JPS583283A - サイリスタ - Google Patents
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- JPS583283A JPS583283A JP56101594A JP10159481A JPS583283A JP S583283 A JPS583283 A JP S583283A JP 56101594 A JP56101594 A JP 56101594A JP 10159481 A JP10159481 A JP 10159481A JP S583283 A JPS583283 A JP S583283A
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/74—Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action
- H01L29/7428—Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action having an amplifying gate structure, e.g. cascade (Darlington) configuration
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は”/a を耐量の増大と高感度化を図り九サイ
リスタに関する。
リスタに関する。
サイリスクは導電蓋を交互に異ならせ、表裏の半導体層
表面にアノード電極とカノード電極とを取付け−に4つ
の半導体11によ)構成され、アノード電極側よシ一般
にP工電、夕層、Nペース層、Pペース層、%!(、り
層とし九構造を有している。しかしてヒO?イリスlで
は、Pペース層に設けられ九r−)電極に)lJf信号
を印加することKよりて、先ずr−)近傍0小面積がタ
ーン第2L%時間の経過に伴ってそOIl!合全面積K
lりてターンオン領域が拡大して導通する。ヒO為、タ
ーンオン時の央入電流上昇率”/a tが大きいと、素
子能力以上にr −ト近傍の@もれた導通部分に電流が
集中し、こO結果、局所的な温度上昇による熱破壊が生
じることがある。
表面にアノード電極とカノード電極とを取付け−に4つ
の半導体11によ)構成され、アノード電極側よシ一般
にP工電、夕層、Nペース層、Pペース層、%!(、り
層とし九構造を有している。しかしてヒO?イリスlで
は、Pペース層に設けられ九r−)電極に)lJf信号
を印加することKよりて、先ずr−)近傍0小面積がタ
ーン第2L%時間の経過に伴ってそOIl!合全面積K
lりてターンオン領域が拡大して導通する。ヒO為、タ
ーンオン時の央入電流上昇率”/a tが大きいと、素
子能力以上にr −ト近傍の@もれた導通部分に電流が
集中し、こO結果、局所的な温度上昇による熱破壊が生
じることがある。
そζで近都ではサイリスタの高耐圧化、大容量化に伴い
、スイッチング時の”/a*耐量が大会<、シかもr−
)制御電流のできるだけ小さ流が増大すると云う相反す
る問題があり九・ま九近時、r−ト電流に代えて光信号
によシスイ、テンダ動作を制御する光サイリスタが開発
されているが、利用可能な光エネルギーに限度がある上
、ハイ・r−)・ドライブが困難な為、4 ’/a *
耐量を大きくできなかり九、これ故、”/ai耐量を損
うことなしにr−)感度の向上を図り先高耐圧・大容量
のサイリスタの開発が強く望まれていた。
、スイッチング時の”/a*耐量が大会<、シかもr−
)制御電流のできるだけ小さ流が増大すると云う相反す
る問題があり九・ま九近時、r−ト電流に代えて光信号
によシスイ、テンダ動作を制御する光サイリスタが開発
されているが、利用可能な光エネルギーに限度がある上
、ハイ・r−)・ドライブが困難な為、4 ’/a *
耐量を大きくできなかり九、これ故、”/ai耐量を損
うことなしにr−)感度の向上を図り先高耐圧・大容量
のサイリスタの開発が強く望まれていた。
第1図はこのような問題を解決すべく構成され走光すイ
リスタの断画構造を模式的に示したものである。Saに
おいて、デエ電、タ層r、Nペース層j、Pペース層1
、Nエヤ、りlI4からなる4つの半導体層からなるサ
イリスタの上記P工々、りll11表mtcはアノード
電極5が、11九N工ζ、夕陽40表面に祉カノード電
極Cが配設されており、メインサイリスタが形成されて
いる。上記N工ずVり層4は、Pペース聯10外周側に
円環状に形成され九ものである。
リスタの断画構造を模式的に示したものである。Saに
おいて、デエ電、タ層r、Nペース層j、Pペース層1
、Nエヤ、りlI4からなる4つの半導体層からなるサ
イリスタの上記P工々、りll11表mtcはアノード
電極5が、11九N工ζ、夕陽40表面に祉カノード電
極Cが配設されており、メインサイリスタが形成されて
いる。上記N工ずVり層4は、Pペース聯10外周側に
円環状に形成され九ものである。
を九このメイyトランVスタ0P4−ス層IKは、複数
のΔイロ、トサイリスタを形成するエミ、り層yq、y
b、y・が相互に離間して同心円状に形成されており、
その中央部には受光部aが形成されている。
のΔイロ、トサイリスタを形成するエミ、り層yq、y
b、y・が相互に離間して同心円状に形成されており、
その中央部には受光部aが形成されている。
しかして今、このサイリスタO受光部IK光トリガ信号
hνを照射すると、これkようて発生する光電流I、h
はPペースjlJを横方向に流れ、メインサイリスタO
Nエヤツタ層4に設けられえ短絡部−を経由してカソー
ド電極6に流れる。このとき、上記光電流!phにより
てPペースjlJK発生する横方向電位差は、Δイ四。
hνを照射すると、これkようて発生する光電流I、h
はPペースjlJを横方向に流れ、メインサイリスタO
Nエヤツタ層4に設けられえ短絡部−を経由してカソー
ド電極6に流れる。このとき、上記光電流!phにより
てPペースjlJK発生する横方向電位差は、Δイ四。
トナイリスタONエミッタ層1a、Fb、Feを順方向
にバイアスする。この順方向/4イアス〇一番深い部分
、つtb受光部8の電圧がPペース−1とNエヤ、夕陽
Pa、Fb、r@との間に構成される接合部のビルトイ
ン−テンシャルO値に近付くと、NI2.夕陽F a
@ F b *r・からデペース111への電子の注入
が急増し、このl1II榮Δイロvトサイリスタは受光
部1の領域からターンオンする。このターンオン電流は
電極1 e ’aを経由して次段のノタイロ、トサイリ
スタに#I!れ、ハイr−)ドライブ電流として同dイ
二ットサイリスタを最適な条件でターンオンさせ為、そ
して同様にしてこのノ譬イロ、トサイリ誠夕のサイリス
タのターンオンによシ、第3illOΔイ0.トナイリ
スタが駆動され、更に仁れによってメインサイリスタが
ターンオン駆動されるヒとに1に為。
にバイアスする。この順方向/4イアス〇一番深い部分
、つtb受光部8の電圧がPペース−1とNエヤ、夕陽
Pa、Fb、r@との間に構成される接合部のビルトイ
ン−テンシャルO値に近付くと、NI2.夕陽F a
@ F b *r・からデペース111への電子の注入
が急増し、このl1II榮Δイロvトサイリスタは受光
部1の領域からターンオンする。このターンオン電流は
電極1 e ’aを経由して次段のノタイロ、トサイリ
スタに#I!れ、ハイr−)ドライブ電流として同dイ
二ットサイリスタを最適な条件でターンオンさせ為、そ
して同様にしてこのノ譬イロ、トサイリ誠夕のサイリス
タのターンオンによシ、第3illOΔイ0.トナイリ
スタが駆動され、更に仁れによってメインサイリスタが
ターンオン駆動されるヒとに1に為。
このようにして多数構成され−kdイロットナイサイタ
によって、ターンオン初期時に発生する過大な電力損失
を各ノ譬イ一ットサイリスタに分散させることにより、
ホットスーットの発生を防止L−%−’/at耐量の改
善を図ることが行われている。
によって、ターンオン初期時に発生する過大な電力損失
を各ノ譬イ一ットサイリスタに分散させることにより、
ホットスーットの発生を防止L−%−’/at耐量の改
善を図ることが行われている。
ところが、このよう1[来の多段増幅r−)構造のすイ
リスタにありては、次Oよう表欠点があった。
リスタにありては、次Oよう表欠点があった。
即ち、初段のパイロットサイリスタOPペース層10抵
抗値を大きくシ、光電流1.jK’りて発生するPペー
ス層1の横方向電位差を大きくすると、これにより光感
度C+”−)感度)O向上を図シ得るが、そ0反面、サ
イリスク主回路から混入する電圧ノイJeK対して誤点
弧し中すくなる。つtb、急峻な電圧上昇率を持つ電圧
ノイズがアノード電極5とカソード電極−関に加わると
、これにようて発生ずる変位電流が上記光電流Iphと
同じ経路を通る為、この結果光感度を高くすると電圧ノ
イJeKよりて娯点弧し島すくなる。この電圧ノイズに
対して誤点弧しないための許容最大dv/dt値がdマ
/at耐量と称されるものである。
抗値を大きくシ、光電流1.jK’りて発生するPペー
ス層1の横方向電位差を大きくすると、これにより光感
度C+”−)感度)O向上を図シ得るが、そ0反面、サ
イリスク主回路から混入する電圧ノイJeK対して誤点
弧し中すくなる。つtb、急峻な電圧上昇率を持つ電圧
ノイズがアノード電極5とカソード電極−関に加わると
、これにようて発生ずる変位電流が上記光電流Iphと
同じ経路を通る為、この結果光感度を高くすると電圧ノ
イJeKよりて娯点弧し島すくなる。この電圧ノイズに
対して誤点弧しないための許容最大dv/dt値がdマ
/at耐量と称されるものである。
一方、初段の・9イロ、トサイリスタONエミッタ響r
1の半径8を小さくシ、この領域で発生する変位電流の
量を抑制し、且つNエン、り97m直下のPペース層J
の抵抗値を大きくすることで、上記dマ/dt耐量を損
うことなしに光感度の向上を図ることができる。然し乍
らこのとき”/at耐量の゛′低下を防止する為に、初
段のIfイロットサイリスタで発生するスイッチング損
失を軽減することが必要となる。この点、前述し九よう
K p4イロ、トサイリスタの段数を増やすととKより
て、各段におけるスイッチング損失を少なくすることが
できbが、前記変位電流は光電流1.hと違って接合領
域の全面積に亘りて流れるから、メインサイリスタのN
エン。
1の半径8を小さくシ、この領域で発生する変位電流の
量を抑制し、且つNエン、り97m直下のPペース層J
の抵抗値を大きくすることで、上記dマ/dt耐量を損
うことなしに光感度の向上を図ることができる。然し乍
らこのとき”/at耐量の゛′低下を防止する為に、初
段のIfイロットサイリスタで発生するスイッチング損
失を軽減することが必要となる。この点、前述し九よう
K p4イロ、トサイリスタの段数を増やすととKより
て、各段におけるスイッチング損失を少なくすることが
できbが、前記変位電流は光電流1.hと違って接合領
域の全面積に亘りて流れるから、メインサイリスタのN
エン。
り層4の前記短絡部#に近付くに従−りてその値が大き
くなる。この為、ノ譬イロ、トサイリスタの段数を増し
九場合、逆に後段の・ダイロットサイズによる誤点弧が
生じ易くなると云う新たな問題が生じた。
くなる。この為、ノ譬イロ、トサイリスタの段数を増し
九場合、逆に後段の・ダイロットサイズによる誤点弧が
生じ易くなると云う新たな問題が生じた。
更にノ母イロ、トサイリスタの段数が増加すると、ター
ンオンに必要な最小7ノード電圧、つまり74ンガ電圧
が増加する傾向がある。このフィンガ電圧の大きなサイ
リスタを例えば並列運転すると、並列運転される各サイ
リスタの両端に印加されるアノード電圧が最初にターン
オンし九サイリスタのオン電圧によって決定されてしま
う為、フィンが電圧の更に大きい他のすイリスタがター
ンオンしなくなると云う不具合が生じる。このような各
種の問題は、上述した光サイリスタに限らず、通常の電
気トリガ式のサイリスタにも同様に存在する。
ンオンに必要な最小7ノード電圧、つまり74ンガ電圧
が増加する傾向がある。このフィンガ電圧の大きなサイ
リスタを例えば並列運転すると、並列運転される各サイ
リスタの両端に印加されるアノード電圧が最初にターン
オンし九サイリスタのオン電圧によって決定されてしま
う為、フィンが電圧の更に大きい他のすイリスタがター
ンオンしなくなると云う不具合が生じる。このような各
種の問題は、上述した光サイリスタに限らず、通常の電
気トリガ式のサイリスタにも同様に存在する。
本発明祉このような事情を考慮してなされたもので、そ
の目的とするところは、dv/1を耐量やフィンガ電圧
等の特性を損うことなしに光感度(r−)感度)の向上
と”/a を耐量の大輪な改善を図った実用性の高いサ
イリスタを提供すもことにある。
の目的とするところは、dv/1を耐量やフィンガ電圧
等の特性を損うことなしに光感度(r−)感度)の向上
と”/a を耐量の大輪な改善を図った実用性の高いサ
イリスタを提供すもことにある。
即ち本発明の概要は、複数の・ダイロットサイリスタの
各段のエヤ、タ電極を次段の?−)電極に電気的に結合
し、最終段の/fイロ、トサイリスタのニオツタ電極を
ペース層に設は九集電電極と共通化すると共に初段のノ
スイロ、トサイリスタを除く少なくとも1つの・譬イロ
、トサイリスタのペース層の幅を上記初段・母イc1.
トサイリスタのペース層の幅よシ小さくすることによっ
て、上述した目的を効果的に達成したものである。
各段のエヤ、タ電極を次段の?−)電極に電気的に結合
し、最終段の/fイロ、トサイリスタのニオツタ電極を
ペース層に設は九集電電極と共通化すると共に初段のノ
スイロ、トサイリスタを除く少なくとも1つの・譬イロ
、トサイリスタのペース層の幅を上記初段・母イc1.
トサイリスタのペース層の幅よシ小さくすることによっ
て、上述した目的を効果的に達成したものである。
以下、図面を参照して本発明の実施例につき説明する。
第2図は実施例に係るサイリスタの電極構造を示す平面
図で、第3図はその断面構成を模式的に示すものである
。サイリースタを構成する4、つの半導体層のうち、P
ペースaSには集電電極IIが設けられてお如、この集
電電極11に囲まれて第1および第2のノ譬イロットサ
イリスタ12・13が設けられている。第lのノ豐イロ
、トサイリスタ12は、受光部8の周囲に同心円状にN
エン、り層JJaを設け、仁のNエン、り層IJa上に
カソード電極JJbを設けて構成される。また第20ノ
中イロ、トサイリスタ13は、上記第1の/ダイロット
サイリスタ12を馬蹄形に囲み、且つ前記集電電極JJ
K囲まれてNエン、り層131を2条に形成し、このN
エミツタ層13 a上に形成されるエン、り電極11b
を集電電極11と共通化すると共に1Pベ一ス層3上に
e−)電極1s・を配設して形成される。しかして、こ
の第2の一9イロ、トサイリスタ13のr−)電極13
@は、前記第1の・臂イロ、トサイリスタ12のカソー
ド電極JJbに、AL 線等の導体14にょうて電気的
に接続され、第10ノ々イロ、)サイリスタ11のター
ンオン電流が@2のノ臂イロットサイリスタ13のr−
)電流として供給されるよう罠なっている。tたこの#
!20ノfイa、)サイリスタ13ON工i、夕層JJ
aの深さは第1の・臂イロ、トサイリスタ11のN工き
ツタ71117 aよシ深く設定゛されており、これに
より、そのPベース幅が初段のそれより小さくなるよう
に定められている。
図で、第3図はその断面構成を模式的に示すものである
。サイリースタを構成する4、つの半導体層のうち、P
ペースaSには集電電極IIが設けられてお如、この集
電電極11に囲まれて第1および第2のノ譬イロットサ
イリスタ12・13が設けられている。第lのノ豐イロ
、トサイリスタ12は、受光部8の周囲に同心円状にN
エン、り層JJaを設け、仁のNエン、り層IJa上に
カソード電極JJbを設けて構成される。また第20ノ
中イロ、トサイリスタ13は、上記第1の/ダイロット
サイリスタ12を馬蹄形に囲み、且つ前記集電電極JJ
K囲まれてNエン、り層131を2条に形成し、このN
エミツタ層13 a上に形成されるエン、り電極11b
を集電電極11と共通化すると共に1Pベ一ス層3上に
e−)電極1s・を配設して形成される。しかして、こ
の第2の一9イロ、トサイリスタ13のr−)電極13
@は、前記第1の・臂イロ、トサイリスタ12のカソー
ド電極JJbに、AL 線等の導体14にょうて電気的
に接続され、第10ノ々イロ、)サイリスタ11のター
ンオン電流が@2のノ臂イロットサイリスタ13のr−
)電流として供給されるよう罠なっている。tたこの#
!20ノfイa、)サイリスタ13ON工i、夕層JJ
aの深さは第1の・臂イロ、トサイリスタ11のN工き
ツタ71117 aよシ深く設定゛されており、これに
より、そのPベース幅が初段のそれより小さくなるよう
に定められている。
かくしてこのような構造を有するサイリスタの受光部8
に、今光トリガ信号hνを照射すると、その中央部空乏
層領域で発生する光w棺IphはPペース層3に流入す
る。そしてこのPペース層3では、光電流1.hはPペ
ース層3に設けた集電電極11を経由し、Pベース1i
lJとメインサイリスタのカソード電極6との短絡部9
を通って上記カソード電極6に流れることになる。この
とき、光電流I、hは第1の・母イロットサイリスタ1
2直下のPペース層3では、その横方向に流れることに
なり、この光電流Iphによりて発生するPベース横方
向電位差によって、第1の・ダイロ、トサイリスタ12
のNエミッタ層Jffiaが順方向にバイアスされるこ
とになる。しかしてこの順方向バイアスの一番深い電位
が、上記Nエミツタ層12aとPペース層3との1間の
接合部のビルトインポテンシャルの値に近付くと、Nエ
ミ、り層121からPベースl1ISへの電子の注入が
急増し、これによって第1の/#イロ、トサイリスfi
llがターンオンすることにガる。
に、今光トリガ信号hνを照射すると、その中央部空乏
層領域で発生する光w棺IphはPペース層3に流入す
る。そしてこのPペース層3では、光電流1.hはPペ
ース層3に設けた集電電極11を経由し、Pベース1i
lJとメインサイリスタのカソード電極6との短絡部9
を通って上記カソード電極6に流れることになる。この
とき、光電流I、hは第1の・母イロットサイリスタ1
2直下のPペース層3では、その横方向に流れることに
なり、この光電流Iphによりて発生するPベース横方
向電位差によって、第1の・ダイロ、トサイリスタ12
のNエミッタ層Jffiaが順方向にバイアスされるこ
とになる。しかしてこの順方向バイアスの一番深い電位
が、上記Nエミツタ層12aとPペース層3との1間の
接合部のビルトインポテンシャルの値に近付くと、Nエ
ミ、り層121からPベースl1ISへの電子の注入が
急増し、これによって第1の/#イロ、トサイリスfi
llがターンオンすることにガる。
この第1のノダイロ、トサイリスタ12のターンオンに
よって、そのターンオン電流1.1は前記導体14を介
してノ・イr−)ドライブ電流として第2のノ母イロ、
トサイリスタ13のf−)電極13eに印加され、これ
によって第2の・9イロ、トサイリスタ13がターンオ
ンすることに々る。その後、この第2のI#イロ、トサ
イリスタ11のターンオン電流I□は、集電電極11を
介し、メインサイリスタの短絡部9からそのカソード電
極6に流れることになる。このターンオン電流1p1は
、メインサイリスタのr−ト電流として機能するもので
あり、この結果メインサイリスタがターンオンすること
になる。
よって、そのターンオン電流1.1は前記導体14を介
してノ・イr−)ドライブ電流として第2のノ母イロ、
トサイリスタ13のf−)電極13eに印加され、これ
によって第2の・9イロ、トサイリスタ13がターンオ
ンすることに々る。その後、この第2のI#イロ、トサ
イリスタ11のターンオン電流I□は、集電電極11を
介し、メインサイリスタの短絡部9からそのカソード電
極6に流れることになる。このターンオン電流1p1は
、メインサイリスタのr−ト電流として機能するもので
あり、この結果メインサイリスタがターンオンすること
になる。
ところで、本構□造では、第20ノ譬・′イロットサイ
リスタ13のPベース幅が初段のノ譬イロットサイリス
タ12のPベース幅に比して狭く定められている。この
Pベース幅は、サイリスタのターンオン時間に強い影替
を与えるもので、一般にP5ヘース層の幅が狭い程、そ
のターンオン時間が短かい、従って本サイリスタ構造に
よれば%J11!1の/ダイロットサイリスタ12のタ
ーンオン電流1.1によって、第2の・母イロットサイ
リスタ13がターンオンす゛ると、この第2の/#イロ
、トサイリスタ13のターンオン電流1plが急激に増
加する。この結果、第2の・々イロットサイリスタ11
のターンオンに伴い、第1のノ譬イロットサイリスタ1
2の電流分担が急激に軽減されることになる。つtb、
第2の・ダイロ、トサイリスタ130ペース層の幅が狭
い為にそのターンオンがシャープであシ、従ってペース
層の幅が等しい従来構造のものに比して、・ダイロ、ト
サイリスタ群のターイオン特性が著しく改善される。
リスタ13のPベース幅が初段のノ譬イロットサイリス
タ12のPベース幅に比して狭く定められている。この
Pベース幅は、サイリスタのターンオン時間に強い影替
を与えるもので、一般にP5ヘース層の幅が狭い程、そ
のターンオン時間が短かい、従って本サイリスタ構造に
よれば%J11!1の/ダイロットサイリスタ12のタ
ーンオン電流1.1によって、第2の・母イロットサイ
リスタ13がターンオンす゛ると、この第2の/#イロ
、トサイリスタ13のターンオン電流1plが急激に増
加する。この結果、第2の・々イロットサイリスタ11
のターンオンに伴い、第1のノ譬イロットサイリスタ1
2の電流分担が急激に軽減されることになる。つtb、
第2の・ダイロ、トサイリスタ130ペース層の幅が狭
い為にそのターンオンがシャープであシ、従ってペース
層の幅が等しい従来構造のものに比して、・ダイロ、ト
サイリスタ群のターイオン特性が著しく改善される。
W!!、4図はパイロ、トサイリスタの段数Nと、この
段数の増加に伴う初段の・9イロy)サイリスタのター
ンオン電流最大値1.1fnの関係を示している。但し
、N−0は・昔イロットサイリスタを備えない通常構造
のサイリスタを示しており、特性aは第1図に示す従来
構造のもの、また特性すは本構造のものについてそれぞ
れ示している。
段数の増加に伴う初段の・9イロy)サイリスタのター
ンオン電流最大値1.1fnの関係を示している。但し
、N−0は・昔イロットサイリスタを備えない通常構造
のサイリスタを示しており、特性aは第1図に示す従来
構造のもの、また特性すは本構造のものについてそれぞ
れ示している。
この特性図から明らかなように、各I譬イロ。
トサイリスタのPベース幅が等しい従来構造のもので杜
、その構成段数Nの増加に伴い、初段のターンオン電流
最大値Ip1゜は直線的に減少するが、本発明構造の場
合、2段構造でIpl□を従来構造の半分以下にするこ
とができる。ちなみにIpl mを80(A)とするに
は、従来構造の場合、・ダイロ、トサイリスタの構成を
4段にしなければならない。
、その構成段数Nの増加に伴い、初段のターンオン電流
最大値Ip1゜は直線的に減少するが、本発明構造の場
合、2段構造でIpl□を従来構造の半分以下にするこ
とができる。ちなみにIpl mを80(A)とするに
は、従来構造の場合、・ダイロ、トサイリスタの構成を
4段にしなければならない。
このことから示されるように、本構造によれば、・9イ
ロ、トサイリスタの構成段数を増すことなしに、第1の
・セイロットサイリスタ12のt流分担を大幅に軽減す
ることができる。従って、第1の・ダイロットサイリス
タ1zの半径Rを小さくして、ここで発生する変位電流
を効果的に抑制することができ、またdマ/dth耐量
ヲ損うことなしにf−)感度(光感度)を向上させるこ
とが可能となる。しかも、・ダイGl、)サイリスタの
構成段数Nの増加に伴うフィンガ電圧の増加も未然に防
ぐことができる。
ロ、トサイリスタの構成段数を増すことなしに、第1の
・セイロットサイリスタ12のt流分担を大幅に軽減す
ることができる。従って、第1の・ダイロットサイリス
タ1zの半径Rを小さくして、ここで発生する変位電流
を効果的に抑制することができ、またdマ/dth耐量
ヲ損うことなしにf−)感度(光感度)を向上させるこ
とが可能となる。しかも、・ダイGl、)サイリスタの
構成段数Nの増加に伴うフィンガ電圧の増加も未然に防
ぐことができる。
更に本発明では、第20ノ9イロ、トサイリスタ13の
エミッタ電極JJbを集電電極IJと共通化しているか
ら、第2の・ぐイロットサイリスタ13の内部で発生す
る変位電流を全て集電電極11に集めることができる。
エミッタ電極JJbを集電電極IJと共通化しているか
ら、第2の・ぐイロットサイリスタ13の内部で発生す
る変位電流を全て集電電極11に集めることができる。
従って、第2の/母イロットサイリスタ13を設計する
に際して、その内部で発生する変位電流によるdマ/d
t耐量の低下を全く考慮する必要がない、この為、第2
のパイロ、トサイリスタ13のN工12り層13&の幅
および長さを十分大きく設定することができるから、そ
の初期ターンオン領域を十分に大きくすることができる
。これによシ、第2のノ譬イロy)サイリスタ13の電
流分担が増加することになるが、これによって”/a*
ti4量が低下することはない。
に際して、その内部で発生する変位電流によるdマ/d
t耐量の低下を全く考慮する必要がない、この為、第2
のパイロ、トサイリスタ13のN工12り層13&の幅
および長さを十分大きく設定することができるから、そ
の初期ターンオン領域を十分に大きくすることができる
。これによシ、第2のノ譬イロy)サイリスタ13の電
流分担が増加することになるが、これによって”/a*
ti4量が低下することはない。
かくしてここに、サイリスタに要求されるdv/at耐
量やフィンガ電圧等の主要な特性を損うことなしに、そ
の”/at耐量やダート感度(光感度)の向上を図るこ
とが可能となる。しかも、本構造り簡易に実現でき、そ
の実用釣利点も多大であり、従来構造に社期侍すること
のできない絶大なる効果を奏する。
量やフィンガ電圧等の主要な特性を損うことなしに、そ
の”/at耐量やダート感度(光感度)の向上を図るこ
とが可能となる。しかも、本構造り簡易に実現でき、そ
の実用釣利点も多大であり、従来構造に社期侍すること
のできない絶大なる効果を奏する。
尚、本発明は上記実施例に限定されるものではない、実
施例でL光トリが式O光サイリスタにつ色例示したが、
実施例にお秒る受光部jOペース層S上にr−)電極を
設は九構造の電気トリガ式のものにも同様に適用できる
ことは云うまでもない、tた実施例で社2段構成され九
ノ9イロ、トサイリスタを偏えたも+iDKつき説明し
たが、その構成段数やノダイロ、トサイリスタ形状岬は
仕様に応じて定めればよいもOである。
施例でL光トリが式O光サイリスタにつ色例示したが、
実施例にお秒る受光部jOペース層S上にr−)電極を
設は九構造の電気トリガ式のものにも同様に適用できる
ことは云うまでもない、tた実施例で社2段構成され九
ノ9イロ、トサイリスタを偏えたも+iDKつき説明し
たが、その構成段数やノダイロ、トサイリスタ形状岬は
仕様に応じて定めればよいもOである。
豐するに本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で柚々変
形して実施することができる。
形して実施することができる。
i1図は従来のサイリスタの一例を示す構成図、−1図
は本発明の一実施例を示すサイリスタの電極構造平面構
成図、第3114は同実施例の断面構成図、第4図は/
ぐイロットサイリスタの構成段数とターンオン電流最大
値との関係を示す特性図である。 3・・・Pペース層、4・・・Nエミツタ層、5・・・
アノード電極、C・・・カソード電極、8・・・受光部
、9・・・短絡部、11・・・集電電極、12・・・第
1の・豐イロ、トサイリスタ、13・・・第2の・曽イ
ロットサイリスタ、14・・・導体、jJalZJa・
・・Nエミツタ層、13e・−1”−)電極。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第3図 第2図 第4図 N (jlllX)
は本発明の一実施例を示すサイリスタの電極構造平面構
成図、第3114は同実施例の断面構成図、第4図は/
ぐイロットサイリスタの構成段数とターンオン電流最大
値との関係を示す特性図である。 3・・・Pペース層、4・・・Nエミツタ層、5・・・
アノード電極、C・・・カソード電極、8・・・受光部
、9・・・短絡部、11・・・集電電極、12・・・第
1の・豐イロ、トサイリスタ、13・・・第2の・曽イ
ロットサイリスタ、14・・・導体、jJalZJa・
・・Nエミツタ層、13e・−1”−)電極。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第3図 第2図 第4図 N (jlllX)
Claims (2)
- (1) 導電蓋を交互に異ならせて積鳴された4つO
半導体層からなるメインサイリスタのペース層中に上記
メインサイリスタの工tyI層を除く他の3つの半導体
層を共有する複数のパイロットサイリスクの工電、タ層
を前記メインサイリスIのニオ、り層から分離し、1’
)このメインサイリスタの二電、タ層と同導電蓋にそれ
ぞれ形成してなるサイリスタKThいて、上記各パイロ
ットサイリスクをメインナイリスタOエイ、タ層に隣接
するペース層状に設は九集電電極の内側に配置し、且つ
各dイーyトティリスタのエヤ、り層に挾重れるペース
層上にそれぞれメート電極を形成し、これらの/4イロ
、トサイリスタor−トw弊を前段のΔイロットサイリ
スタO工電ツタ層上に設けられ九エイツタ電極に順次電
気的に接続すると共に、最終段Odイロットサイリスタ
O予電シメ電極を前記集電電極と共通化し、且つ初段O
Δイg、)サイリスクのペース層幅に比して他の少を(
とも1)0Δイロ、トナイリスタのペース層幅を小さく
し九ことを特徴とすゐサイリスク。 - (2) 初段の/奢イtlットtイリスクは、光トリ
ガ信号を受けて点弧駆動されるものである特許請求の範
囲第1項記載Otイνスタ。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56101594A JPS583283A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | サイリスタ |
DE8282105664T DE3268107D1 (en) | 1981-06-30 | 1982-06-25 | Thyristor |
EP19820105664 EP0069308B1 (en) | 1981-06-30 | 1982-06-25 | Thyristor |
CA000406096A CA1175952A (en) | 1981-06-30 | 1982-06-28 | Thyristor |
US06/744,655 US4649410A (en) | 1981-06-30 | 1985-06-14 | Radiation controllable thyristor with multiple non-concentric amplified stages |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56101594A JPS583283A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | サイリスタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS583283A true JPS583283A (ja) | 1983-01-10 |
JPH0136262B2 JPH0136262B2 (ja) | 1989-07-31 |
Family
ID=14304702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56101594A Granted JPS583283A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | サイリスタ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4649410A (ja) |
JP (1) | JPS583283A (ja) |
CA (1) | CA1175952A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60106170A (ja) * | 1983-11-15 | 1985-06-11 | Toshiba Corp | 過電圧保護機能付サイリスタ |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7020773B1 (en) * | 2000-07-17 | 2006-03-28 | Citrix Systems, Inc. | Strong mutual authentication of devices |
US6986040B1 (en) | 2000-11-03 | 2006-01-10 | Citrix Systems, Inc. | System and method of exploiting the security of a secure communication channel to secure a non-secure communication channel |
US8536617B2 (en) * | 2011-12-16 | 2013-09-17 | General Electric Company | Optically triggered semiconductor device and method for making the same |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3622845A (en) * | 1969-05-01 | 1971-11-23 | Gen Electric | Scr with amplified emitter gate |
DE2211116A1 (de) * | 1972-03-08 | 1973-09-13 | Semikron Gleichrichterbau | Steuerbares halbleiterbauelement mit vier schichten abwechselnd entgegengesetzten leitfaehigkeitstyps |
DE2356906A1 (de) * | 1973-11-14 | 1975-05-22 | Siemens Ag | Thyristor |
SU793421A3 (ru) * | 1976-06-02 | 1980-12-30 | Ббц Аг Браун | Фототиристор |
IT1087185B (it) * | 1976-10-18 | 1985-05-31 | Gen Electric | Raddrizzatore controllato avente alta sensibilita' di elettrodo di comando e alta capacita' di dv/dt |
CS208929B1 (en) * | 1977-08-23 | 1981-10-30 | Jaroslav Homola | Multilayer semiconductor device |
DE2739187C2 (de) * | 1977-08-31 | 1981-10-29 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Steuerbarer Halbleitergleichrichter mit einer Mehrzahl von Schichten unterschiedlichen Leitfähigkeitstyps |
DE2843960A1 (de) * | 1978-10-09 | 1980-04-10 | Licentia Gmbh | Stoerotentialkompensierter thyristor mit mindestens vier zonen unterschiedlichen leitfaehigkeittyps |
-
1981
- 1981-06-30 JP JP56101594A patent/JPS583283A/ja active Granted
-
1982
- 1982-06-28 CA CA000406096A patent/CA1175952A/en not_active Expired
-
1985
- 1985-06-14 US US06/744,655 patent/US4649410A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60106170A (ja) * | 1983-11-15 | 1985-06-11 | Toshiba Corp | 過電圧保護機能付サイリスタ |
JPH0210585B2 (ja) * | 1983-11-15 | 1990-03-08 | Tokyo Shibaura Electric Co |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1175952A (en) | 1984-10-09 |
US4649410A (en) | 1987-03-10 |
JPH0136262B2 (ja) | 1989-07-31 |
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