JPS5833220B2 - オキサミドノ セイホウ - Google Patents

オキサミドノ セイホウ

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JPS5833220B2
JPS5833220B2 JP49020623A JP2062374A JPS5833220B2 JP S5833220 B2 JPS5833220 B2 JP S5833220B2 JP 49020623 A JP49020623 A JP 49020623A JP 2062374 A JP2062374 A JP 2062374A JP S5833220 B2 JPS5833220 B2 JP S5833220B2
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oxygen
oxamide
gas
catalyst solution
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リーメンシユナイデル ウイルヘルム
ウエーゲネル ペーテル
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Hoechst AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C231/00Preparation of carboxylic acid amides
    • C07C231/06Preparation of carboxylic acid amides from nitriles by transformation of cyano groups into carboxamide groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C233/00Carboxylic acid amides

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 しゆう酸ジアミド(オキサミド)は種々の方法によって
製造することができる。
例えばしゆう酸アンモンの加熱、シゆう酸エステルとア
ンモニアとの反応があり、更に多数の文献にジシアンを
その部分的加水分解によりオキサミドとなすことが記載
されている。
はじめに挙げた二つの方法は経済的理由から行い得す、
一方これに反して第三番目の方法は工業的に採用できる
ようにみえる。
それにも拘わらずジシアンの使用は従来不満足なままで
あった。
というのはジシアンは青酸から製造しなげればならず、
従って二つの工程がオキサミド製造の為に必要であり、
これは当然生成物を高価なものにする。
例えばドイツ特許出願公告第1297589号明細書に
記載の方法によれば青酸は銅(II)−塩(例えば硝酸
銅)の水性溶液中でNO2と、例えば下記の反応式に従
って反応せしめられている:次にジシアンは他の方法に
よって水性鉱酸中で(銅塩なしで)例えば下記の反応式
に従って加水分解してオキサミドとなすことができる:
この既に長い間公知となっている方法(Chem。
Ber、 1.1868.66)はドイツ特許明細書第
2036208号に記載の方法に於ても使用されている
しかしこの二つの方法の組合せは幾多の欠点を示す:例
えばNoを再びNO2に酸化するために別個のガス循環
系を配慮すること、二段階のために別個の反応容器を使
用すること、更に強い稀釈化を阻止するために第一段階
に於て形成される水を蒸発により除去することなどが必
要である。
更にNO/(CN)2分離の必要及び鉱酸の強い腐蝕作
用は大きな問題を伴う。
従ってオキサミドを直接青酸から一段階法で製造し、そ
の際単離せねばならない中間体としてのジシアンの形成
のない方法が望ましい。
このような反応は原則的には既にアットフィールド、ジ
ャーナル オブ ザ ケミカル ソサイエテイ(Att
field 、 Journal of the Ch
emicalSociety ) 16.1863.9
5に記載されているが、これは過酸化水素を水性青酸に
幾日間も作用させるだけである。
しかしこの極めて緩慢に進行する反応は明らかに工業的
には使用し得ない。
本発明者はシアン化水素(青酸)を酸素又は酸素含有ガ
ス及び触媒溶液(水、低級脂肪族カルボン酸及び銅イオ
ン及びナイトレートイオンを含有する)と接触させるこ
とによってオキサミドを製造する方法を見出した。
本発明による方法は、青酸を水性鋼−(II)塩溶液に
作用させる際にはジシアンのみが生成し、この反応は文
献に於てジシアンの通常の製法として公知であるので、
驚(べきことである。
実際ナカムラ(Ind 、Eng、Chem、 7.1
968.159〜164頁)は青酸を含む硝酸銅溶液を
低濃度で3日放置して少量のオキサミドを得た。
彼は溶液を100℃に加熱することにより反応の促進を
試みたが、主としてCO2が生じ、オキサミドの最高収
率は21%(理論値の)にすぎなかった。
この理由から低級脂肪族カルボン酸の添加の如き簡単な
手段によって非常に良好な収率で触媒的反応が行われう
るということは予期できないことであった。
該反応は下記反応式 に従って進行するので触媒溶液中に水が存在することが
必要である。
触媒溶液の水含量は3〜80重量%、殊に10〜50重
量%でなげればならない。
一般に上記の如き量の水を触媒溶液へ初めから添加し、
反応の間必要な量を更に配量する。
しかし水の添加を水含有青酸若しくは湿潤した空気流又
は酸素流と一緒に行ってもよい。
触媒溶液の低級脂肪族カルボン酸含量は19〜96%、
殊に50〜90%でなげればならない。
低分子量の脂肪族カルボン酸としてはギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、イソ−酪酸及び直鎖状又は分枝状ペン
タンカルボン酸が挙げられる。
これらの酸は触媒溶液に完全に溶解されていなげればな
らない。
殊に酢酸及びギ酸が有利である。このようなカルボン酸
の混合物を使用することもできる。
触媒溶液中の硝酸鋼、Cu (NOs ) 2、の含量
は広範囲に変化することができ、上限は水を含有する酸
に対する溶解性によって制限される。
硝酸銅濃度が0.2%以下になると反応が明らかに緩慢
になる。
触媒溶液中の硝酸銅の濃度範囲は1〜10%が有利であ
る。
反応の実施はガス状若しくは液状の青酸を触媒溶液中に
導入するか若しくはポンプで送入することにより行う。
水性若しくは水を含有する青酸を使用する場合には触媒
溶液の水含量があまり多くならないように注意すべきで
ある。
もう一つの反応成分として酸素又は酸素含有ガス(例え
ば空気)を触媒溶液へ導入する。
その際この様なガスを青酸とは別にして又は予め青酸と
混合して又は青酸と同時に導入することができる。
酸素の青酸に対する割合は前記の反応式にほぼ相当する
ことが好ましいが、しかし酸素過剰は反応に害にはなら
ない。
酸素又は空気を過剰で使用することも望ましい。
この操作方法は化学量論量の酸素を添加する場合に比較
して反応が著しく促進されるという利点を有する。
このようにして多量のシアン化水素を同量の触媒溶液と
所定の時間で反応させ、それによってオキサミドの空時
収量−t/反応域(1)及び時間(h)で計算して−を
高めることができる。
更に触媒溶液からの銅−(I)−シアニド析出の危険は
酸素の過剰供給により明らかに減少せしめられる。
更に析出を避ける為に青酸の供給を停止又は減少させな
がら酸素を導入することもできる。
過剰に使用する酸素の量は当該方法の経済性を害わない
ようにその上限が制限される。
従って酸素性入量Q坪論量の6倍までであるのが有利で
ある。
前記の反応式によれば1モルのシアン化水素に対して0
.25モルの酸素が使用されるので、使用する酸素量は
青酸1モルに対して0.25〜1.5モルであることが
好ましい。
殊に理論量の2〜6倍、殊に2.5〜4,5倍量の酸素
が効果的である。
過剰の酸素の代りに同様にして過剰の酸素含有ガス、例
えば空気若しくは他の酸素含有ガス混合物を使用しても
よい。
反応に必要な水は直接的に又はガス流を用いて触媒溶液
へ配量することができる。
触媒溶液に於ける反応温度は0°〜120℃の間である
のがよく、特に好都合な操作温度は400〜90℃であ
る。
反応は発熱的であるので、所望の温度は恒温器を用いる
ことにより若しくは反応成分の導入速度を調整すること
により調節することができる。
反応を実施しうる圧範囲は0〜50ゲージ気圧である。
有利には大気圧若しくは5ゲージ気圧までの軽い過圧で
の操作がよい。
反応は非連続的又は連続的に実施することができるが、
連続的方法が有利できる。
連続的操作方法に於ては反応は長い実施期間後には緩慢
になる。
即ちシアン化水素の変換はそれだけ少くなる。
これらの欠点は硝酸の添加により触媒溶液のpH値を2
.0以下に保持することによって避けることができる。
有利にはpH値を−1,0〜+1.5、殊に0〜+1に
保持することである。
触媒溶液の最適pH−値を保持することにより空時収率
−1形成オキサミド/l触媒溶液/時間として計算−の
低下をかなり長い期間避けることができる。
溶液のpH−値は触媒の最適操作温度40°〜90℃で
、例えば市販の種々の構造の単極−ガラス電極を用いて
測定する。
所望のpH−値を調整する為に使用される硝酸は任意の
濃度で添加することができる。
殊に簡単な方法は市販の濃度の硝酸を循環している触媒
溶液−オキサミドの分離後涙液として又は遠心分離物と
して得られる−へ添加することである。
勿論、例えば直接に反応器に硝酸を連続的に添加するこ
ともできる。
硝酸自体と同様にして反応条件下に硝酸を形成する物質
、例えばアセチルナイトレートを使用することもできる
硝酸添加のこの方法は酸素過剰を使用するとき又は空気
を酸化剤として使用するときに殊に有利である。
本発明による触媒溶液を用いて操作する場合にはあまり
にも長い開始までの時間及び不規則な反応経過により時
折困難が生じる。
従って又本発明者は種々研究の結果かSる欠点は触媒溶
液に低分子量脂肪族カルボン酸の可溶性塩及び/又は硝
酸の可溶性塩を添加することにより除去しうろことを見
出した。
この添加物なくしては反応は大抵の場合一定の誘導期約
10〜20分を示(7、その後初めて反応は突然熱の発
生及び溶液の変色のもとに明らかに開始しはじめる。
誘導期が長ければ長いほど、一般に続いて起る02−吸
収が増々速く且つこの間に於ける空時収率は増々高くな
る。
この効果は鉄(m)−ナイトレートを添加する際に殊に
達成される。
その際誘導期は長くなる。他方、他の塩、例えばKNO
3、NaNO3、Ca (NO3) 2、酢酸カリウム
の添加により誘導期を2〜3分に減少させることができ
、この場合には次の反応はそれ程激しくなく進行し、0
2−吸収はより緩慢に行われる。
更にニッケル塩も誘導期を減少させるために使用するこ
とができる。
更にこれらの添加物は分離したオキサミドのCu−含量
に影響を及ぼすことができる。
迅速な反応及び高い空時収率の場合にはCu−含量は緩
慢な反応に於げるCu−値の2倍〜3倍となることがで
きる。
従って適当な塩の添加−場合により時間的間隔を以て順
次に行うことができる−により誘導期、反応速度及びオ
キサミドの銅含量を意のままに変えることができる。
オキサミドと共に運び出される銅が少い程、触媒溶液は
それだけ長く使用することができる。
硝酸塩及び/又は低分子量脂肪族カルボン酸塩としては
実際反応媒体に可溶な全てのカチオンの塩が使用される
好ましい塩は例えばアンモニウム塩、アルカリ金属塩及
びアルカリ土類金属塩並びに周期律表の第3族及び第8
族の塩、殊にLi、Na、に、Mg、Ca、Al、TI
、Ni及びFeの塩である。
アニオンとしてはナイトレートの他に殊にアセテート、
ホルミエート、フロビオネート及びブチレートが使用さ
れる。
その際触媒溶液中にも存在するカルボン酸との塩を使用
するのが好ましい。
如何なる場合にも触媒溶液に銅−及びナイトレート−イ
オンが存在することが必要である。
添加する硝酸塩及び/又は低分子量脂肪族カルボン酸塩
の量は硝酸銅の約0.1〜1〇−倍モル量であるべきで
ある。
誘導期、反応速度及びオキサミドの銅含量に関して反応
を特別に制御する為に前記の塩の混合物−この中でカチ
オンもアニオンも異っていてもよい−を添加することも
できる。
更に反応完了後触媒溶液から出るガス混合物を循環させ
、再び触媒溶液と接触させることが有利である。
反応完了後触媒溶液から出るガス混合物は主として未反
応酸素、シアン化水素及び場合により窒素から成る。
このガス循環方式は幾多の利点を有する:先づ第一に下
記の反応式に従ってシアン化水素の反応が定量的に行わ
れるのを確実にする必要はない。
触媒溶液から出たガス混合物中になお存在する未反応の
シアン化水素はガス循環により再び反応溶液に供給され
る。
従っていかなる損失も生じない。
同様に未反応酸素−場合により触媒溶液に過剰に供給さ
れている−についても同様であり、ガス循環方式で操作
する場合には全く失われない。
更に空気若しくは酸素−空気−混合物を使用する場合に
は著しい量のシアン化水素を触媒溶液から、それらが反
応する前に、排出されうるので、反応ガス循環によれば
この場合にも損失のない反応が可能である。
酸素の代りに空気を使用することもできるが、しかしガ
ス循環に於ける不活性ガスの水準を過度に上昇させない
為に著しい量の廃ガスを除去しなげればならない。
しかし本方法の有利な一実施形態は連続的装置に於て空
気若しくは窒素を用いてガス循環を開始することである
シアン化水素の配量後多かれ少なかれ窒素を含有する循
環ガスに消費の度合に応じて、即ちほぼ前記の反応式に
対応する量の酸素を添加する。
かなり高い反応熱の故に特に直径の大きい反応器を使用
する場合には、外からの冷却だけで冷却することば困難
である。
循環ガスは前記の成分の他になお水及び脂肪族カルボン
酸、例えば酢酸−その量は触媒溶液の量と温度に依存す
るーを含有する。
水蒸気で循環ガスに於ける大量の不活性ガスを負荷する
ことにより反応熱を触媒液体から除去することが殊に簡
単にできる。
この場合反応器の頂部にある還流冷却器又はガス循環系
に於ける冷却器により熱を容易に搬出することができる
大抵の場合ガス循環系は完全には閉鎖されておらずして
、廃ガスを除去する可能性も有する。
このような廃ガスは既述のような不活性ガスとして意図
的にガス循環流に供給されるか又は僅かに不純な酸素に
より持込まれるか若しくは触媒の副反応により形成され
ることができる(少量のC02)。
反応の実施の為にはコルベン状又は条状の容器、殊にシ
リンダ状容器が使用され、この中に触媒溶液が存在する
長方形の容器は滞留時間を増す。上端で採取したガス混
合物を反応器の下端に於て例えば送風機により再びポン
プで送入する。
新鮮な酸素は循環送風機の前又は後の位置で添加するか
又は反応器へ別個の導管によって吹込むことができる。
反応の間に一部の触媒溶液を連続的に取出し、再び反応
容器へ再循環させるのが有利である。
その際直立した長方形の反応器を使用する場合には大抵
の場合触媒溶液を上端で取出し、下端で再び供給する。
しかし強制循環器を用いて液体流を逆方向に導くことも
可能である。
更に、横になっている又は傾むいている反応器を使用す
る場合にも触媒溶液を対応してポンプで循環させること
ができる。
この触媒循環は以下の利点を示す: 液体を循環させることにより反応の際に形成された固状
の結晶化オキサミドが反応器壁に固着する危険が減少す
る。
高い流れ速度の場合には反応器壁にはオキサミド層が形
成されず、反応成分の良好な流過及び器壁を通しての良
好な熱排除が保証される。
更にこの循環方法によれば、循環装置のガスで充たされ
ていない部分即ち大抵の場合触媒循環の下降している枝
分れ部分に冷却装置を備え付けることによって著量の反
応熱を排除することができる 更に液体で充たされた反
応器に於ける高い流れ速度はガス状で供給される反応成
分、即ち酸素若しくは酸素−窒素−混合物及びシアン化
水素の微細な分布に好都合に作用する。
一層微細なガス分布はガス充填弁を液体循環系に取付け
ることによって達成することができる。
長方形の反応器を使用する場合オキサミドの焼けつきを
阻止する触媒循環の効果は特に顕著である。
なおここで“′長方形“°の反応器とはその長さが直径
より大きく、殊に、長さ/直径の比が約3:1〜20:
1である反応器である。
しかし他の比の反応器を選ぶこともできる。
触媒循環法はそれだけで行うことができる。
しかし例えば反応媒体をより良好に冷却しうるようにガ
ス並びに触媒溶液を循環させることが有利である。
殊にガス及び反応液体を同一方向に導くことができる。
その際反応は流通管中で行うこともできる。
触媒循環は例えばポンプを用いて強制循環させるか又は
マムトポンプ(Mammut−pu m pe )原理
によって行うことができる。
その際液体は吹込まれたガスによって上方へ運搬され、
ついで下降している管を通して下方に流れ、下方で再び
反応器へ入ることができる。
同様に触媒循環の為にテルモシホ7 (Thermos
iphon )−原理も使用可能である。
更に触媒溶液を循環させる方法に於ては−HCNをより
良好に使用する為に且つより高い空時収率を達成する為
に一過剰の酸素を使用することができる。
その際理論的に必要な量の2〜6倍量の酸素を使用する
ことが有利である。
形成されたオキサミドは触媒溶液に実際上不溶であり、
結晶形で析出する。
これを反応容器から連続的に又は少量づ〜取出し、付着
している触媒溶液を例えば遠心分離又は吸引1過により
分離する。
※ ※ オキサミドの収率は最適条件に於ては理論量の95
%以上(使用した青酸に対して)である。
オキサミドは例えば有機中間生成物として或は又直接に
長期−肥料として使用できる。
例1 頂部に冷却器が備えつげられている11の攪拌コルベン
中に3201の氷酢酸及び80yの水に15zのCu(
NO3)2・3H2oを含む溶液を導入する。
この溶液へ攪拌下に4時間以内に一様の流れで全部で8
1’の無水の青酸を流入させる。
同時に毎時51の酸素を導入する。
温度は導入後すぐに70℃に上昇する。
反応時間の間50〜60’Cに保持する。
4時間後試験を停止し、生成したオキサミド−懸濁液を
吸引1過する。
オキサミドを少し稀釈した塩酸で、続いて水で洗浄し、
そして乾燥する。
か(て1231の純粋なオキサミドが得られ、これは理
論値の94.5%(使用した青酸に対して)に相当する
比較例 例1と同じ装置中で且つ同じ条件下に、但し氷酢酸の添
加なしで、即ち15グの Cu(NO3)2・3H20を4002の水に含む溶液
中で操作すると、24時間60〜70℃で攪拌を続けて
もオキサミドは全く生成しない。
例2 例1と同じ装置、及び同じ条件下に、但し毎時251の
空気を酸素の代りに導入すると、121グのオキサミド
が得られ、これは理論値の92.7%の収率に相当する
例3〜8 例1と同じ装置中で同じ条件下に、但し異なる酢酸濃度
で操作して以下の結果を得た: 例 例1と同じ装置K 15 ? (7) Cu (NO,
a)2 ” 3H20,3201のギ酸及び81’の水
よりなる触媒溶液を導入する。
この溶液中に1時間で2Ofの青酸と約51の酸素を流
入させる。
温度は80〜90℃に上昇する。
冷却することにより温度をこの範囲に保持しなげればな
らない。
1時間後析出したオキサミドを吸引沢過すると、洗浄及
び乾燥の後311の純粋なオキサミドが得られ、これは
95%の収率(使用した青酸に対して)に相当する。
例10 例1と同じ装置に151のCu(NO3)2・3H20
13201のプロピオン酸及び80′?の水よりなる触
媒溶液を導入する。
この溶液中に1時間以内に201の青酸及び約51の酸
素を流入させる。
温度は約50℃に上昇し、反応ガスの添加が終了した後
なお2時間60〜70℃に保持する。
前記の方法によればこのようにして291のオキサミド
−理論値の89%を単離することができる。
例11 例9と同様にして但しプロピオン酸の代りにn−酪酸を
使用すると251のオキサミドが得られ、これは76.
6%の収率に相当する。
例12 例1と同じ装置に51のCu (N03)2−3H20
を3201の氷酢酸及び80′?の水に含む溶液を入れ
る。
2時間以内にこの溶液中に31’の青酸及び約41の酸
素を流入させる。
かくて操作温度75〜80℃で451のオキサミドが得
られ、これは理論値の92%の収率(使用した青酸に対
して)に相当する。
例 13(比較例) 垂直に立っているガラス管(直径10crIL、高さ1
.50m)へlOlの触媒溶液−−1,25%のCu
(NO3) 2 ・3 H20を80%の水性酢酸中に
含む−を導入する。
温度60℃で毎時500S’の無水の青酸をポンプで送
入し、同時に110〜1151/hの酸素を吹込む。
これはほぼ化学量論的に必要な量に相当する。
約20分後オキサミドの析出が始まる。
約1%時間抜最初は青色であった触媒溶液が殆んど無色
になる。
というのは大部分の銅がCuCNとして沈殿したからで
ある。
この触媒溶液はもはやオキサミドを生成しない。
銅が沈殿するまでに理論量の70%のオキサミドが、シ
アン化銅との混合物で生じる。
この沈殿を戸数し、アンモニア水又は水性塩酸で洗うこ
とによってシアン化銅を除くと、純粋なオキサミドを得
ることができる。
例14 例13と同じ装置に於て同じ触媒を用いて且つ同じ条件
下に110〜1151/hの酸素の代りに250 l/
hの酸素を導入する。
オキサミドの形成は4時間の操業時間もなお同じままで
あり、平均して毎時7401のオキサミドを生ずる。
例15 例13と同じ装置に於て同じ触媒及び同じ条件下に11
0〜1151/hの酸素の代りに毎時2、Olの空気を
導入する。
オキサミド−形成は4時間の操業後も全熱低下しなかっ
た。
オキサミドの収率は毎時約7001?である。
例16 装置は頂部に還流冷却器が備えつげられている反応管(
直径10crrL、長さ1.50m)から成る。
この反応管にiozの触媒溶液−1,25%のCu (
NO3) 2 ’ 3 H20を80%の水性酢酸に含
む−を入れる。
溶液のpH−値は0.5である。装置は強制循環器を備
えており、これは触媒溶液を反応器の上端で取出し、ガ
ラス製循環ポンプを経て再び反応器の下端部へ入れる。
このポンプは毎時約1000Jの液体が循環せしめられ
るように調節されている。
温度60℃で毎時5001の無水のシアン化水素を供給
し、そして約3501の酸素を吹込む。
はじめのpH−値0.5は2時間で1.2に上昇する。
次に1〜2時間の間隔で10〜50グの濃HNO3を触
媒溶液に加え、このようにしてpH−値をO〜1.0の
範囲に保時する。
オキサミドの形成は24時間後も95%以上の収率で進
行し、空時収率の低下はない。
例17 例16と同じ装置へ同じ条件下に酸素に代えて毎時約2
−の空気を吹込むと、実際上同じ結果が生じるが、しか
し濃硝酸の添加は、0〜1.0の所望のpH−値を保持
するためには、毎時100〜12Ofに高めなげればな
らない。
例18 一般的試験条件: 2重壁の恒温器(iooml容量)−そのふたを通して
ガス導入管、ガス排出管、滴下ロート、温度計及びガラ
ス電極が備えられており、そのガス導入管は02−ガス
ビユレットと結合しているへ、0.97PのCu (N
Os ) 2 ・3 H20を32TLlの氷酢酸と8
mlのH2Oとの混合物に溶解して含む溶液を入れる。
この溶液は50℃に加熱されており、磁気的に攪拌され
ている。
全系は02ですすがれている。
滴下ロートには3mlのシアン化水素が含まれており、
これは測定開始から2〜3分で加える。
02−吸収は約2時間にわたって進行するので、誘導期
の測定に於ける測定誤差は比較的わずかである。
結果: 誘導期は20分、02−吸収は10灰l/分、全吸収3
80m1(80分後)、オキサミド中のCu−含量o、
oso%Cu (水で2回洗浄した後。
更に洗浄してもCu−含量は殆んど減少しない)。
例19 例18の反応溶液へ400rvのKNO3を加える(
0.1 m溶液に相当する)。
誘導期2分、最大02−吸収速度10TILl/分、1
00分後全吸収360m1、オキサミド中のCu含量の
0.042%Cu。
例20 例18の溶液に1.Ozの酢酸ナトリウムを溶解する。
誘導期は10分、平均0□−吸収−速度は4r/Ll/
分、120分で02の全吸収420m1、オキサミド中
のCu含量0.022%Cu。
例21 例18の溶液へ1.31’のFe(NO3)3・9H2
0を溶解する( 0.1 mFe −m−溶液に相当す
る)。
結果: 誘導期40分、02−吸収速度40就/分、70分で0
2 の全吸収40017111Cu含量0.060%C
u oこの例に於てFe (NO3)3−9H20を鉄
−m−アセテートで置き換えると、例18と実際上同じ
特徴値が生じる。
例22 例19〜21に於けるように行う。
80%−酢酸溶液ノ40m1K0.97 ?のCu(N
O3)2・3H20及び0.58PのNi (NO3)
2・6H20を溶解すると、溶液は0.1モル(Cu2
+に対して)及び0.05モル(Ni2+に対して)で
ある。
反応は3分後開始し、吸収速度は4〜5TrL102/
分、105分後の02の全吸収は290TrLlである
例23 例19〜22に於けるように40TLlの80%酢酸溶
液にQ、97fのCu(NO3)2・3H20及び0.
5iのMg(NO3)2・6H20を溶解する。
これは約0.05モルのMg 2 +−溶液に相当する
誘導期8分、平均02−吸収速度15縦/分。
オキサミド中のCu−含量0.171%。
例24 例18に記載した標準的混合物へ0.51のTlNO3
を溶解する。
この溶液は0.047モルのT11+溶液に相当する。
誘導期12分、02 の吸収速度は10rrLl/分。
オキサミド沖のCu−含量0.035%。
例25 装置は垂直の反応管(直径10cm、長さ1.50m)
から成り、頂部に還流冷却器が備え付けられている。
還流冷却器の上部はガス膜ポンプの吸引側に連結してい
る。
このポンプの抑圧側は反応管の下部に於てそこに取付け
られた導入管と接合している。
反応管に1251のCu(NO3)2・3H20を81
の氷酢酸及び21の水に含む溶液を導入する。
温度60〜70℃に於て装置を酸素で充たし、循環ガス
膜ポンプを調節して、毎時約500Jのガスが導入管を
通って反応器の下部に吹込まれ、下部から上部へ反応管
を貫流するようにする。
冷却器を通って冷却されたガスを再びガス循環ポンプの
吸引側へ導く。
ガス循環を調節した後毎時500 pの無水の青酸をポ
ンプで送入し、同時にガス循環ポンプの吸引側に毎時1
10〜1201の新鮮な酸素をポンプで送入する。
短かい誘導期の後オキサミドの形成が始まり、これは結
晶かゆ状物として沈澱する。
これを反応塔底液から取出し、沢過する。
かくて毎時780′?のオキサミドが得られる。
例26 例25と同じ装置及び同じ条件下に操作する。
触媒溶液を導入した後、装置へガス循環ポンプが過圧約
100+o+tHg (押圧側で測定)を生じるように
窒素を導入する。
この条件下に毎時3m゛のガス量を反応器を通してポン
プで送入する。
毎時500グの無水の青酸をポンプ送入し、同時に約1
151の酸素をポンプの吸引側に僅かな過圧を以て添加
すると、毎時780〜7901の量でオキサミドが形成
される。
例27 垂直に立っているガラス管(直径10CIrL、高さ1
.50m)へlOJの触媒溶液−1,25%のCu(N
O3)2・3H20を80%水性酢酸に含むを導入する
60〜70℃の温度で毎時5001の無水青酸をポンプ
で送入し、同時に約3001の酸素を導通させる。
オキサミドの形成は平均して毎時7401である。
しかし若干時間後著しい量の固状結晶オキサミドが壁に
沈着し、これは装置を停止させることになり機械的に除
去せねばならない。
例 28(触媒循環) 例27に記載した装置に循環ポンプを取付け、その際直
径2511!71!の導管を反応器の上端から液面の下
方の側面に導きガラス製循環ポンプを経て再び反応器の
下端へ導く様にする。
この装置に例27と同じ触媒溶液を充たした後ポンプを
運転させて毎時10oozの液体が循環する様に調節す
る。
60〜70℃の温度で毎時5001の無水のシアン化水
素及び約3501の酸素を配量する。
かくて数時間の操業の後も全く障害なしに毎時740〜
750?のオキサミドが得られる。
例29 例28のように操作するが、但し3501の酸素の代り
に約2m’の空気を用いると、毎時720〜740fの
オキサミドが得られる。
例 30(触媒循環及びガス循環) 例28の装置に液体循環の下降部に於てマントル冷却器
を備え付ける。
液体柱の頭端から反応器を出たガスは還流冷却器を流過
し、ガス循環ポンプを経て導かれる。
このポンプにより未反応ガスを長方形の反応器の頭端か
ら再び反応器の下部へ導入することができる。
装置に例27で挙げた触媒溶液を充たし、60〜70℃
に加熱し、循環ポンプを用いて毎時約10001の液体
が循環する様にする。
次に装置へ酸素を導入し、ガス循環ポンプを用いて毎時
500〜7001のガスが循環する様に調節する。
この装置へ毎時500y′の無水のシアン化水素をポン
プで送入し、同時にガス循環ポンプの吸引側に於て毎時
110〜1201の酸素を供給する。
遊離した反応熱を一部は液体循環系の下降枝分れ部に於
ける冷却器によって、即ちガスの不存在下に、一部は還
流冷却器によってガス循環系に於て排除することができ
る。
か(て毎時平均して5ooyのオキサミドが得られる。
例31 例30に於て酸素の代りに空気を充たして操作する場合
にも同じ結果が得られる。
前記の例18〜31におけるオキサミドの収量はそれぞ
れ、(使用した青酸に対して)理論量の少なくとも92
%になる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 シアン化水素を酸素又は酸素含有ガス及び触媒溶液
    −この溶液は水、低分子量脂肪族カルボン酸、銅イオン
    及びナイトレートイオンを含有する−と接触させること
    を特徴とするしゆう酸ジアミド(オキサミド)の製法。 2 シアン化水素を酸素又は酸素含有ガス及び触媒溶液
    −この溶液は水、低分子量脂肪族カルボン酸、銅イオン
    及びナイトレートイオンを含有し且つ低分子量脂肪族カ
    ルボン酸の可溶性塩及び(又は)硝酸の可溶性塩を含有
    する−と接触させることを特徴とするしゆう酸ジアミド
    (オキサミド)の製法。
JP49020623A 1973-02-23 1974-02-22 オキサミドノ セイホウ Expired JPS5833220B2 (ja)

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DE2402352A DE2402352A1 (de) 1974-01-18 1974-01-18 Verfahren zur herstellung von oxamid
DE2403120A DE2403120C2 (de) 1974-01-23 1974-01-23 Verfahren zur Herstellung von Oxamid

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CH (1) CH590213A5 (ja)
CS (1) CS184338B2 (ja)
DD (1) DD110854A5 (ja)
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IL (1) IL44209A (ja)
IT (1) IT1008262B (ja)
LU (1) LU69446A1 (ja)
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CS184338B2 (en) 1978-08-31
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