JPS5843818B2 - ジキデイスク - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は磁気ディスク記憶装置に使用される磁気ディ
スクの構造及び製法に関するものである。

磁気ディスク記憶装置は近来の情報処理システムの発展
に伴い、さらに高性能化、低価格化が望まれている。

情報一つ当りの価格で考えるならば製造原価をそれほど
変えずに、記憶容量を増加できるならば高性能低価格化
が実現されたとも言えよう。

このような方針に従ってこれまで記録密度の向上に対し
多大の努力が払われて来た。

しかし、従来のような磁気ディスクの構造では必然的に
限界に達し、このままでは、磁気ディスクの磁性膜の向
上に待つより方法が無くなってしまう。

すなわち、磁気ディスクの記録密度は円周方向に沿った
密度を不す線密度と、情報の書込まれた列つまりトラッ
クの数を表わすトラック密度に分けられるが、前者の線
密度に関しては磁性膜の保磁力、残留磁化、磁性膜の膜
厚等で決る上限があり、この壁を破るには前述のように
磁性膜自体の向上例えば保磁力の向上、磁性膜の薄膜化
、磁性膜を構成する磁性粒子の微細化等の手段を選ばね
ばならない。

一方トラック密度の方は現状の４００ Ｔｐｌ（ＴＰ１
＝ １インチ当りのトラック数）よりさらに高密度化が
可能とされながら実用にまで至っていないことは、そこ
に幾多の困難があるからである。

−例を挙げるならば、トラック密度を高めた際に必然的
に要求される磁気ヘッドの位置決め機構の高精度化が十
分でないこと、トラック密度の増大につれてトラック巾
の減少を来すが、それと共に再生出力が小さくなり十分
なＳ／Ｎを確保するのが困難であること、トラック間の
間隔が小さくなるため信号出力に対する隣接トラックか
らの混信すなわちクロストークの割合が相対的に増大す
ること等である。

このような技術的困難は磁気ディスク全面に均一な磁性
膜を塗布することに由来するところが多く、トラックと
トラックの間、すなわち情報の書込まれていないダミー
領域（以下トラック間間隙という。

）を何らかの形で磁気的に分離すれば上述の固難さの多
くが解決されると考えられる。

このような観点からトラック間間隙の磁性膜を機械的も
しくは化学的に除去した磁気ディスクが提案されたが、
ディスク面上に生じる凹凸が磁気ヘッドの円滑な運動を
妨げるため、実用にまでは至っていない。

この発明の目的はクロストークの小さい高トラツク密度
の磁気ディスクを提供することにあり、イオン注入によ
ってトラック間間隙の磁性膜の組成もしくは構造を変え
ることにより磁気的性質がその領域だけ異なった磁気デ
ィスクとなっていることに特徴がある。

次にこの発明について、図面を用いて説明する。

第１図および第２図はこの発明の構成を示したもので第
１図ａはディスクの平面図を、同図すはその一部Ａの拡
大図を第２図ａは第１図ａのＸ−Ｘに沿った断面図を、
同図すはその一部Ｂの拡大図を示す。

すなわちこの発明による磁気ディスクは磁性膜４が塗布
されたディスク基板１からなるところは従来の磁気ディ
スクと同様であるが、情報の記録に使用される領域４の
構成に特徴があり、第１図すおよび、その断面を示す第
２図すに拡大して示したように、トラックピッチＰ毎に
、巾りの非磁性層もしくはその残留磁化の大きさが他の
領域（すなわち情報の記録されるトラック巾Ｗの領域）
２より少くとも１０分のｌ以下となるような別組成もし
くは別構造を有するトラック間間隙３を持つことが従来
と異なる。

このような構造の磁気ディスクはトラック間が磁気的に
分離されているため、書込みヘッドの位置が正規の位置
よりＤだけずれても隣りのトラックに情報を誤って記録
することはなく、また再生に際しても同様に再生ヘッド
の位置が正規の位置よりＤだけずれても隣りのトラック
からの混信は生じない。

書込み及び再生ヘッドの位置決め精度をδとすると、両
ヘッドのトラック巾がＷの場合従来の磁気ディスクでは
両ヘッドそれぞれの偏位のためトラック間間隙りは でなければならないがこの発明による磁気ヘッドでは、 でよく、従って高トラツク密度が可能となる。

次にこの発明を実施するための製法の一例について述べ
る。

第１図および第２図を参照するに、アルミニウム合金か
らなるディスク基板１上に酸化鉄（γ−Ｆｅ２Ｏ３）か
ら成る磁性膜４を全面に約０．１μｍの厚さに塗布する
。

このようなディスクを周知のイオン打込み装置にセット
し、ディスクを回転しながらトラック間間隙となる部分
に単位面積当り１０１８個／ｃｒＡ程度の亜鉛（Ｚｎ）
を１ｏｏに７以上の加速電圧のもとで打込む。

亜鉛イオンの打込まれた領域３の組成構造は不明である
が残留磁化の大きさはトラック部２ （γ−Ｆｅ２Ｏ３）の１０分の１以下になっており、こ
の発明の特徴を具備している。

またこのようにして得られた磁気ディスクの表面は従来
の磁気ヘッドの運動に対し何ら支障の無い程度の平滑さ
となっており、優れた性能の磁気ディスクとなっている
。

ここで示した製法は、この発明を実施するための一製法
であって、この方法に限るものではない。

すなわち、何らかの操作により、特許請求の範囲に示し
た如く、トラック間間隙の残留磁化の大きさがトラック
部のそれより１ｏ分の１以下もしくは、非磁性となるよ
うな別組成、別構造を有するものであればいずれもこの
発明の特徴を発揮できる。

この発明によると、以上説明したようにトラック間間隙
の磁性膜を非磁性若しくは残留磁化の大きさがトラック
部の１／１０以下とすることにより、クロストークの小
さい、すなわち高トラツク密度の磁気ディスクであって
、しかもヘッドの運動に何ら支障を与えない磁気ディス
クを達成することが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図はこの発明の構成を示すための図で、
１はディスク基板を、２はトラック部を、３はトラック
間間隙を、４は磁性膜を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 磁気ディスク記憶装置に使用される磁気ディスク表
   面で情報の書込まれるトラックとトランクとの間、即ち
   トラック間間隙がイオン注入された領域を有し、しかも
   その領域が非磁性もしくはその残留磁化の大きさが前記
   トラック領域より少くとも１０分の１以下となるような
   別の組成を有することを特徴とする磁気ディスク。