JPS584764A - 2−アルキルピロ−ルの製造方法 - Google Patents
2−アルキルピロ−ルの製造方法Info
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- JPS584764A JPS584764A JP57094658A JP9465882A JPS584764A JP S584764 A JPS584764 A JP S584764A JP 57094658 A JP57094658 A JP 57094658A JP 9465882 A JP9465882 A JP 9465882A JP S584764 A JPS584764 A JP S584764A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- TVCXVUHHCUYLGX-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpyrrole Chemical compound CC1=CC=CN1 TVCXVUHHCUYLGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 8
- 229940058352 levulinate Drugs 0.000 description 7
- -1 levulinate nitrile Chemical class 0.000 description 7
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- JFVBCXHSPKJLRP-UHFFFAOYSA-N 4-oxopentanenitrile Chemical compound CC(=O)CCC#N JFVBCXHSPKJLRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D207/32—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/323—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atoms
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Pyrrole Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
関する。特に、この化合物は塗料工業や農薬の製造にと
って重要である。
って重要である。
高圧下水素を用いてレブリン酸二トリルの液相接触還元
によって10〜20チの収率で2−メチルピロールを製
造することは公知である(西ドイツ特許第6 9 9,
0 3 2号公報参照)。この反応では、2−メチル
ピロールのほかに、2−メチルピロールよシ高い収率で
2−メチルピロリドンが形成する。2−メチルピロール
の製造には従ってこの方法は適切でない。というのは、
収率がかなり低い上に、極めて高い水素圧力を適用しな
ければなら々いからである。
によって10〜20チの収率で2−メチルピロールを製
造することは公知である(西ドイツ特許第6 9 9,
0 3 2号公報参照)。この反応では、2−メチル
ピロールのほかに、2−メチルピロールよシ高い収率で
2−メチルピロリドンが形成する。2−メチルピロール
の製造には従ってこの方法は適切でない。というのは、
収率がかなり低い上に、極めて高い水素圧力を適用しな
ければなら々いからである。
さて、上記公知方法よジも相当低い水素圧力を適用して
も、2−メチルピロールやその他の2−アルキルビロー
ルを高収率で製造できる方法が見出された。
も、2−メチルピロールやその他の2−アルキルビロー
ルを高収率で製造できる方法が見出された。
本発明によれば、2−アルキルビロールの製造方法の特
徴は、水素の存在下気相で次の一般式I: R。
徴は、水素の存在下気相で次の一般式I: R。
C=0
ーCーH
■
ーCーH
CミN
式1
(式中、R1は炭素原子数1〜3個のアルキル基を表わ
し、そして2つのRはそれぞれ独立して水素原子か炭素
原子数1〜2のアルキル基を表わす)で示される4−オ
キソアルカンニトリルをメンデレフエの元素周期表の第
■■族または第1B族の金属または該金属の化合物を含
む触媒に接触させて、次の一般式■: 式2 (式中、R1及び2つのRの意味は前記に準じる)で示
される2−アルキルビロールを含む反応混合物を形成す
る点にある。
し、そして2つのRはそれぞれ独立して水素原子か炭素
原子数1〜2のアルキル基を表わす)で示される4−オ
キソアルカンニトリルをメンデレフエの元素周期表の第
■■族または第1B族の金属または該金属の化合物を含
む触媒に接触させて、次の一般式■: 式2 (式中、R1及び2つのRの意味は前記に準じる)で示
される2−アルキルビロールを含む反応混合物を形成す
る点にある。
本発明方法を適用する場合、レブリン酸二トリルを出発
物質として使用すると、2−メチルピロールが得られる
。例えば、出発化合物として2,3−ジメチル−4−オ
キソベンタンニトリルを使用すれは、2,3.4 −
)リメチルピロールが生成する。
物質として使用すると、2−メチルピロールが得られる
。例えば、出発化合物として2,3−ジメチル−4−オ
キソベンタンニトリルを使用すれは、2,3.4 −
)リメチルピロールが生成する。
白金、パラジウム及びロジウムからなる群からの金属ま
たはこの金属の化合物を含有する触媒を使用するのが好
適である。
たはこの金属の化合物を含有する触媒を使用するのが好
適である。
触媒は例えば活性炭、グラファイト、酸化ケイ素、酸化
亜鉛、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムやこれらの
混合物などの担体に担持てきる。特に好適な担体は酸化
アルミニウムである。促進剤も同様に触媒に添加できる
。この促進剤としては、アルカリ金属が好適である。
亜鉛、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムやこれらの
混合物などの担体に担持てきる。特に好適な担体は酸化
アルミニウムである。促進剤も同様に触媒に添加できる
。この促進剤としては、アルカリ金属が好適である。
本発明の方法は種々の温度例えば150〜350℃で実
施できる。好適な温度は175〜300℃の範囲にある
温度である。触媒の担持量は(担体を含む触媒物質の全
量に基すき、金属として計算して)01〜30重量%で
ある。
施できる。好適な温度は175〜300℃の範囲にある
温度である。触媒の担持量は(担体を含む触媒物質の全
量に基すき、金属として計算して)01〜30重量%で
ある。
本発明の方法は公知の気相接触反応方法に従って、例え
ば必要に応じてチッ素々どの不活性ガスで希釈した、ガ
ス状出発物質を水素と一緒に、例えば触媒(かさ容量)
1 ml当り出発物質0、06〜297時間の空間速
度で触媒の固定床に通せば実施できる。
ば必要に応じてチッ素々どの不活性ガスで希釈した、ガ
ス状出発物質を水素と一緒に、例えば触媒(かさ容量)
1 ml当り出発物質0、06〜297時間の空間速
度で触媒の固定床に通せば実施できる。
本発明による方法は水素の量を変えて、例えば出発物質
1モルについて1〜50モルのtを用いて実施できる。
1モルについて1〜50モルのtを用いて実施できる。
出発物質1モルにつき50モル以上の水素も使用できる
が、これといった長所はない。
が、これといった長所はない。
本発明方法に適用する4−オキソアルカンニトリルは公
知な方法で、例えばシアン化水素とα−β−不飽和ケト
ンを反応させると作ることができる( Methode
n der Qrganischen ChemieH
OUBEN−WEYL互pp、272−274参照)。
知な方法で、例えばシアン化水素とα−β−不飽和ケト
ンを反応させると作ることができる( Methode
n der Qrganischen ChemieH
OUBEN−WEYL互pp、272−274参照)。
本発明方法で得たガス状反応混合を冷却すると、凝縮物
と水素含有ガスに分離でき、とのガxは再循mできる。
と水素含有ガスに分離でき、とのガxは再循mできる。
2−アルキルピロールのほかに、この凝縮物は少量の次
の一般式I■:式3 (式中、R7及びRの意味は前に説明した通シである)
で示される対応する5−アルキルピロリドン−2を含ん
でいる。ただし、これはレブリン酸ニトリルを出発化合
物として用いた場合である。得られた凝縮物は例えば分
留によって分離できる。
の一般式I■:式3 (式中、R7及びRの意味は前に説明した通シである)
で示される対応する5−アルキルピロリドン−2を含ん
でいる。ただし、これはレブリン酸ニトリルを出発化合
物として用いた場合である。得られた凝縮物は例えば分
留によって分離できる。
以下実施例によって本発明を説明する。
実施例1
25 ml (かさ容量)の触媒域を有する(直径18
mm、長さ4oomm)垂直管状反応器の頂部から底部
に大気圧でろ5時間レブリン酸ニトリルと水素の気体状
混合物を通す。
mm、長さ4oomm)垂直管状反応器の頂部から底部
に大気圧でろ5時間レブリン酸ニトリルと水素の気体状
混合物を通す。
触媒は底部で10m1の不活性セラミック材域で、そし
て頂部で100m1の不活性セラミック材域で仕切っで
ある。触媒としては、シリカゲルに担持したニッケル(
Ni:10重t%、:[(、oudrytype H1
170、かさ密度0.6 gl ml )を使用する。
て頂部で100m1の不活性セラミック材域で仕切っで
ある。触媒としては、シリカゲルに担持したニッケル(
Ni:10重t%、:[(、oudrytype H1
170、かさ密度0.6 gl ml )を使用する。
液状レブリン酸ニトリル及び蒸気と水素の混合物を蒸発
させると、気体状混合物が得られる。
させると、気体状混合物が得られる。
触媒(かさ容量) 1 mlにつき02g/時間のレブ
リン酸ニトリルを供給する。反応器の周囲に設けた加熱
ジャケットによって触媒の温度を250℃に保持する。
リン酸ニトリルを供給する。反応器の周囲に設けた加熱
ジャケットによって触媒の温度を250℃に保持する。
得られた気体状の反応混合物を0℃に冷却されている小
さな容器に通し、この過程で得られた凝縮物をガスクロ
マトグラフィーによって分析して該混合物の組成を求め
る。この分析結果とレブリン酸ニトリルの転化量から、
該ニトリルの転化率及び2−メチルピロール及び5−メ
チルピロリドン−2の収率を計算できる。
さな容器に通し、この過程で得られた凝縮物をガスクロ
マトグラフィーによって分析して該混合物の組成を求め
る。この分析結果とレブリン酸ニトリルの転化量から、
該ニトリルの転化率及び2−メチルピロール及び5−メ
チルピロリドン−2の収率を計算できる。
転化率とは、レブリン酸ニトリルの転化量にトリル供給
量−凝縮物のニトリル量)のことであって、単位は供給
二) IJル量の百分率である。
量−凝縮物のニトリル量)のことであって、単位は供給
二) IJル量の百分率である。
2−メチルピロール及び5−メチルピロリドン−2の収
率はそれぞれ凝縮物中の2−メチルピロール及び5−メ
チルピロリドン−2の量であり、単位はニトリルの転化
量から理論的に形成すると考えられる2−メチルピロー
ル及び5−メチルピロリドン−2/の量の百分率である
。
率はそれぞれ凝縮物中の2−メチルピロール及び5−メ
チルピロリドン−2の量であり、単位はニトリルの転化
量から理論的に形成すると考えられる2−メチルピロー
ル及び5−メチルピロリドン−2/の量の百分率である
。
転化率は98.9%である。2−メチルピロール及び5
−メチルピロリドン−2の収率はそれぞれ61.5%及
び2.9%である。
−メチルピロリドン−2の収率はそれぞれ61.5%及
び2.9%である。
実施例■
触媒としてγ−酸化アルミニウムに担持したパラジウム
及びナトリウム(pd:0.5重量%、Na:、0.4
重量%)を使用して実施例Iを反復する。
及びナトリウム(pd:0.5重量%、Na:、0.4
重量%)を使用して実施例Iを反復する。
転化率は95.5%である。2−メチルピロール及び5
−メチルピロリドン−2の収率はそれぞれ788チ及び
13.4 % テある。
−メチルピロリドン−2の収率はそれぞれ788チ及び
13.4 % テある。
実施例■
触媒として酸化亜鉛及びγ−酸化アルミニウムに担体し
た酸化銅(Cub:30重量%、ZuO:55重量%)
を使用して、実施例■を反復する。
た酸化銅(Cub:30重量%、ZuO:55重量%)
を使用して、実施例■を反復する。
転化率は635%である。2−メチルピロール及び5−
メチルピロリドン−2の収率はそれぞれ29%及び21
6%である。
メチルピロリドン−2の収率はそれぞれ29%及び21
6%である。
実施例■
触媒としてγ−酸化アルミニウムに担持したパラジウム
及びナトリウム(pd : 0.5重量%、Na :
0.4重量%)を使用し、そして出発化合物として2,
3−ジメチル−4−オキソペンタンニトリルを使用して
実施例Iを反復する。転化率は915係である。2,3
.4− )リメチルピロール及び3,4.5− )リメ
チルビロリドン−2の収率はそれぞれ613%及び75
%である。
及びナトリウム(pd : 0.5重量%、Na :
0.4重量%)を使用し、そして出発化合物として2,
3−ジメチル−4−オキソペンタンニトリルを使用して
実施例Iを反復する。転化率は915係である。2,3
.4− )リメチルピロール及び3,4.5− )リメ
チルビロリドン−2の収率はそれぞれ613%及び75
%である。
第1頁の続き
0発 明 者 コーネリス・ヘラルダス・マリャ・ファ
ン・デ・モエスジェイ ク オランダ国6181ニー・エル・エ ルスロー・ドロサエルト・サル デンストラート7
ン・デ・モエスジェイ ク オランダ国6181ニー・エル・エ ルスロー・ドロサエルト・サル デンストラート7
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)水素の存在下気相で次の一般式I:R菫 C=0 □ −C−H □ −C−H □ C三N 式1 (式中、境は炭素原子数1〜6個のアルキル基を表わし
、そして2つのRはそれぞれ独立して水素原子か炭素原
子数1〜2のアルキル基を表わす)で示される4−オキ
ソアルカンニトリルをメンデレフエの元素周期表の第■
■族または第1B族の金属または該金属の化合物を含む
触媒に接触させて、次の一般式■: ― 式2 (式中、R1及び2つの1もの意味は前記の通りである
)で示される2−アルキルピロールを含む反応混合物を
形成することを特徴とする2−アルキルピロールの製造
方法。 (2) 白金、パラジウム及びロジウムからなる群か
らの金属捷たは該金属の化合物を含む触媒を使用する特
許請求の範囲第1項に記載の方法。 (3)酸化アルミニウム担体に触媒を担持する特許請求
の範囲第1項か第2項に記載の方法。 (4)促進剤としてアルカリ金属を使用する特許請求の
範囲第1〜6項のいずれか1項に記載の方法。 (5’+ 175〜600℃の湯度で前記接触を行う
特許請求の範囲第1〜4項のいずれか1項に記載の方法
。 (6)特許請求の範囲第1〜5項のいずれか1項に記載
の方法で得た2−アルキルピロール。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8102656 | 1981-06-02 | ||
NL8102656A NL8102656A (nl) | 1981-06-02 | 1981-06-02 | Werkwijze voor de bereiding van een 2-alkylpyrrool. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS584764A true JPS584764A (ja) | 1983-01-11 |
JPH0257542B2 JPH0257542B2 (ja) | 1990-12-05 |
Family
ID=19837591
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57094658A Granted JPS584764A (ja) | 1981-06-02 | 1982-06-02 | 2−アルキルピロ−ルの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4485243A (ja) |
EP (1) | EP0066346B1 (ja) |
JP (1) | JPS584764A (ja) |
DE (1) | DE3267131D1 (ja) |
NL (1) | NL8102656A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5118816A (en) * | 1990-12-26 | 1992-06-02 | American Cyanamid Company | 2-aryl-5-(trifluoromethyl)-2-pyrroline compounds useful in the manufacture of insecticidal, nematocidal and acaricidal arylpyrroles |
ES2126495B1 (es) | 1996-11-05 | 1999-12-01 | Kao Corp Sa | Composiciones acuosas concentradas de tensioactivos del tipo de las betainas y su procedimiento de obtencion. |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE699032C (ja) * | 1938-08-23 | 1940-11-25 | I G Farbenindustrie Akt Ges |
-
1981
- 1981-06-02 NL NL8102656A patent/NL8102656A/nl not_active Application Discontinuation
-
1982
- 1982-05-29 DE DE8282200660T patent/DE3267131D1/de not_active Expired
- 1982-05-29 EP EP82200660A patent/EP0066346B1/en not_active Expired
- 1982-06-01 US US06/383,961 patent/US4485243A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-06-02 JP JP57094658A patent/JPS584764A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0066346A1 (en) | 1982-12-08 |
DE3267131D1 (en) | 1985-12-05 |
EP0066346B1 (en) | 1985-10-30 |
NL8102656A (nl) | 1983-01-03 |
US4485243A (en) | 1984-11-27 |
JPH0257542B2 (ja) | 1990-12-05 |
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