JPS5828322B2 - 閉ル−プ浸出方法および装置 - Google Patents

閉ル−プ浸出方法および装置

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JPS5828322B2
JPS5828322B2 JP57093942A JP9394282A JPS5828322B2 JP S5828322 B2 JPS5828322 B2 JP S5828322B2 JP 57093942 A JP57093942 A JP 57093942A JP 9394282 A JP9394282 A JP 9394282A JP S5828322 B2 JPS5828322 B2 JP S5828322B2
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reaction
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ウオルター・ジエイ・ロウズマス
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Kelsey Hayes Co
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/08Apparatus, e.g. for photomechanical printing surfaces

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、浸出組立体および物体から外層を溶解させる
ための方法に関する。
粉末金属を固めるために、いくつかの方法が案出されて
きた。
そのうちの1つの方法では、粉末金属の厚い壁の容器を
、圧力釜又は機械的圧力によって、熱及び圧力を加える
ことによって熱凝固させる。
熱凝固の粉、固った粉末金属から容器を取り除くことが
必要となる。
一般に、容器の除去は、機械加工及び浸出操作の組み合
わせによって達成される。
先行技術の浸出操作は非常におそい速度で進行する。
本発明は、低炭素鋼の容器材料を、前に使用された方法
よりも速い速度で取り除くことができる改良された浸出
装置と方法を提供する。
閉ループ組立体が、所定の沸点を有する浸出溶液に物体
をさらすことによって、物体から外層を溶解させる。
組立体は、浸出溶液と物体を収容するようになっている
内室を有する密封反応容器を含む。
循環装置が、沸騰した浸出溶液蒸気および反応ガス状生
成物を受は入れ、蒸気を凝縮させ、2次的な特徴として
蒸気を反応容器に戻すため反応容器に連結される。
反応容器内の物体を、浸出溶液の沸点以上に加熱し物体
の腐食速度を増大させるために、ヒータを含む。
又、本発明は、物体から外層を溶解する方法を含み、そ
の方法は、浸出溶液を収容する密封反応容器の内室に物
体を置き、物体を浸出溶液の沸点以上の温度まで加熱し
て物体の外層の腐食速度を増大させ、循環装置に沸騰し
た浸出溶液蒸気を導びきこれを凝縮し、収集した浸出溶
液を反応容器に選択的に戻すことを含む。
1966年7月16日に特許された、米国特許第3,2
61,733号は、エツチング浴内で、金属コアを溶解
する方法を示しており、この場合、金属コアは低炭素鋼
であり、エツチング浴は硝酸溶液である。
冷却コイルが、反応混合の泡立ちを制御するために使用
され、ガス浄化装置が、反応によって発生したガスを浄
化するために使用される。
1941年3月18日に特許された米国特許第2.23
5,658号は、反応容器から沈澱物と酸の溶液を連続
的に排出し、そしてそれを静止装置へ導ひくことによっ
て再利用される酸溶液の使用を示している。
次に蒸気は冷却コイルを含むコンデンサに通り、コンデ
ンサの剤は反応容器に戻される。
上に引用した特許はいずれも、酸溶液を沸騰させること
によって生じた蒸気を収集しこれを凝縮し、反応容器に
戻す閉ループ浸出装置を示していない。
更に、どちらの特許も、物体の温度を、浸出溶液の沸点
温度以上に加熱して、腐食速度を増大させる方法を示し
ていない。
本発明の他の利益は添付図面に関連して考慮されるとき
、以下の詳細な説明によってよりよく理解されるように
なるので、容易に予想されるであろう。
本発明によって得られた結果を説明するために、理論は
、第2図に示すように、反応容器18内で物体11と腐
食性酸16との発熱反応中に、浸出している物体11の
まわりに泡11が形成されることの観察を含む。
泡17は、実際には、酸の層によってとり囲こまれた逃
出ガスである。
池内のガス12は、物体11を絶縁するので、物体温度
は、まわりの酸の温度以上に増加する。
従って、物体11を囲む泡17は、物体11の囲りの絶
縁体をなし、この絶縁体は物体を囲りの酸16の温度よ
り十分に高い温度に維持する。
物体11を、囲りの酸16の温度以上の温度に維持する
ことによって、浸出反応速度が増大する。
特に、発熱浸出反応によって囲りの酸および物体の温度
を高める熱を生じる。
例えば、典型的な反応では、反応によって最初発生した
熱によって酸を沸騰させることができる。
腐食性層の浸出点の温度が高ければ高い程、浸出速度が
増大する。
時々、物体11の最外層が物体から浸出されるが、物質
が物体11の囲りの割れ目に残る。
発生した抱1Tはこれらの割れ目に入り、かくして、上
述したような浸出反応を促進する。
しかしながら、最も外の腐食性層が物体から浸出され、
物体のある領域には泡が全熱ないとき、物体はこの領域
のまわりの酸へ熱を逃がす。
さらに、反応容器を絶縁することは実際的でなく、それ
放熱が酸から逃げる。
かくして、最外層を有する他の領域の浸出反応速度が減
少する。
従って、本発明の結果、物体は浸出溶液の温度以上に加
熱されて最外腐食性層との浸出反応速度を維持し及び/
又は増大させる。
その結果、反応速度が維持され、残留物質が物体11か
ら浸出される。
換言すれば、反応の速度は、物体の表面の性質と適当な
外部環境に依存する。
本発明は適当な外部環境を提供する。
先行技術の浸出装置は、浸出反応の腐食速度を著しく増
大させるために、浸出溶液の沸騰温度以上に物体の温度
を上昇させる装置又は方法を提供していなかった。
本発明は、浸出反応の腐食速度を著しく増大させるため
に、浸出溶液の沸騰温度以上に物体の温度を増加させる
ことのできる閉鎖系を提供するという点で先行技術の改
良である。
本発明によって構成された閉ループ組立体を一般に数字
10で示す。
組立体10は、スチール製容器12を硝酸溶液にさらす
ことによって、固った粉末金属14から低炭素鋼の容器
12を溶解ささせるようになっており、硝酸溶液は所定
の沸点を有している。
この組立体はいろいろな浸出溶液で他の物質を溶解させ
るのに、使用することができる。
例えば、アルミニウム層は水酸化ナトリウム溶液で溶解
させることができる。
さらに、本発明は、物体の内側の物質を溶解させるのに
使用することができる。
例えば、流体ダイスは物体の中に配置された内挿入体を
含むことができる。
本発明は挿入体を溶解させるのに使用することができる
組立体10は、一般的に数字18で示され、硝酸16を
入れるようになっている内室20を有する密封反応容器
を含む。
容器は、酸16を収容するための容器22と、密封蓋即
ちカバ一部材24とからなる。
一般的に、数字25で示す循環装置は、沸騰した浸出溶
液蒸気およびガス状反応生成物を受は入れ、蒸気を凝縮
し、これを反応容器18へ戻すため反応容器18に連結
される。
循環装置25は、第1の端部分38と、第2の端部分3
0とを夫々有する第1の導管部材26を含む。
第1部の端部分28は、反応容器18に操作的に連結さ
れている。
循環装置25は更に、一般的に数字32で示すコンデン
サを含む。
コンデンサは、硝酸の蒸気を反応容器から第1の導管部
材26を通して集収するようになっている。
コンデンサ32は冷却ジャゲット即ち容器34と冷却コ
イル36とを含む。
冷却コイル36は、第1の導管部材26の第2の端部部
分30に操作的に連結され、又はこれと流体連通状態を
なしている。
冷却コイル36は、冷却ジャケット34の中に配置され
る。
冷却ジャケット34は、第1の冷却コイル36のまわり
に冷却剤を循環させるようになっている。
ジャケット34は、循環装置に連結されるようになって
いる冷却剤入口38と冷却剤出口40とを含む。
水のような、普通の冷却剤を、この装置に使用すること
ができる。
循環装置25は更に、導管44によって、第1の冷却コ
イル36に操作的に連結され、又はそれと流体連通状態
をなす貯留容器42を含む。
貯留容器42は、コンデンサ32で凝縮された硝酸を貯
えるようになっている。
第2の導管部材46は、貯留容器42と反応容器18と
の間に操作的に連結され、それらの間に流体連通を確立
する。
この第2導管部材46は第2の導管46を選択的に開閉
して貯留容器42から反応容器18への硝酸16の流量
を制御するための、一般的に数字48で示す制御装置を
含む。
言い換えれば、制御装置48は貯留容器42から、反応
容器18への硝酸16の流量を制御するバルブであり、
かくして、閉ループ系を完成する。
一般的に数字50で示すガス浄化装置が貯留容器42に
操作的に連結されている。
ガス浄化装置は物体14の外層12の浸出によるガス状
生成物を浄化するようになっている。
ガス浄化装置は、ガスを大気中に放出する前に不純物を
取り除き、触媒作用で危険なガスを無害なガスに変換し
、ガスを清浄にするための種々の容器からなる。
この装置は、反応生成物を中和し、触媒作用で、反応生
成物を無害な生成物に変換する反応化学液体を収容する
いくつかの容器52を含んでもよい。
容器は酸性のガスを中和するための石灰溶液を収容する
ことができる。
容器52は適当なチューブ54で相互に連結される。
更に、容器56を、容器52と直列に結合し、容器56
は、活性炭のような固体の化学反応体又は、ガスを大気
中に放出する前に、ガス状生成物を更に浄化しきれいに
するための自動車の触媒変換器と同様な装置を収容する
ようになっている。
全組立体10は、腐食性の蒸気にさらされやすいので、
導管とチューブのみならず、室および容器の内部は、強
い浸出溶液および浸出反応の化学生成物に不活性でなけ
ればならない。
一般的に、ステンレス鋼又はガラス内張り容器およびガ
ラスチューブが使用される。
第2の冷却コイル58が、反応容器18の内室20の中
に配置される。
第2の冷却コイル58は冷却剤人口60と冷却剤出口6
2とを含む。
第2の冷却コイル58は、容器18内で生じる浸出溶液
の泡立ちの制御を行う。
過剰な泡立ちが反応容器18内で生じると、冷却剤を、
第2の冷却コイルを通して送り、泡立ちを減少させる。
一般に数字64で示す電気抵抗熱プレートは、固まった
粉末金属14から低炭素鋼容器12の溶解を容易にする
ため、反応容器18に接して配置され、硝酸16の所定
の沸点以上に物体11を加熱するための加熱要素66を
含む。
加熱要素66は、容器内の物体11の位置と反対側の容
器18の底外面に係合している。
一般に、反応が始まると、物体11の広い領域は酸16
にさらされる。
この初めの外部反応は、時々、十分な熱を生じるので、
外部熱は必要とされない。
しかしながら、反応が進行し、物体11の腐食性領域が
減少すると、反応によって発生する全体の熱は減少する
そこで、外部の熱を加え、それによって反応速度を増大
させる。
かくして、組立体10は、低炭素鋼層12と硝酸16と
の間の反応速度を、硝酸の沸点以上の物体の温度上昇に
よって、増大させる閉鎖系を提供する。
更に、物体を絶縁して物体を、囲りの酸より著しく高い
濃度に維持する環境が作られる。
本発明は物体11を、所定の沸点を有する浸出溶液16
にさらすことによって、物体11から層12を溶解する
方法を提供する。
この方法は、浸出溶液16を含む密封反応容器18の内
室20に、物体11を置くことを含む。
言い換えれば、物体11は、浸出溶液16に浸すために
、反応室18内に置かれる。
物体11を、浸出溶液16の沸点以上の温度まで加熱し
て、物体11の外層12の腐食速度を増大させる。
浸出溶液として硝酸−水溶液を使用するならば、物体は
149°C(3000F)以上の温度まで上昇する。
物体11を極めて高い温度にさらすことによって腐食速
度(外層12と硝酸16との間の反応速度)は、浸出溶
液の速度が、一般的に79.4℃(175°F)から9
3.3℃(200’F)まで上昇する先行技術の方法に
比較して著しく増大する。
図面に示すように、ヒータの加熱要素66が、反応容器
の外面に接して置かれる。
変形例としては、誘導コイルを反応容器18のまわりに
置いて、物体11を加熱しても良い。
変形例としては、反応室18の底は、水銀72で満され
た凹部70を含んでいてもよい。
物体11は凹部TOの中に置かれる。
加熱要素64は凹部TOの外面と直接接触して置かれる
物体11は水銀T2による熱伝導を介して加熱される。
この装置の目的は、酸16にさらされる加熱水銀T2の
最少領域を提供することにある。
物体11を加熱する他の方法は、加熱バスケット内に物
体を配置することを含み、バスケットは、加熱源に電気
的に接続される。
物体を加熱するための前述した装置の4つのすべては、
物体11を、まわりの酸の沸点以上に物体11を直接加
熱する熱源を提供する。
他の方法を、本発明に従って同様の結果を達成するため
に、使用することもできる。
沸騰した浸出溶液を、循環装置25に案内し、これを凝
縮し、選択的に反応容器18に戻す。
特に、沸騰した浸出溶液の蒸気を反応容器18から、第
1の冷却コイル36に循環させる。
水のような冷却剤を、冷却ジャケット34を通して、第
1の冷却コイル36のまわりに循環させ、それによって
、コイル36内で、浸出溶液16を凝縮する。
凝縮した浸出溶液を、貯留容器42に集成し、これを貯
蔵する。
最後に、浸出溶液16を選択的に反応室18へ戻し、室
18内の浸出溶液16の所定の水準を維持する。
この方法は、更に反応容器18内から第1の冷却コイル
36への温度の調節を含む。
水のような冷却剤を、冷却ジャケット34を通してかつ
第1の冷却コイル36のまわりに循環させ、それによっ
て、コイル36内で浸出溶液16を凝縮する。
凝縮した浸出溶液を、貯留容器42内に収集し、これを
貯蔵する。
最後に、浸出溶液16を選択的に反応室18へ戻し、室
18内の浸出溶液16の所定の水準を維持する。
この方法は、更に、ポンプで送られた冷却剤を有する冷
却コイル58を配置することによって、反応容器18の
内室20内の温度を制御することを含む。
言い換えれば、反応室18への2つの温度制御入力があ
る。
すなわち、ヒータ64と冷却コイル58の2つである。
反応室18内の物体11の温度を、浸出溶液16の沸点
以上に上昇させるために、ヒータを使用する。
反応室18内の温度が、浸出溶液16の過度な泡立ちを
引き起すように上昇するならば、冷却剤を冷却コイル5
8を通して送り、泡立ちを減する。
通常、浸出溶液1′6と、物体の外層12との反応によ
って不純物および危険なガスを含むガス状生成物を発生
するから、本方法は、更に、循環装置25内で、凝縮し
た浸出溶液からガス状廃棄生成物を浄化することを含む
前に述べたように、この方法は、ガス状廃棄物を大気に
放出する前に、不純物を取り除き、触媒によって、危険
なガスを無害なガスに変換し、ガスを浄化するための一
連の容器52にガス状廃棄物を通すことを含む。
本発明を図示した方法によって説明したが、使用した用
語は限定では説明の言葉の性質をもつことを理解すべき
である。
明らかに、本発明の変形と変更が上記内容に照して可能
である。
従って、特許請求の範囲の観点において、参照数字は制
限的なものではなく、明確に説明したものとは別に、発
明を実施することができることを理解すべきである。
本発明は下記の如き態様によって実施することができる
1、反応容器18は、前記内室20内の温度を選択的に
下げるため内室20内に配置された冷却装置58を有す
る。
2、再循環装置25は、物体11の浸出から生じるガス
状生成物を浄化するためのガス浄化装置50を有する。
3、加熱装置64は、前記反応容器18の内部にある物
体11の位置と反対側で、前記反応容器の外部に隣接し
て配置される加熱要素66を有する。
4、反応容器18は、凹部部分70を有する床を含み、
前記凹部部分10は、物体11と前記凹部部分70との
間に水銀γ2を含むようになっており、前記加熱要素6
6が、前記凹部部分70の外部に直接隣接するように配
置される。
5、再循環装置25は、前記反応容器18からの浸出溶
液蒸気を捕獲し、これを凝縮するようになっているコン
デンサ32を有する。
6、コンデンサ32は冷却ジャケット34と第1の冷却
コイル36とを有し、第4の冷却コイル36は、前記反
応容器18に操作的に連結されかつ前記冷却ジャケット
34内に配置され、それによって前記冷却ジャケット3
4は、浸出溶液蒸気の凝縮を容易にけるため、前記第1
の冷却コイル36のまわりに冷却剤を循環させる。
7 再循環装置25は、前記コンデンサ32内に集成さ
れた凝縮された浸出溶液を貯留するための前記コンデン
サ32に操作的に結合された貯留容器42を有する。
8、再循環装置25は、前記貯留容器42と前記反応容
器18との間に操作的に連結され、前記貯留容器42か
ら前記反応容器18への浸出溶液16の流量を制御する
ため、前記導管46を選択的に開閉するための制御装置
48を含む導管部材46を有する。
9、冷却装置58は、前記反応容器18の内室20内に
配置され、冷却剤人口60と冷却剤出口62を含む第2
の冷却コイル58を有し、この冷却コイルは冷却流体を
循環させるようになっている。
10、鋼製の容器12を所定の沸点を有する硝酸溶液1
6にさらすことによって、固った粉末金属14から低炭
素鋼容器12を溶解させるようになっている閉ループ組
立体10において、前記組立体10は、硝酸16を収容
するようになっている内室20を含む密封反応容器18
と、前記反応容器18に操作的に連結されている第1の
端部分28および第2の端部分30を有する第1の導管
部材26と、前記反応容器18から硝酸蒸気を収集する
ようになっており、冷却ジャケット34及び冷却コイル
36を有するコンデンサ32と、前記冷却コイル36は
、前記冷却ジャケット34が、前記第1の冷却コイル3
6のまわりに冷却剤を循環させるように、前記第1の導
管26の前記第2の端部分30に操作的に連結されかつ
前記冷却ジャケット34内に配置され、前記第1の冷却
コイル36に操作的に連結され、前記コンデンサ32内
に凝縮された硝酸16を収容するようになっている貯留
容器42と、前記貯留容器42及び前記反応容器18の
間に操作的に連結され、貯留容器42から前記反応容器
18への硝酸16の流量を制御するため、前記第2の導
管46を選択的に開閉するための制御装置48を含む第
2の導管部材42と、前記貯留容器42に操作的に連結
され、物体11の浸出によって生ずるガス状生成物を浄
化するようになっているガス浄化装置50と、前記反応
容器18の前記内室20内に置かれ、前記第2の冷却コ
イル58が冷却流体を循環させるように、冷却剤人口6
0及び冷却剤出口62を含む第2の冷却コイル58と、
固った粉末金属14から低炭素鋼容器12の溶解を容易
にするため硝酸16の所定の沸点以上に物体11を加熱
するため、前記反応容器18の外部に係合する加熱要素
66とからなることを特徴とする組立体。
11、第2の冷却コイル58を配置し、冷却剤をポンプ
によって送ることによって、反応容器18の内室20内
の温度を制御する。
12、循環装置内の凝縮された浸出溶液からガス状廃棄
物を浄化する。
13、沸騰した浸出溶液蒸気を反応容器1Bから循環装
置25の第1の冷却コイル36へ循環させ。
第1の冷却コイル36のまわりに冷却剤を循環させて、
浸出溶液16を凝縮する。
14、冷却コイル36に操作的に連結される貯留容器4
6に、凝縮された浸出溶液を収集し、これを収容し、浸
出溶液16を、反応容器18に選択的に戻して、浸出溶
液16の所定の水準を維持する。
15、物体11を温度93.3℃(200’F)以上ま
ず加熱する。
16、ヒータ64の加熱要素66を、物体11の位置の
反対側の反応容器18の外面に隣接して位置決めする。
【図面の簡単な説明】
第1図は本装置の横断面の概略正面図である。 第2図は、反応容器の断片的な拡大横断面である。 第3図は、反応容器の第2の実施例の断片的な拡横断面
である。 10・・・・・・閉鎖ループ組立体、11・・・・・・
物体、12・・・・・・層、16・・・・・・浸出溶液
、18・・・・・・密封反応容器、20・・・・・・内
室、25・・・・・・再循環装置、32・・・・・・コ
ンデンサ、34・・・・・・冷却ジャケット、36・・
・・・・第1の冷却コイル、42・・・・・・貯留容器
、46・・・・・・導管部材、50・・・・・・浄化装
置、58・・・・・・第2の冷却コイル、60・・・・
・・冷却剤入口、62・・・・・・冷却剤出口、66・
・・・・・加熱要素、10・・・・・・凹部部分、72
・・・・・・水銀。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 物体11を所定の沸点を有する浸出溶液16にさら
    すことによって、物体11から層12を溶解させる方法
    において、浸出溶液16を収容する反応容器18の内室
    20の中に物体11を置き、物体11の層12の腐食速
    度を増すために物体11を浸出溶液16の沸点以上の温
    度に加熱することを特徴とする方法。 2 物体11を、所定の沸点を有する浸出溶液16にさ
    らすことによって物体11から層12を溶解させるよう
    になっており、浸出溶液16と物体11を収容するよう
    になっている内室20を含む反応容器18を備える組立
    体10において、前記反応容器18内の物体11を浸出
    溶液16の沸点以上に加熱するための加熱装置64を有
    することを特徴とする組立体。
JP57093942A 1981-06-01 1982-06-01 閉ル−プ浸出方法および装置 Expired JPS5828322B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/268,878 US4383884A (en) 1981-06-01 1981-06-01 Closed loop leaching system

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Publication Number Publication Date
JPS5816004A JPS5816004A (ja) 1983-01-29
JPS5828322B2 true JPS5828322B2 (ja) 1983-06-15

Family

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