JPS5840934B2 - 塩素化フエノキシトルエン類の高選択的製造法 - Google Patents
塩素化フエノキシトルエン類の高選択的製造法Info
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- JPS5840934B2 JPS5840934B2 JP53163417A JP16341778A JPS5840934B2 JP S5840934 B2 JPS5840934 B2 JP S5840934B2 JP 53163417 A JP53163417 A JP 53163417A JP 16341778 A JP16341778 A JP 16341778A JP S5840934 B2 JPS5840934 B2 JP S5840934B2
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- toluene
- phenoxytoluene
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、フェノキシトルエン類のメチル側鎖を選択的
に塩素化することによりフェノキシベンジルクロリド類
あるいはフェノキシベンザルクロリド類で表わされる塩
素化フェノキシトルエン類を高選択的に製造する方法に
関するものである。
に塩素化することによりフェノキシベンジルクロリド類
あるいはフェノキシベンザルクロリド類で表わされる塩
素化フェノキシトルエン類を高選択的に製造する方法に
関するものである。
ここに得られる塩化物は、加水分解により容易にそれぞ
れフェノキシベンジルアルコール類あるいはフェノキシ
ベンズアルデヒド類に変換されるが、その中でもｍ−フ
ェノキシベンジルアルコールあるいはｍ−フェノキシベ
ンズアルデヒドは、農薬（殺虫剤）の重要な中間原料で
ある。
れフェノキシベンジルアルコール類あるいはフェノキシ
ベンズアルデヒド類に変換されるが、その中でもｍ−フ
ェノキシベンジルアルコールあるいはｍ−フェノキシベ
ンズアルデヒドは、農薬（殺虫剤）の重要な中間原料で
ある。
このフェノキシベンジルアルコール類あるいはフェノキ
シベンズアルデヒド類の合成法は、種々報告されている
が、工業的に実施しうる最良の方法は、未だに確立され
ていない。
シベンズアルデヒド類の合成法は、種々報告されている
が、工業的に実施しうる最良の方法は、未だに確立され
ていない。
工業的に有利な合成法の１種と考えられるフェノキシト
ルエン類のメチル側鎖塩素化法について限定する過去す
でに次の特許が出願されている。
ルエン類のメチル側鎖塩素化法について限定する過去す
でに次の特許が出願されている。
■、特公昭５１−４５５７３、西独特許
２４０２４５７；
ｍ−フェノキシトルエンを２２０℃以上の高温域におい
てハロゲン北隣を用い直接塩素化するという方法が示さ
れている。
てハロゲン北隣を用い直接塩素化するという方法が示さ
れている。
この方法は、高温での反応操作を伴うと同時に、エネル
ギー消費も多大であることを考慮すると工業的に不利で
ある。
ギー消費も多大であることを考慮すると工業的に不利で
ある。
しかもこの方法は、反応温度を２２０℃以下にすると核
塩素化物が多量に生成することが示されている。
塩素化物が多量に生成することが示されている。
２、特開昭５３−４０７３２、米国特許
４１０８９０４ ；
ｍ−フェノキシトルエンの塩素化が四塩化炭素中、ハロ
ゲン化剤として塩化スルフリルあるいは塩素及び臭素を
用いて行なわれている。
ゲン化剤として塩化スルフリルあるいは塩素及び臭素を
用いて行なわれている。
但し、塩化スルフリルを用いる反応ではラジカル開始剤
を、又塩素及び臭素を用いる反応では強力な白熱光源を
使用することが示されている。
を、又塩素及び臭素を用いる反応では強力な白熱光源を
使用することが示されている。
この方法によると核塩素化が抑制され、側鎖塩素化が起
こることが示された。
こることが示された。
３、特開昭５３−４６９２９、米国特許
４１４６７３７；
ｍ−フェノキシトルエンを四塩化炭素中、ラジカル開始
剤の存在下、ハロゲン化剤として塩化スルフリルによる
側鎖塩素化法が示されている。
剤の存在下、ハロゲン化剤として塩化スルフリルによる
側鎖塩素化法が示されている。
４、特開昭５３−１０３４３３、西独特許出願Ｐ２７０
７２３２．８； 、ｍ−フェノキシトルエン類を四塩化炭素中、ＵＶ光を
使用し、ハロゲン化剤として塩素あるいは臭素による側
鎖塩素化法が示されている。
７２３２．８； 、ｍ−フェノキシトルエン類を四塩化炭素中、ＵＶ光を
使用し、ハロゲン化剤として塩素あるいは臭素による側
鎖塩素化法が示されている。
５、特開昭５３−１１２８２４、仏国特許出願７７−０
６９４１； ｍ−フェノキシトルエンを四塩化炭素中、ラジカル開始
剤の存在下、ハロゲン化剤としてＮクロルアセトアミド
、Ｎ−ブロムアセトアミド、Ｎ−クロルスクシンイミド
、Ｎ−ブロムスクシンイミド、塩素あるいは臭素を用い
た側鎖塩素化法が示されている。
６９４１； ｍ−フェノキシトルエンを四塩化炭素中、ラジカル開始
剤の存在下、ハロゲン化剤としてＮクロルアセトアミド
、Ｎ−ブロムアセトアミド、Ｎ−クロルスクシンイミド
、Ｎ−ブロムスクシンイミド、塩素あるいは臭素を用い
た側鎖塩素化法が示されている。
しかしハロゲン化剤として塩化スルフリル、Ｎクロルア
セトアミド、Ｎ−ブロムアセトアミド、Ｎ−クロルスク
シンイミド、Ｎ−ブロムスクシンイミドあるいは臭素を
用いる反応や又、光を使用する方法は、工業的に実施す
る場合、経済的な不利益性と共に反応系の不均一性など
多くの解決すヘキ問題点を持っている。
セトアミド、Ｎ−ブロムアセトアミド、Ｎ−クロルスク
シンイミド、Ｎ−ブロムスクシンイミドあるいは臭素を
用いる反応や又、光を使用する方法は、工業的に実施す
る場合、経済的な不利益性と共に反応系の不均一性など
多くの解決すヘキ問題点を持っている。
一方塩素とラジカル反応開始剤を用いる方法は、操作も
容易でしかも経済的に有利であるが、現在この方法によ
る特許（特開昭５３−４０７．３２の実施例２１、特開
昭５３−１０３４３３の実施例１．２．３及び特開昭５
３−１１２８２４の実施例４）に示されているｍ−フェ
ノキシベンジルクロリド及びｍ−フェノキシベンザルク
ロリドの収率は、最適条件においてもたかだか６０〜７
０数％程度で選択性も高（なく、工業的に未だ十分満足
できる値ではない。
容易でしかも経済的に有利であるが、現在この方法によ
る特許（特開昭５３−４０７．３２の実施例２１、特開
昭５３−１０３４３３の実施例１．２．３及び特開昭５
３−１１２８２４の実施例４）に示されているｍ−フェ
ノキシベンジルクロリド及びｍ−フェノキシベンザルク
ロリドの収率は、最適条件においてもたかだか６０〜７
０数％程度で選択性も高（なく、工業的に未だ十分満足
できる値ではない。
この様な状況を鑑み、本発明者等は鋭意研究の結果、ラ
ジカル反応開始剤の存在下、塩素、塩素ラジカルあるい
は有機ハロゲン化合物と電荷移動錯体を形成しうる含窒
素化合物あるいは含硫黄化合物の１種あるいは混合物の
共存下において塩素によりフェノキシトルエン類を塩素
化すると、メチル側鎖が高選択的に塩素化されることを
発見した。
ジカル反応開始剤の存在下、塩素、塩素ラジカルあるい
は有機ハロゲン化合物と電荷移動錯体を形成しうる含窒
素化合物あるいは含硫黄化合物の１種あるいは混合物の
共存下において塩素によりフェノキシトルエン類を塩素
化すると、メチル側鎖が高選択的に塩素化されることを
発見した。
しかも注目すべきは、本発明において反応条件を選択す
ることによりフェノキシベンジルクロリド類あるいはフ
ェノキシベンザルクロリド類カ公知の四塩化炭素−塩素
−遊離ラジカル開始剤系（光を含める）に比較してさら
に著しく高収率でしかも高選択的に合成されることが見
いだされたことである。
ることによりフェノキシベンジルクロリド類あるいはフ
ェノキシベンザルクロリド類カ公知の四塩化炭素−塩素
−遊離ラジカル開始剤系（光を含める）に比較してさら
に著しく高収率でしかも高選択的に合成されることが見
いだされたことである。
このようなことは従来公知の技術には見いだせないまっ
た（新規な方法であって工業的にも容易に実施しうる経
済的な発明である。
た（新規な方法であって工業的にも容易に実施しうる経
済的な発明である。
一般に芳香族化合物の塩素化は、親電子的反応による核
置換と、ラジカル反応による側鎖置換が競争的に進行す
ることが知られている。
置換と、ラジカル反応による側鎖置換が競争的に進行す
ることが知られている。
このことは、フェノキシトルエン類の塩素化においても
起こり、例えば特公昭５１−４５５７３において側鎖置
換と同時に核置換が多量に起こることが示されている。
起こり、例えば特公昭５１−４５５７３において側鎖置
換と同時に核置換が多量に起こることが示されている。
一方四塩化炭素中、ラジカル開始剤あるいは光を用いる
ことによって環への置換カ抑制されることが示されたに
もかかわらず、前述したごとくｍ−フェノキシベンジル
クロリドあるいはｍ−フェノキシベンザルクロリドの収
率は、十分満足すべきものではなかった。
ことによって環への置換カ抑制されることが示されたに
もかかわらず、前述したごとくｍ−フェノキシベンジル
クロリドあるいはｍ−フェノキシベンザルクロリドの収
率は、十分満足すべきものではなかった。
またメチル側鎖の塩素化が進行するとフェノキシベンザ
ルクロリド類からフェノキシフェニルトリクロルメタン
類が生成して来る。
ルクロリド類からフェノキシフェニルトリクロルメタン
類が生成して来る。
従ってフェノキシベンザルクロリド類を高収率かつ高選
択的に製造するためには、核塩素化の抑制と共にこのト
リクロリド類の生成・をも抑制しなげればならないが、
これらの抑制法についてはいずれの公知文献においても
報告されていない。
択的に製造するためには、核塩素化の抑制と共にこのト
リクロリド類の生成・をも抑制しなげればならないが、
これらの抑制法についてはいずれの公知文献においても
報告されていない。
そこで本発明者等は、フェノキシトルエン類のメチル側
鎖塩素化が高選択的に進行し、しかも核塩素化及びフェ
ノキシフェニルトリクロルメタン類の生成が抑制される
条件を種々検討した結果、本発明に到達した。
鎖塩素化が高選択的に進行し、しかも核塩素化及びフェ
ノキシフェニルトリクロルメタン類の生成が抑制される
条件を種々検討した結果、本発明に到達した。
即ち、本発明の特徴は、塩素、塩素ラジカルあるいは有
機）・ロゲン化合物と電荷移動錯体を形成しうる含窒素
化合物あるいは含硫黄化合物を反応系に共存させること
によって、塩素によるフェノキシトルエン類のメチル側
鎖塩素化をより選択的に進行させると同時に、フェノキ
シフェニルトリクロルメタン類の生成をも抑制するとい
う方法である。
機）・ロゲン化合物と電荷移動錯体を形成しうる含窒素
化合物あるいは含硫黄化合物を反応系に共存させること
によって、塩素によるフェノキシトルエン類のメチル側
鎖塩素化をより選択的に進行させると同時に、フェノキ
シフェニルトリクロルメタン類の生成をも抑制するとい
う方法である。
本発明者等は、この反応系から得られる生成物をガスク
ロマトグラフ及びＮＭＲで定量した結果、フェノキシベ
ンジルクロリド類あるいはフェノキシベンザルクロリド
類がほぼ定量的に得られることを見いだした。
ロマトグラフ及びＮＭＲで定量した結果、フェノキシベ
ンジルクロリド類あるいはフェノキシベンザルクロリド
類がほぼ定量的に得られることを見いだした。
しかもこの時、フェノキシフェニルトリクロルメタン類
の副生量を５％以下にすることに成功した。
の副生量を５％以下にすることに成功した。
本発明の出発原料である一般式（Ｉ）の化合物の置換基
Ｒ１及びＲ２において、ハロゲンの好ましい例としては
塩素、臭素等を、アルキル基の好ましい例としてはメチ
ル、エチル、ブチル等を、ハロゲノアルキル基の好まし
い例としてはクロロメチル、ブロモエチル、クロロプロ
ピル等を、アンル基及びアシルオキシ基の好ましい例と
してはアセチル、プロピオニル、ベンゾイル、トルオイ
ル、これらの対応するアシルオキシ基等を、アリール基
の好ましい例としてはフェニル、トリル、キシリル等を
、アラルキル基及びアラルキルオキシ基の好ましい例と
してはベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、これ
らの対応するアラルキルオキシ基等を、アルコキシ基の
好ましい例としてはメトキシ、エトキシ、ブトキシ等を
、アルコキシカルボニル基の好ましい例としてはメトキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル等を挙げることがで
きる。
Ｒ１及びＲ２において、ハロゲンの好ましい例としては
塩素、臭素等を、アルキル基の好ましい例としてはメチ
ル、エチル、ブチル等を、ハロゲノアルキル基の好まし
い例としてはクロロメチル、ブロモエチル、クロロプロ
ピル等を、アンル基及びアシルオキシ基の好ましい例と
してはアセチル、プロピオニル、ベンゾイル、トルオイ
ル、これらの対応するアシルオキシ基等を、アリール基
の好ましい例としてはフェニル、トリル、キシリル等を
、アラルキル基及びアラルキルオキシ基の好ましい例と
してはベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、これ
らの対応するアラルキルオキシ基等を、アルコキシ基の
好ましい例としてはメトキシ、エトキシ、ブトキシ等を
、アルコキシカルボニル基の好ましい例としてはメトキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル等を挙げることがで
きる。
一般式（Ｉ）の化合物の代表例としては、例えばｏ−フ
ェノキシトルエン、ｍ−フェノキシトルエン、ｐ−フェ
ノキシトルエン、３−フェノキシ−６−クロロトルエン
、ｍ−ｍｌ−ジメチルジフェニルエーテル、ｍ−（ｍ−
クロロメチルフェノキシ）トルエン、ｍ−（ｐ−ペンソ
イルフェノキシ）トルエン、ｍ−（ｐ−シアノフェノキ
シ）トルエン、ｍ−（ｐ−ニトロフェノ゛キシ）トルエ
ン、ｍ（ｐ−フェニルフェノキシ）トルエン、ｍ−（ｐ
−ベンジルフェノキシ）トルエン、ｍ−（ｐ−ベンジル
オキシフェノキシ）トルエン、ｐ（ｍ−）ＩＪルオキシ
）フェニルベンゾエート、ｍ−（ｐ−メトキシフェノキ
シ）トルエン、ｍ−（ｐ−メトキシカルボニルフェノキ
シ）トルエン等を挙げることができる。
ェノキシトルエン、ｍ−フェノキシトルエン、ｐ−フェ
ノキシトルエン、３−フェノキシ−６−クロロトルエン
、ｍ−ｍｌ−ジメチルジフェニルエーテル、ｍ−（ｍ−
クロロメチルフェノキシ）トルエン、ｍ−（ｐ−ペンソ
イルフェノキシ）トルエン、ｍ−（ｐ−シアノフェノキ
シ）トルエン、ｍ−（ｐ−ニトロフェノ゛キシ）トルエ
ン、ｍ（ｐ−フェニルフェノキシ）トルエン、ｍ−（ｐ
−ベンジルフェノキシ）トルエン、ｍ−（ｐ−ベンジル
オキシフェノキシ）トルエン、ｐ（ｍ−）ＩＪルオキシ
）フェニルベンゾエート、ｍ−（ｐ−メトキシフェノキ
シ）トルエン、ｍ−（ｐ−メトキシカルボニルフェノキ
シ）トルエン等を挙げることができる。
本発明において用いられる四塩化炭素の添加量はフェノ
キシトルエン類の重量に対して等量〜２０倍量の範囲、
好ましくは５〜１０倍量の範囲である。
キシトルエン類の重量に対して等量〜２０倍量の範囲、
好ましくは５〜１０倍量の範囲である。
本発明に使用される含窒素化合物は、脂肪族アミン、脂
環式アミン、芳香族アミン及び含窒素複素環化合物であ
り、下記の一般式で示される化合物を挙げることができ
る。
環式アミン、芳香族アミン及び含窒素複素環化合物であ
り、下記の一般式で示される化合物を挙げることができ
る。
〔式中Ｒ３〜Ｒ５は水素、アルキル基、ヒドロキシアル
キル基、シクロアルキル基、アリール基であり、これら
は置換基を有していてもよく、またＲ３−Ｒ５の２つも
しくは３つが相互に縮合して脂環あるいは複素環を形成
してもよい〕具体的には、例えばトリエチルアミン、ジ
ェタノールアミン、ピペリジン、シクロヘキシルアミン
、コハク酸イミド、アニリン、Ｎ−Ｎ−ジエチルアニリ
ン、トルイジン、キノリン、イミダシリン、モルホリン
等で代表される含窒素化合物の１種あるいは混合物であ
る。
キル基、シクロアルキル基、アリール基であり、これら
は置換基を有していてもよく、またＲ３−Ｒ５の２つも
しくは３つが相互に縮合して脂環あるいは複素環を形成
してもよい〕具体的には、例えばトリエチルアミン、ジ
ェタノールアミン、ピペリジン、シクロヘキシルアミン
、コハク酸イミド、アニリン、Ｎ−Ｎ−ジエチルアニリ
ン、トルイジン、キノリン、イミダシリン、モルホリン
等で代表される含窒素化合物の１種あるいは混合物であ
る。
また含硫黄化合物は、下記一般式で表わされる化合物
Ｒ６−８−Ｒ７、Ｒ６＋１ｎＲ７、Ｒ６−ＳＨ〔式中Ｒ
６及びＲ７は、同−又は異なっていてもよ（アルキル基
、アリール基、シクロアルキル基及び複素環化合物を表
わし、＆、Ｒ７が相互に縮合して脂環あるいは複素環を
形成してもよく又ｎは２〜８を表わす〕 例工ばドデシルスルフィド、ジフェニルスルフィド、ジ
フェニルジスルフィド、テトラヒドロチオフェン、チオ
フェン、シクロヘキシルメルカプタン、ベンゼンチオー
ル等で代表される含硫黄有機化合物の１種あるいは混合
物である。
６及びＲ７は、同−又は異なっていてもよ（アルキル基
、アリール基、シクロアルキル基及び複素環化合物を表
わし、＆、Ｒ７が相互に縮合して脂環あるいは複素環を
形成してもよく又ｎは２〜８を表わす〕 例工ばドデシルスルフィド、ジフェニルスルフィド、ジ
フェニルジスルフィド、テトラヒドロチオフェン、チオ
フェン、シクロヘキシルメルカプタン、ベンゼンチオー
ル等で代表される含硫黄有機化合物の１種あるいは混合
物である。
これら含窒素化合物及び含硫黄化合物は、フェノキシト
ルエン類に対してｏ、ｏｏｉ〜２０重量％、好ましくは
０．０１〜１０重量％を使用する。
ルエン類に対してｏ、ｏｏｉ〜２０重量％、好ましくは
０．０１〜１０重量％を使用する。
添加量が２０重量％以上の場合は、目的とする反応がほ
とんど進行せず、又０．００１重量％以下の場合はほと
んど効果が見られない。
とんど進行せず、又０．００１重量％以下の場合はほと
んど効果が見られない。
使用するラジカル反応開始剤は、アゾ化合物あるいは過
酸化物、好ましくはアゾビスイソブチロニトリルあるい
は過酸化ベンゾイル等を使用し、その使用量は、フェノ
キシトルエン類に対して０．００１〜２０重量％、好ま
しくは０．０１〜１５重量％である。
酸化物、好ましくはアゾビスイソブチロニトリルあるい
は過酸化ベンゾイル等を使用し、その使用量は、フェノ
キシトルエン類に対して０．００１〜２０重量％、好ま
しくは０．０１〜１５重量％である。
また反応に用いる塩素は、毎分フェノキシトルエン類の
０．５〜１０モル％、好ましくは２〜５モル％の範囲に
おいて反応が十分完了するまで反応系中に吹込む。
０．５〜１０モル％、好ましくは２〜５モル％の範囲に
おいて反応が十分完了するまで反応系中に吹込む。
一方反応温度は、０〜１５０℃の範囲、好ましくは反応
系が穏やかに還流する温度で行なう。
系が穏やかに還流する温度で行なう。
以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例 １
温度計、攪拌′機、ガス導入管、還流冷却管を備えたフ
ラスコ中にフェノキシトルエン類としてｍフェノキシト
ルエン９５？（０，５２モル）、ラジカル反応開始剤と
してアゾビスインブチロニトリル１０５’、含窒素化合
物としてピペリジン１？、有機ハロゲン化合物として四
塩化炭素１３００Ｓ’を入れ、フラスコの内温な７８〜
８２℃の範囲に昇温し、系を穏やかに還流させる。
ラスコ中にフェノキシトルエン類としてｍフェノキシト
ルエン９５？（０，５２モル）、ラジカル反応開始剤と
してアゾビスインブチロニトリル１０５’、含窒素化合
物としてピペリジン１？、有機ハロゲン化合物として四
塩化炭素１３００Ｓ’を入れ、フラスコの内温な７８〜
８２℃の範囲に昇温し、系を穏やかに還流させる。
これにガス導入管から毎分０．０２３モルの塩素をフラ
スコ中に吹込みながら１時間反応させる。
スコ中に吹込みながら１時間反応させる。
反応終了後フラスコを冷却し、更に減圧下で四塩化炭素
を留去して淡黄色の生成物を得た。
を留去して淡黄色の生成物を得た。
この生成物をガスクロマトグラフで分析した結果、その
収率はｍ−フェノキシベンジルクロリド１．２％、ｍ−
フェノキシベンザルクロリド９５．０％、ｍ−フェノキ
シフェニルトリクロルメタン２．８％、核置換物１．０
％であった。
収率はｍ−フェノキシベンジルクロリド１．２％、ｍ−
フェノキシベンザルクロリド９５．０％、ｍ−フェノキ
シフェニルトリクロルメタン２．８％、核置換物１．０
％であった。
比較例としてピペリジンを添加しない場合、同条件下で
得られる反応生成物の収率は、ｍ−フェノキシトルエン
７０．８％、ｍ−フェノキシベンザルクロリド２８．２
％、ｍ−フェノキシベンザルクロリド０％、核置換物１
．０％である。
得られる反応生成物の収率は、ｍ−フェノキシトルエン
７０．８％、ｍ−フェノキシベンザルクロリド２８．２
％、ｍ−フェノキシベンザルクロリド０％、核置換物１
．０％である。
実施例 ２〜１５
実施例１と同様な操作によりｍ−フェノキシトルエンの
代わりに代表的なフェノキシトルエン類を使用した場合
に得られる反応生成物の収率を表１に示す。
代わりに代表的なフェノキシトルエン類を使用した場合
に得られる反応生成物の収率を表１に示す。
実施例 １６〜３０
実施例１と同様な操作によりフェノキシトルエン類とし
てｍ−フェノキシトルエンを使用し、代※※表的な含窒
素化合物あるいは含硫黄化合物を反応系に添加した場合
に得られる反応生成物の収率を表２に示す。
てｍ−フェノキシトルエンを使用し、代※※表的な含窒
素化合物あるいは含硫黄化合物を反応系に添加した場合
に得られる反応生成物の収率を表２に示す。
実施例 ３１〜３２
実施例１と同様な操作により出発物質としてｍフェノキ
シトルエンの代わりに下記フェノキシ※トルエン類を使
用した場合に得られる反応生成物の収率を表３に示す。
シトルエンの代わりに下記フェノキシ※トルエン類を使
用した場合に得られる反応生成物の収率を表３に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １一般式（Ｉ） 〔式中Ｒ１及びＲ２は、同−又は異なっていてもよく各
々水素、ハロゲン、アルキル基、ハロゲノアルキル基、
アシル基、アシルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、アリ
ール基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アルコキ
シ基、アルコキシカルボニル基を表わす〕で示される化
合物の側鎖メチル基を、 （ａ）式 〔式中Ｒ３〜Ｒ６は水素、アルキル基、ヒドロキシアル
キル基、シクロアルキル基、アリール基であり、これら
は置換基を有していてもよく、またＲ３−Ｒ５の２つも
しくは３つが相互に縮合して脂環あるいは複素環を形成
してもよい〕で示される含窒素化合物の１種あるいは２
種以上 及び／又は （ｂ） 式Ｒ６−８−Ｒ７、Ｒ６＋Ｓ＋ｎＲ７もしく
は６−８Ｈ 〔式中Ｒ６及びＲ７は、同−又は異なっていてもよくア
ルキル基、アリール基、シクロアルキル基、複素環を表
わし、Ｒ６、Ｒ７が相互に縮合して脂環あるいは複素環
を形成してもよく、ｎは２〜８を表わす〕で示される含
硫黄化合物の１種あるいは２種以上、並びに （ｃ） 四塩化炭素及び （ｄ） ラジカル反応開始剤の１種あるいは２種以上
の共存下、塩素により選択的に塩素化することを特徴と
する一般式（ＩＩ）あるいは（ＩＩＩ）〔式中Ｒ１及び
Ｒ２は、上記のそれと同様の内容を有する〕で表わされ
る塩素化フェノキシトルエン類の高選択的製造法。 ２ 該化合物（■）が、０−フェノキシトルエン、ｍ−
フェノキシトルエン、ｐ−フェノキシトルエン、３−フ
ェノキシ−６−クロロトルエン、ｍ・ｒｒ／−ジメチル
ジフェニルエーテル、ｍ−（ｍ−クロロメチルフェノキ
シ）トルエン、ｍ−（ｐ−ベンゾイルフェノキシ）トル
エン、ｍ−（ｐ−シアノフェノキシ）トルエン、ｍ−（
ｐ−ニトロフェノキシ）トルエン、ｍ−（ｐ−フェニル
フェノキシ）トルエン、ｍ−（ｐ−ベンジルフェノキシ
）トルエン ｍ −（ｐ−ベンジルオキシフェノキシ）
トルエン、ｐ−（ｍ−）’）ルオキシ）フェニルベンゾ
エート、ｍ−（ｐ−メトキシフェノキシ）トルエン、ｍ
−（ｐ−メトキシカルボニルフェノキシ）トルエンであ
る特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 含窒素化合物が、トリエチルアミン、ジェタノール
アミン、ピペリジン、シクロヘキシルアミン、コハク酸
イミド、アニリン、Ｎ−Ｎ−ジエチルアニリン、トルイ
ジン、キノリン、イミダシリン、モルホリンである特許
請求の範囲第１〜２項のいずれかに記載の方法。 ４ 含硫黄化合物が、ドデシルスルフィド、ジフェニル
スルフィト、ジフェニルジスルフィド、テトラヒドロチ
オフェン、チオフェン、シクロヘキシルメルカプタン、
ベンゼンチオールである特許請求の範囲第１〜３項のい
ずれかに記載の方法。 ５ ラジカル反応開始剤がアゾ化合物及び過酸化物より
選択される特許請求の範囲第１〜４項のいずれかに記載
の方法。 ６ ラジカル反応開始剤がアゾビスイソブチロニトリル
、過酸化ベンゾイルである特許請求の範囲第５項に記載
の方法。 ７ 反応を０〜１５０℃の範囲で行なう特許請求の範囲
第１〜６項のいずれかに記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53163417A JPS5840934B2 (ja) | 1978-12-25 | 1978-12-25 | 塩素化フエノキシトルエン類の高選択的製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53163417A JPS5840934B2 (ja) | 1978-12-25 | 1978-12-25 | 塩素化フエノキシトルエン類の高選択的製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5589237A JPS5589237A (en) | 1980-07-05 |
| JPS5840934B2 true JPS5840934B2 (ja) | 1983-09-08 |
Family
ID=15773493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53163417A Expired JPS5840934B2 (ja) | 1978-12-25 | 1978-12-25 | 塩素化フエノキシトルエン類の高選択的製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5840934B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5840935B2 (ja) * | 1979-12-19 | 1983-09-08 | 朝日化学工業株式会社 | 塩素化フェノキシトルエン類の高選択的製造方法 |
| JP2549890B2 (ja) * | 1988-04-12 | 1996-10-30 | ダイソー株式会社 | ビス（トリクロロメチル）ジフェニルエーテルの製法 |
| JP2549889B2 (ja) * | 1988-04-12 | 1996-10-30 | ダイソー株式会社 | ビス（トリクロロメチル）ジフェニルエーテルの製法 |
-
1978
- 1978-12-25 JP JP53163417A patent/JPS5840934B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5589237A (en) | 1980-07-05 |
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