JPS58501335A - 物体の表面および内部組織を解析する方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は物体の表面および内部組織を解析する方法および装置に関する。

製造管理および製品検査の目的でしばしば材料厚みの測定および固体の表面また は内部組織たとえば内部の孔または気泡の確認が必要である。

表面組織の測定および透明材料からなる物体の監視のため光学的測定法および試 験法が用いられる。物体表面下の組織の試験および無接触厚み測定には被検物体 が不透明材料たとえば金属または半導体からなる物体の場合、大きい費用を要す る。このような試験には現在まで多くは超音波法またはＸ線法が使用された。

超音波法の作業は無接触に行われないので、この方法は運動する部材の直接的、 連続的試験声とえば圧蕉板の試験には適さない。Ｘ線法は材料との接触を必要と しないけれど、界面組織の認識には限定的にしか適用できない。

材料表面より内部の組織も認識するために使用されるいわゆる光−音響法で作業 する装置もすでに提案されている。光−音響法の場合、強度変調した光線によっ て被検固体の表面に吸収に基〈周期的熱供給のため局部的温度変調が発生し、こ の変調の振幅および位相位置は固体内部の熱導出に依存する。

固体を気密に閉鎖し友室内に配置すれば、その温度変調を室内に配置したマイク ロホンにより測定することができる。固体の温度変調はその伸びの変調と関連す るので、被検物体と固定的に結合したピエゾ電気受信器によって温度変調を測定 すること本できる。この原理により動作する光−音響顕微鏡は米国特許第４２５ ５９７１号明細書から公知である。この顕微鏡は固定的光線に対して摺動する被 検物体の像を得るために使用される。

光−音響法で信号を発生する両方の公知法の場合、測定信号の位相を介して被検 物体の内部組織を結像することができる。

光−音響法により測定信号全発生する公知法の場合、本来の測定または結像が光 線の熱的浸透深さによって制限される非常に小さい深さ範囲に限定されることは 容易に明らかである。熱的浸透深さはたとえば被検物体がアルミニウム、光線の 変調周波数が２０１１１ｚの場合僅か０．１２ｃＩＩ＆である。さらにこの方法 は受信器と被検物体の物理的接触全必要とするので、小物体の測定に制限される 。

本発明の目的は寸法の大きい物体および運動する部材でも表面および内部組織の 解析を、検出可能の深さ範囲が変調した励起ビームの熱的浸透深さによって制限 されずに、可能にする光−音響法を得ることであるこの目的は被検物体を変調お よび集束した励起ビームによって走査し、その際局部的に誘起され友物体の温度 変調を測定する公知法から出発して、入射する励起ビームと反対側の物体面でこ の物体から出る変調された赤外線を測定することによって解決される。すなわち 透過した熱波のみが検出される。この熱波によって発生した信号は交流信号とし て存在し、簡単に電子的に処理することができる。

励起ビームは電磁放射線たとえば光線、電子またはイオンからなることができる 。いずれの場合も被検物体によって吸収される電磁放射線ま窺は粒子線が使用さ れる。物体を透過し友赤外線の測定に使用する検出器はブランク函数の最大で動 作するように選択される。この最大は友とえば温度３００’　Ｋの物体では約９ μｍである。この波長は被検物体の温度が高いほど短くなる。

励起ビームの方向の被検物体の拡がりすなわち材料の厚みは本発明の方法の場合 、励起ビームの熱的浸透、−深さによって制限されない。この厚みは数寵たとえ ば一’７または８Ｍであり、励起ビーム源の出力、赤外線検出器の感度、被検物 体の材料および所要の信号感度に依存する。

方法の実際的適用とくに金属および半導体のような不透明材料の検査には測定信 号の位相角と材料厚みの間の直線的関係および振幅と材料厚みの関係に関する指 数法則が利用される。

測定信号の位相および振幅を含む種々の関係を利用することによって、被検物体 の光および熱に対する性質を識別することができる。位相位置は走時時間遅延の 信号として発生するので、この測定は厚み決定に連載部材の孔はこの孔があとか ら周囲の材料で充てんされた場合にも識別することができる。

測定信号の振幅はとくに物体の表面近くの組織を試験するタヤニ使用される。物 体から出る熱波の視差効果を利用して組織の深さ位置を決定することもてきる、 ３視差効果は振幅測定の場合でも位相角測定の場合でも利用することができる。

励起ビームが被検物体上で走査運動する間、振動運動を重ねて局部的に変調する のはとぐに有利である。

この変調はビームの走査方向と垂直ま友は平行に直線的に行われる。しかし励起 ビームをダ円または円形に導くこともできる。このような変調の場合揚動運動方 向に沿った信号変化のみが記録される。信号の勾配の振動運動方向と平行の成分 が得られる。ビームを円変調する場合、得られる信号の交流成分は勾配の大きさ に比例する。

前記位置変調によって組織の結像コントラストを増大することができる。振動方 向の選択［↓ってその方向と垂直方向の組織をとくに明らかＶＣ認めることがで きる。

本発明の方法を実施する装置の形成は請求の範囲第５項〜第１２項から明らかで ある。

次に本発明を第１〜５図により詳細に説明する。

第１図は本発明の方法による厚み測定装置の実施例第２図は被検物体の厚みと測 定信号の振幅および位相との関係曲線、 第３図は断面で示す物体を透過した熱信号の位相角および振幅の経過金示す第１ 図装置でめた測定曲線第４図は物体の顕微鏡像全得る装置の実施例、第５図は位 置変調の際の励起ビームの２つの走査軌道の拡大図である。

第１図装置の場合、レー４１から発生した走査ビーム２はチョッＡ　３　Ｋよっ て強度変調され、略示された光学系４によって被検物体０の表面に結像する１、 被検物体は送り装置５により矢印９で示す横方向に摺動可能である。図示の被検 物体６はたとえば厚み測定の際の較正に使用されるアルミニウムクサビである。

被検物体６の後方に像仕切絞９７が配置される。絞りを通って射出する赤外線は 赤外線検出器８へ入射し、そのの信号はロック−イン増幅器１０に送られる。測 定信号は増幅器１０から表示装置１１に達し、この表示装置に送り装置５から被 検物体６の摺動運動に比例する号と被検物体６の位置の関係を示す曲線が現われ る。

第１図の実施例には励起ビーム２０発生源としてレ−ｖ′ｌが示される。レーデ はたとえばアルゴンイオンレーザとし、て形成され、ビーム２を発生し、このビ ームは集束前に５０　ｍＷの出方を有する。光学要素４による集束に↓って被検 物体６へのビーム入射点［１０たとえばアルミニウムの被検物体で７〜δ。の深 さまで達する測定を実施する１こめに十分である。

第１図の装置によってビーム２の種々の変調周波数における被検物体６の厚みｄ と振幅Ａおよび位相角ψとの関係金示す第２図の較正曲線が得られる。

第１図の装置は被検物体６全通過した熱線の振幅Ａも位相角Ｔも測定しうるよつ に形成される。この測定から第２図の較正曲線により被検物体６の厚みを決定す ることができる。被検物体は不透明材料たとえば金属または半導体からなってよ い、被検物体６は生物学的試料でもよい５゜ 第１図の装置で被検物体６の代りに既知厚みの物体を使用すれば、検出器８が発 する信号によりレーザ１の出力を簡単かつ明りように摺電することができる。

赤外線検出器８としてはほぼすべての公知検出器を使用することができる。室温 の被検物体で約６〜９μｍであるブランク函数の最大で測定される。可能な赤外 線検出器としてザーレイセル、２０メータまたはＨｇ−Ｃｃｌ　−’ｌ’ｅ　検 出器が使用される。

１１ｇ３図の下部にはたとえば金属からなる内部に２つの平行パイプ１３を含む 被検物体１２が示される。七６の代りに走査ビーム２全通して動かす場合、表示 装置１１が測定信号の振幅を示すように検出部が形成されていれば、第３図の上 部に示す曲線１５が得られる。表示装置１１が位相角９５を示すように検出部が 形成されていれば曲線１６が得られる。

曲！１５は振幅が実集的に被検物体１２０表面組織に応答することを示し、被検 物体内部の組織はほぼ曲線１６に示す位相角のみで示される。それゆえ物体の内 部組織を測定するには位相角９金利用するのが望ましい。

第４図に示す実施例の場合、レー４２１から発するヒ−Ａ　２２　ｒ４　＋　ヨ ツ、Ｊ！２３により強度変調され、ミラー２７および２８を介して略示された光 学系２４に達し、この光学系によりビーム２２は固定配置の被検物体２６の表面 に集束される。ミラー２７および２８は偏向装置２９および３０を介して励起ビ ーム２２が被検物体２６の所定の表面範囲をジグザグに走査するように動かされ る。

の分別器により被検物体２６０表面によって反射された光線は観１！ＩＩＩ装＠ １７に導かれる。この装置はたとええば望遠賃として形底され、観測者は連続的 に被検物体２６に励起ビーム２２が当る点全観測することができる。

検物体２６を透過する熱波によって誘起された赤外＃３１は凹面ドラ−２２を介 して検出器３３に集束する。ここには同様はぼすべての公知赤外線検出器全使用 することができる。検出器３３〃・ら発生し友信号はロック−イン増幅器３４に 送られ、この増幅器は復調した信号を表示装置３５に送る。この表示装置２９お よび３０からミラー２７および２δの偏向に比例する信号が送仁れ２゜したがっ て表示装置３５により被検物体２６の顕微鏡像を示すことができる。

表示のため赤外線３１の振＠全使用する場合、表示装置３５は被検物体２６の表 面に近い範囲の組織像金示す。これに反し位相角ψを表示に使用すれば、被検物 体２６の深い範囲の組織像が得’ｍｎる。

。これから発する信号は表示装置３７に送られ、この装置には偏向装置２９およ び３０の偏向電圧も送られる。したがって表示装置：ｔＩ７は被検物体２６の表 面の光学＠！全示し、この像はたとえば参照目的で表示装置３５の像に重ねるこ とができる。

第４図に示す装置は集積回路またはその半導体組織全検査する念めとくに有利に 使用される。その際被検物体２６の内部組織の明らかな表示を得る九め、測定信 号の勾配のみを表示するのが適当である。この目的で装置３８を介して・偏向信 号を発生させ、この信号を偏向装置２９お工び３０に重ねる。この重なった偏向 電圧′でより１つの座標方向におけるビームの走査運動差９゛０°　のほぼサイ ン形の２つの偏向信号を発する場合、ビーム２２の走査運動にたとえば第５図＆ に示すような走査軌跡を生ずるような円振動運動が重ねられる。装置３８の２つ のサイン形電圧の娠幅を異ならせ、走査ビーム２のダ円振動を得ることも可能で あり、多くの場合有利である。

第５図方式の装置による測定によって組織像の約２μｍの位置分解が可能であっ た。

ビーム２２を位置変調する場合、通常チョツ・に２２に；る強度変調は不用であ るっしかし場合にＬりたとえば深さ情報を得るため２つの変調を組合わせるのが 有利である。

ビーム２２全位置変調する場合、表示装置３５にコントラストに富む顕微鏡像が 得られ、この像は迅速解析ま交は組織認識の自動化に利用することもできる。

第４図の装置の実施例による本発明の方法は薄板の国際調査報告

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．被検物体を集束および変調した励起ビームによって走査し、その際局部的に 誘起され次物体の温度変調を測定する、物体の表面および深部の組織を解析する 方法に′Ｍ％／−ｈて、物体の励起ビームが当る側と反対側で物体から出る変調 された赤外ａｔ−濶定することｔ−特徴とする物体の表面および深部の組織を解 析する方法。 ２　励起ビームを線形または円形に位置変調することを特徴とする請求の範囲ｇ Ｍ１項記載の方法。 ＆　物体の厚みまたは組織の九めの測定値として熱による熱信号の位相角を使用 することを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載の方法。 先　物体の表面組織を試験するため、熱の交流信号の振幅ｔ−測測定よび（ま友 は）記録することを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載の方法。 ５、　熱の交流信号のセンサとして赤外線検出器（８゜３３）を物体（６，２６ ）から空間的に離して励起ビーム（２，２２）と反対側に配置しであることを特 徴とする請求の範囲第１項記載の方法を実施する装置。 α　被検物体（２６）と赤外線検出器（３３）の間に赤外ａｔ検出器（３３）へ 集束する凹面ミラー（：！Ｌ２）が配置されていることを特徴とする請求の範囲 第５項記載の装置。 ７、物体（２６）を直角座標系内で走査するため２つの可動ミラー（２７，２８ ）が走査ビーム（２２）の発生源（２１）と物体（２６）の間に配置され、赤外 線検出器（３３）が物体座標に応じて熱の交流信号を表示する装置ｔ（３４，３ ５）と結合１−ていることを特徴とする請求の範囲第５項！！文は第６項記載の 装置。 ８．２つのミラー（２７，２８）が線形偏向信号全発生する装置（２９，３０） および付刃的に位置変調信号を卑生ずる装置（３δ）と結合していること全特徴 とする請求の範囲第７項記載の装置。 ９、走査ビーム（２２）が物体（２６）の表面に当る点を監視するため、走査ビ ーム路（２２）内にビーム分割器（２５）および偏向された部分ビーム路内に望 遠ｆｉｌ（１７）が配置されていることを特徴とする請求の範囲第７項記載の装 置。 １０、被検物体（２６）の表面組織を観測する九め走査ビーム路（２２）内にビ ーム分割器（２５）およびこれによって偏向された部分ビーム路内に光電検出器 （３６）が配置され、この検出器が像を表示する装置（３７）と結合しているこ とを特徴とする請求の範囲第７項記載の装置。 １１、赤外線検出器（８）の前に像を仕切る絞り（７）が配置されていることを 特徴とする請求の範囲第５項記載の装置。 １２物体（６）が励起ビーム（２）の焦点面内で固定的ビーム路を横切って摺動 可能であることを特徴とする請求の範囲第５項または第１０項記載の装置。 １３、半導体とぐに集積回路の試験に使用することを特徴とする請求の範囲第７ 項〜第１０項の１つに配賦の装置。 １４、薄板の溶接シームの検査に使用すること全特徴とする請求の範囲第７項〜 第１０項の１つに記載の装置。 １５、走査ビーム（１，２１）の出力測定および（または）出力側ｍＫ使用する ことを特徴とする請求の範囲第５項〜第１２項の１っに記載の装置。