JPS5833703Y2 - 遠心乾燥機 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は主として洗浄後のウェハースの表面に付着し
た水分を遠心力にて分離除去し乾燥させる遠心乾燥機に
関するもので、乾燥時にウェハース表面から分離除去さ
れた水滴が壁部材内面に激突して飛散するのを防止し、
これにより生ずる微小な水滴が再度ウエース表面に付着
するものを防止してウェハースの清浄度を向上せしめる
遠心乾燥機を提供することを目的とする。

従来この種遠心乾燥機Ａは第１図に示す様に回転部材Ｂ
と、この回転部材Ｂを囲繞する乾燥機本体Ｃとより戊り
、乾燥機本体Ｃ内で回転部材Ｂのみを適当な駆動手段を
用いて回転させてウェハースＤを乾燥させる様になして
いる。

却ち洗浄後のウエースＤを多数収納したバスケラｌ−Ｅ
を回転部材Ｂの所定に固定支持させた後、回転部材Ｂを
回転させてこれにより生じる遠心力によりウェハース０
表面に付着した洗浄液を外方に飛散させて分離除去し、
乾燥させている。

ところが分離除去された洗浄液は相当な勢いで放出され
るためにこれが静止している乾燥機本体Ｃの内面に激突
して飛散し、霧状の微小な水滴となって跳ね返り、再度
ウエースＤの表面に付着してウエースＤの乾燥作用並び
に清浄度が低下するといった欠点があった。

前記ウエースＤの表面に再付着した水滴はそのほとんど
が付着と同時に自然乾燥するものであるが以下に述べる
理由により種々の問題を生ずる原因となるのである。

つまりウェハースＤは種々の工程を経て形成され、その
表面を清浄になすために純水或は薬品等の洗浄液にて洗
浄され、乾燥されるのであるが、この洗浄及び乾燥は外
部から塵埃等が介入しない様な密封状態で行なわれるの
でなく、開放状態で行なわれるので、当然の半生ら洗浄
液中には塵埃等が混入しており、更に乾燥機への移送時
にウェハースＤの表面に塵埃等が付着する恐れがあるた
めに、ウェハースＤを自然乾燥させずに遠心乾燥機Ａに
入れ、遠心力により洗浄液と一緒に塵埃等を分離除去さ
せているのである。

ところが従来の遠心乾燥機Ａでは一旦分離除去した塵埃
等を含む洗浄液が乾燥機本体Ｃの内面に激突し、微細な
水滴となってウェハースＤの表面に再付着し、乾燥され
る。

この水滴中には微細な塵埃等が含まれており、結果的に
はウェハースＤの表面には塵埃等が付着することになる
。

この様にウェハースＤの表面に塵埃等が付着していると
、以後半導体装置を形成する際、例えばウェハースＤの
表面にホトレジストを塗布し、この上面に白黒のパター
ンを施こしたガラスマスクを被せ、これに紫外線等の光
を当てた後、溶剤に溶かせて光の当った部分若しくは光
の当らなかった部分のみを残してパターンを焼き付けた
後、不純物をつけて不活性ガス中で加熱して拡散させ、
Ｐ形成はＮ形層を形成する際に塵埃の存在により不純物
が均一に拡散されず、精度が劣化し、不良品の発生の原
因となる。

また予めホドレンストを塗布したウェハースＤ′を乾燥
させた場合では、その表面に塵埃等が付着していると、
パターンを焼き付ける時に塵埃がガラスマスクに施こさ
れたパターンとは別個にパターンの作用を行ない、ウェ
ハースＤ′の表面に設計されたパターンとは異質のパタ
ーンが形成されることになる。

特にＩＣ等の様にパターンが極めて小さいものに於いて
はそのパターンが壊れ、ＩＣ設計ができないといった問
題が生じる。

従って乾燥時にウェハースＤ、Ｄ’の表面には如何なる
微細な塵埃も付着させてはならない。

この考案は上記従来の問題点に鑑み、これを改良除去し
たもので、乾燥時に分離除去される洗浄液が周囲の壁部
材に衝突する際の衝撃を緩和し、これにより生ずる微小
な水滴の飛散を防止し、部品表面への再付着を防止せし
めた遠心乾燥機を提供せんとするものである。

以下その構成を図面に示す実施例に従って説明すると次
の通りである。

第２図に於いて、１は洗浄後の部品例えばウェハース２
を多数収納したバスケット３を固定支持し、これらに遠
心力を作用させる回転部材、４は乾燥時ウェハース２よ
り分離除去された洗浄液が外部へ飛散するのを防止する
壁部材で、回転部材１及びこの上面に固定されたバスケ
ット３の周囲全十分囲む様に形成される。

回転部材１及び壁部材４は乾燥機本体（図示せず）内に
同芯状に配置される。

本考案のポイントは上記壁部材４を回転部材１と同一方
向に回転、例えば゛同期回転させることにある。

即ち回転部材１の回転軸５と壁部材４の底板４ａとを一
体的に固着し、回転部材１と壁部材４とを一体に同速で
回転させるか、又は回転部材１と壁部材４とを固着せず
、回転部材１の駆動装置と別個に設けた駆動装置（共に
図示せず）により壁部材４を独立させて回転部材１と同
速成はそれより速い速度で回転させる。

尚壁部材４の底板４ａの適当個所に受止めた洗浄水を抜
は取るドレン孔６を形成する。

上記構成によれば、洗浄後のウェハース２をバスケラＩ
−３内に多数収納し、これを回転部材１の所定位置に装
着し、回転部材１を回転させると、これにより生じる遠
心力によりウェハース２の表面に付着した洗浄水は外方
に放出され、分離除去される。

分離除去された洗浄水は周囲を囲む壁部材４に衝突する
が、壁部材４は回転部材１と同期して略同速で回転して
おり、回転部材１と壁部材４との間に相対的なズレがな
いので、水滴の壁部材４への衝突時の衝撃が吸収緩和さ
れ、霧状の微小な水滴となって跳ね返ることがなく、壁
面に沿って降下せられる。

従ってウェハース２の表面に一旦分離除去された洗浄水
の水滴が再付着せず、洗浄液中に含まれる塵埃等が付着
することがない。

また壁部材４を回転部材１よりも速く回転させれば、よ
り効果的に洗浄水の再付着を防止できる。

以上説明した様にこの考案は洗浄後の部品を多数収納し
、たバスケットを固定支持する回転部材と、この回転部
材を囲繞し洗浄水の飛散を防止する壁部材とを有する遠
心乾燥機に於いて、上記壁部材を回転部材と同方向に回
転させる様になしたから乾燥時に部品より分離除去され
た洗浄液が周囲の壁部材に衝突する際にその衝撃を吸収
緩和でき、これにより生じる微小な水滴の跳ね返りを防
止し、部品への再付着を防止できるので、洗浄液中に微
細な塵埃等が含まれておっても、洗浄液と共に分離除去
でき、部品の清浄度を向上せしめることができる。

従ってこれを半導体ウェハースに通用した場合、微小水
滴の跳ね返りに起因する半導体装置の不良品の発生を著
しく減少できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の一般的な遠心乾燥機を示す略図、第２図
は本考案に係かる遠心乾燥機の構造を示す要部断面図で
ある。 １・・・・・・回転部材、２・・・・・・部品（ウェハ
ース）、３・・・・・・バスケット、４・・・・・・壁
部材。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 洗浄後の部品を多数収納したパケットを固定支持する回
   転部材と、この回転部材を囲繞し洗浄水の飛散を防止す
   る壁部材とを有する遠心乾燥機に於いて、上記壁部材を
   回転部材と同方向に回転させる様になしたことを特徴と
   する遠心乾燥機。