いに使用位置から少なくとも１個の中央放熱器の下の休止位置まで実質的に 垂直軸の周りを回転可能であることを特徴とする請求の範囲第１項記載の装置。 ９、各放熱器（６）（９）か相対する側壁を持ったチャンネル構造を形成する反 射板〈２４）を有することを特徴とする請求の範囲第１項記載の装置。 １０、側壁かその間に６０°の角度（２δ）を有することを特徴とする請求の範 囲第９項の装置。 比さらに放熱器（６）（９＞に関して頭髪の外側の輪郭の適当な位置を位置決め するための装置を含むこ七を特徴とする請求の範囲第１項記載の装置。 １２、位置決め装置が光学的な装置を含むことを特徴とする請求の範囲第１１項 記載の装置。 １３、光学装置か交差するヒームを生しる２個のプロジェクタランプ（１７）を 有し、このヒームか頭髪の外側の輪郭か適当な位置にあるときに、首に鮮やかに 再生された十字（２０）を形成することを特徴とする請求の範囲第１２項記載の 装置。 １４、各加熱器具か石英ガラス管（２３）を有し、６００〜１０００ｍｍの曲率 半径Ｒを有することを特徴とする請求の範囲第１項記載の装置。 １５、側方放熱器（６）又は中央放熱器（９）の主放射方向く２６）又は（２Ｂ ）の一般的な交点Ｍ又はＰからそれぞれ加熱器具（２３）までの距離Ｓ又はＨか 主放熱方向で測定されたそれぞれの中央の曲率半径Ｒの３０〜７０％であること を特徴とする請求の範囲第１項記載の装置。 １６各加熱器具（２３）の長さしか主放熱方向で測定された曲率半径Ｒの少なく とも３０′？ｂ、好ましくは３７〜５７？ｏであることを特徴とする請求の範囲 第１項記載の装置。 １７、さらに頭髪に取り付けられる温度センサー（１２）及びこの温度センサー （１２）に結合され、放熱器（６）（９）の熱力を調節して所定の一定温度に保 つようにする制御モジュールを含むことを特徴とする請求の範囲第１項記載の装 置。 １８、温度センサーか合成樹脂′Ｔ−シングに埋め込まれたＮＴＣレジスタを有 し、その取付手段かカールローラ（１５）上に巻かれた髪と直接接触してそれを 保つようなケーシングに設けられていることを特徴とする請求の範囲第１７項記 載の装置。 １９、加熱器具（２３）の熱力の制御をマイクロプロセッサによって制御する調 整モジュールを有する制御盤＜１１＞を有することを特徴とする請求の範囲第１ 項記載の装置。 ２０、加熱電流のインパルス間隔比率としてトライアック半導体によって熱力か 制御されることを特徴とする請求の範囲第１９項記載の装置。 ２１、放熱器（６）（９）によって生しる赤外線放射か２．３〜２．７日ｍの波 長を有することを特徴とする請求の範囲第１項記載の装置。 ２２、支持部が位置変更可能に取り付けられたアーム（７）を有することを特徴 とする請求の範囲第１項記載の装置。