JPS58223054A - イオン電極用基体およびイオン電極 - Google Patents
イオン電極用基体およびイオン電極Info
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- JPS58223054A JPS58223054A JP57104984A JP10498482A JPS58223054A JP S58223054 A JPS58223054 A JP S58223054A JP 57104984 A JP57104984 A JP 57104984A JP 10498482 A JP10498482 A JP 10498482A JP S58223054 A JPS58223054 A JP S58223054A
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- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
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- G01N27/30—Electrodes, e.g. test electrodes; Half-cells
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■1発明の背景
〔技術分野〕
この発明はイオン電極用基体およびイオン電極に係り、
特に、溶液中のイオン濃度を電極電位応答または電流応
答で測定するイオン電極用の基体およびこのような電極
基体を用いたイオン電極に関する。
特に、溶液中のイオン濃度を電極電位応答または電流応
答で測定するイオン電極用の基体およびこのような電極
基体を用いたイオン電極に関する。
m液中のイオン例えば水素イオンの濃度を測定するイオ
ン成極(イオンセンサー)として現在知られているもの
は、その感応膜が固体電解質であるか、イオン交換液を
主体とするかによって固体膜型電極と液体模型電極とに
大別される。溶液中のイオン濃度の測定は、これら電極
および基準電極(参照電極)を当該溶液に浸漬し、両送
極間の電位差を求めることからなる。
ン成極(イオンセンサー)として現在知られているもの
は、その感応膜が固体電解質であるか、イオン交換液を
主体とするかによって固体膜型電極と液体模型電極とに
大別される。溶液中のイオン濃度の測定は、これら電極
および基準電極(参照電極)を当該溶液に浸漬し、両送
極間の電位差を求めることからなる。
しかしながら、上記従来のイオン電極はいずれも、ガラ
ス電極と同様、内部基準液室を必要とする。したがって
、これら電極には、内部基準液が漏れたシ、測定温度の
影響を受けやすい等の欠点があった。また、内部基準液
室を設ける必要があるため、その微小化には限度があっ
た。
ス電極と同様、内部基準液室を必要とする。したがって
、これら電極には、内部基準液が漏れたシ、測定温度の
影響を受けやすい等の欠点があった。また、内部基準液
室を設ける必要があるため、その微小化には限度があっ
た。
このような従来のイオン電極の欠点を解決するものとし
て、本出願人は、導電体(特に白金)表面に窒素含有芳
香族化合物あるいはヒドロギシ芳香族化合物から誘導さ
れた重合体膜を直接被着してなるイオンセンサーあるい
はPHセンサーを先に出願した(%願昭56−4295
号、同56−129750号および同56−15089
5号)。これら特許出願に開示したイオンセンサーある
いはPHセンサーは、従来のイオン電極の考え方とは全
く異なり、導電体表面を重合体で化学修飾するというこ
れまでほとんどおこなわれていなかった技術を利用して
いる。この化学修飾の技術によって導電体被覆膜は溶存
イオ、ン種罠対し選択的な透過性を持ち、また表面の腐
食や溶解を防止し、導電体は溶液中のイオン濃度に対し
て選択的に電極電位または電流変化で応答するという全
く新しい機能を発揮する。このイオンセンサーは重合体
で化学修飾した導電体の機能のうち特に、イオン濃度に
対する応答性を利用したものである。これらイオンセン
サーは、内部基準液室を設ける必要がないので、導電体
の加工限度まで微小化できζ広範囲のp)(領域でネル
ンストの式を満足する等積々の利点を有する。
て、本出願人は、導電体(特に白金)表面に窒素含有芳
香族化合物あるいはヒドロギシ芳香族化合物から誘導さ
れた重合体膜を直接被着してなるイオンセンサーあるい
はPHセンサーを先に出願した(%願昭56−4295
号、同56−129750号および同56−15089
5号)。これら特許出願に開示したイオンセンサーある
いはPHセンサーは、従来のイオン電極の考え方とは全
く異なり、導電体表面を重合体で化学修飾するというこ
れまでほとんどおこなわれていなかった技術を利用して
いる。この化学修飾の技術によって導電体被覆膜は溶存
イオ、ン種罠対し選択的な透過性を持ち、また表面の腐
食や溶解を防止し、導電体は溶液中のイオン濃度に対し
て選択的に電極電位または電流変化で応答するという全
く新しい機能を発揮する。このイオンセンサーは重合体
で化学修飾した導電体の機能のうち特に、イオン濃度に
対する応答性を利用したものである。これらイオンセン
サーは、内部基準液室を設ける必要がないので、導電体
の加工限度まで微小化できζ広範囲のp)(領域でネル
ンストの式を満足する等積々の利点を有する。
しかしながら、上記イオンセンサーあるいは一センサー
は、平衡電位に達するまでの速度(応答速度)、再現性
等においてなお改善の余地があることが判明した。
は、平衡電位に達するまでの速度(応答速度)、再現性
等においてなお改善の余地があることが判明した。
10発明の目的
したがって、この発明の第1の目的は、応答速度、再現
性および平衡電位値の安定性をさらに高めたイオン電極
を提供することができるイオン′成極用基体を提供する
ことにある。
性および平衡電位値の安定性をさらに高めたイオン電極
を提供することができるイオン′成極用基体を提供する
ことにある。
また、この発明の第2の目的は上記のようなイオン電極
用基体を用いたイオン電極であって、応答速度、再現性
および平衡電位値の安定性がさらに向上したイオン電極
を提供することにある。
用基体を用いたイオン電極であって、応答速度、再現性
および平衡電位値の安定性がさらに向上したイオン電極
を提供することにある。
この発明によれば、溶液中のイオン濃度を電極電位応答
または電流応答で測定するイオン電極用の基体であって
、白金系金属材料で形成された電極基板に金属材料で形
成された応答特性改善部側を溶接してなるイオン電極用
基体が提供される。
または電流応答で測定するイオン電極用の基体であって
、白金系金属材料で形成された電極基板に金属材料で形
成された応答特性改善部側を溶接してなるイオン電極用
基体が提供される。
また、この発明によれば、溶液中のイオン濃度を電極電
位応答または電流応答で測定するイオン電極であって、
白金系金属材料で形成された電極基板に金属材料で形成
された応答特性改善部材を溶接してなる基体の該電極基
板表面にヒドロキシ芳香族化合物もしくは窒素含有芳香
族化合物から誘導された重合体膜を直接的に被着してな
るイオン電極が提供される。
位応答または電流応答で測定するイオン電極であって、
白金系金属材料で形成された電極基板に金属材料で形成
された応答特性改善部材を溶接してなる基体の該電極基
板表面にヒドロキシ芳香族化合物もしくは窒素含有芳香
族化合物から誘導された重合体膜を直接的に被着してな
るイオン電極が提供される。
これらイオン電極用基体およびイオン電極・にお−いて
金属材料は、通常、白金、鉄、銅、ニッケル、クロム、
コバルト、アルミニウム、チタン、アンチモン、タング
ステン、モリブデン、ツヤラジウム、インジウム、ロジ
ウム、ルテニウムおよびこれら金属を少なくとも一成分
とす不合金よシなる群の中から選ばれる。
金属材料は、通常、白金、鉄、銅、ニッケル、クロム、
コバルト、アルミニウム、チタン、アンチモン、タング
ステン、モリブデン、ツヤラジウム、インジウム、ロジ
ウム、ルテニウムおよびこれら金属を少なくとも一成分
とす不合金よシなる群の中から選ばれる。
また、上記イオン電極において、重合体膜は電解酸化重
合膜であることが好ましい。
合膜であることが好ましい。
ヒドロキシ芳香族化合物は式
%式%)
()
(ここで、Arは芳香核、各Rは1綻換基、nは1以上
の整数、mはOまたは1以上の整数でろってn+mはA
rの有効原子価数越えない)で示すことができる。その
具体例を挙げると、7エノール、2,6−および3.5
−キシレノール、Orm−およびp−ヒドロキシベンゾ
フェノン、0−およびm−ヒドロキシベンジルアルコー
ル、2.2’、4.4’−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン、o−、m−およびp−ヒドロキシアセトフェノン
、o−、m−およびp−ヒドロキシベンズアルデヒド、
O−* m−およヒp −ヘンシフエノール、o−、m
−およびp−ヒドロキシアセトフェノン、4−(p−ヒ
ドロフェニル)−2−ブタノン、ビスフェノールA等で
ある。
の整数、mはOまたは1以上の整数でろってn+mはA
rの有効原子価数越えない)で示すことができる。その
具体例を挙げると、7エノール、2,6−および3.5
−キシレノール、Orm−およびp−ヒドロキシベンゾ
フェノン、0−およびm−ヒドロキシベンジルアルコー
ル、2.2’、4.4’−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン、o−、m−およびp−ヒドロキシアセトフェノン
、o−、m−およびp−ヒドロキシベンズアルデヒド、
O−* m−およヒp −ヘンシフエノール、o−、m
−およびp−ヒドロキシアセトフェノン、4−(p−ヒ
ドロフェニル)−2−ブタノン、ビスフェノールA等で
ある。
また、予め重合したものであって溶媒に溶解し、′ll
極基板表面に塗布乾燥した重合体膜としては、ポリ(フ
ェニレンオキシド)、ポリ(ジフェニルフェニレンオキ
シド)、ポリ(ジメチルフェニレンオキシド)、iff
リカー?ネート等がアル。
極基板表面に塗布乾燥した重合体膜としては、ポリ(フ
ェニレンオキシド)、ポリ(ジフェニルフェニレンオキ
シド)、ポリ(ジメチルフェニレンオキシド)、iff
リカー?ネート等がアル。
窒素含有芳香族化合物は式
%式%()
(ここで、Arは芳香核、Rは置換基、pはOまたは1
以上の整数およびqは1以上の整数であってP+(1は
Arの有効原子価数を越えない。
以上の整数およびqは1以上の整数であってP+(1は
Arの有効原子価数を越えない。
ただし、Arが含窒素複素環の場合qは0であってもよ
い)で示すことができる。その具体例ヲ挙ケると、1,
2−シアミノベンゼン、アニリン、2−アミノペンゾト
リフルオリド、2−アミノピリジン、2.3−ノアミノ
ピリジン、4.4’−ジアミノジフェニルエーテル、4
.4’−メチレンジアニリン、チラミン、N−(o−ヒ
ドロギシペンジル)アニリンおよびカル/? ソールヨ
シなる群の中から選ばれた少なくとも1種である。
い)で示すことができる。その具体例ヲ挙ケると、1,
2−シアミノベンゼン、アニリン、2−アミノペンゾト
リフルオリド、2−アミノピリジン、2.3−ノアミノ
ピリジン、4.4’−ジアミノジフェニルエーテル、4
.4’−メチレンジアニリン、チラミン、N−(o−ヒ
ドロギシペンジル)アニリンおよびカル/? ソールヨ
シなる群の中から選ばれた少なくとも1種である。
また、あらかじめ重合して得たものであって、溶媒に溶
解し、電極基板表面に塗布乾燥した重合体膜としてはポ
リ芳香族アミドまたは号?す芳香族イミドがある。
解し、電極基板表面に塗布乾燥した重合体膜としてはポ
リ芳香族アミドまたは号?す芳香族イミドがある。
これら重合体膜は低インピーダンス化されている。また
、この発明のイオン電極は、特に、PH電極として好適
である。
、この発明のイオン電極は、特に、PH電極として好適
である。
なお、この明細■゛で用いられている重合体という語は
単独重合体および相互重合体(例えば、■0発明の詳細
な説明 本発明者らは重合体膜化学修飾イオン電極の応答性、再
現性、平衡電位値の安定性等を改善すべく基体の改質に
着目し、白金系金属材料で形成された電極基板に金属材
料で形成された応答性改善部材を溶接することによって
所期の目的を達成できることを見い出した。
単独重合体および相互重合体(例えば、■0発明の詳細
な説明 本発明者らは重合体膜化学修飾イオン電極の応答性、再
現性、平衡電位値の安定性等を改善すべく基体の改質に
着目し、白金系金属材料で形成された電極基板に金属材
料で形成された応答性改善部材を溶接することによって
所期の目的を達成できることを見い出した。
以下、この発明を添付の図面に沿って詳しく説明する。
まず、第1図を参照してこの発明のイオン電極用基体に
ついて説明する。図示のように、このイオン電極用基体
10は白金系金属材料で形成された線状、棒状、ディス
ク状等任意形状の電極基板11に金属材料で形成された
応答性改善部材12を溶接してなるものである。白金系
金属とは白金族金属およびその合金<*に、白金以外の
白金族金属例えばロジウムとの合金)のことをいう。こ
の構造のイオン電極用基体10の周囲はポリオレフィン
やテフロン等の電気絶縁体13で被覆されており、電極
基板11の先端表面は露出している。
ついて説明する。図示のように、このイオン電極用基体
10は白金系金属材料で形成された線状、棒状、ディス
ク状等任意形状の電極基板11に金属材料で形成された
応答性改善部材12を溶接してなるものである。白金系
金属とは白金族金属およびその合金<*に、白金以外の
白金族金属例えばロジウムとの合金)のことをいう。こ
の構造のイオン電極用基体10の周囲はポリオレフィン
やテフロン等の電気絶縁体13で被覆されており、電極
基板11の先端表面は露出している。
電極基板11に溶接される金属材料はその種類を特に問
わない。このような金属材料の例、を挙−げると、白金
、鉄、銅、ニッケル、クロム、コ/Jルト、アルミニウ
ム、チタン、アンチモン、タングステン、モリffン、
パラジウム、インジウム、ロジウム、ルテニウムおよび
これら金属を少なくとも一成分とする合金(例えば、ス
テンレス鋼、ニッケル鋼)である。好ましくは、この金
属材料は電極基板11を形成する白金系金属とは異なる
ものである。
わない。このような金属材料の例、を挙−げると、白金
、鉄、銅、ニッケル、クロム、コ/Jルト、アルミニウ
ム、チタン、アンチモン、タングステン、モリffン、
パラジウム、インジウム、ロジウム、ルテニウムおよび
これら金属を少なくとも一成分とする合金(例えば、ス
テンレス鋼、ニッケル鋼)である。好ましくは、この金
属材料は電極基板11を形成する白金系金属とは異なる
ものである。
この発明で用いられる溶接はアーク溶接、電気抵抗溶接
等公知の溶接技術によって達成でき、また、スポット溶
接、バット溶接が含まれる。
等公知の溶接技術によって達成でき、また、スポット溶
接、バット溶接が含まれる。
次に、第2図を参照してこの発明のイオン電極について
説明する。図示のように、このイオン電極20は第1図
に示す基体の白金系金属基板1ノの露出表面上にヒドロ
キシ芳香族化合物または窒素含有芳香族化合物から誘導
された重合体膜21を直接被着してなるものである。
説明する。図示のように、このイオン電極20は第1図
に示す基体の白金系金属基板1ノの露出表面上にヒドロ
キシ芳香族化合物または窒素含有芳香族化合物から誘導
された重合体膜21を直接被着してなるものである。
ヒドロキシ芳香族化合物は芳香核に直接結合したヒドロ
キシル基を少なくとも1つ有する芳香族化合物であり、
例えば式 () %式%() (ここで、Arは芳香核、各Rは置換基、nは1以上の
整数、mは0または1以上の整数であってn+mはAr
の有効原子価数越えない)で示すことができる。芳香核
Arはベンゼン核、ピリ・シン核等の単環式のものであ
っても、多核式のものであってもよい。多核式芳香核に
はナフタレン核、アントラセン核等の縮合環タイプのも
の、および芳香核同志がアルキレン、タイプのものが含
まれる。置換基凡の例を挙げると、アルキル基例えばメ
チル基、アリール基例えばフェニル基、アルキルカルブ
ニル基およびアリールカルブニル基(4a/ ) 、ヒ
ドロキシアルキル基(−R″OH)等である。
キシル基を少なくとも1つ有する芳香族化合物であり、
例えば式 () %式%() (ここで、Arは芳香核、各Rは置換基、nは1以上の
整数、mは0または1以上の整数であってn+mはAr
の有効原子価数越えない)で示すことができる。芳香核
Arはベンゼン核、ピリ・シン核等の単環式のものであ
っても、多核式のものであってもよい。多核式芳香核に
はナフタレン核、アントラセン核等の縮合環タイプのも
の、および芳香核同志がアルキレン、タイプのものが含
まれる。置換基凡の例を挙げると、アルキル基例えばメ
チル基、アリール基例えばフェニル基、アルキルカルブ
ニル基およびアリールカルブニル基(4a/ ) 、ヒ
ドロキシアルキル基(−R″OH)等である。
このようなヒドロキシ芳香族化合物の具体例を挙げると
、フェノール、2,6−およヒ3.s−キシレノール、
o−、m−およびp−ヒドロキシベンゾフェノン、0−
およびm−ヒドロキシペンノルアルコール、2.2’
、4.4’ −f ) ラヒドロキシペンゾフェノン、
o−、m−およびp−ヒドロキシベンゾフェノン、o−
lm−およ0:p−、ヒドロキシベンズアルデヒド、0
−9m−およびp−ベンゾフェノール、o −、m −
およびp−ヒドロキシアセトフiノン、4−(p−ヒド
ロフェニル)−2−シタノン、ビスフェノールAおよび
こ11ら2種以上の混合物である。
、フェノール、2,6−およヒ3.s−キシレノール、
o−、m−およびp−ヒドロキシベンゾフェノン、0−
およびm−ヒドロキシペンノルアルコール、2.2’
、4.4’ −f ) ラヒドロキシペンゾフェノン、
o−、m−およびp−ヒドロキシベンゾフェノン、o−
lm−およ0:p−、ヒドロキシベンズアルデヒド、0
−9m−およびp−ベンゾフェノール、o −、m −
およびp−ヒドロキシアセトフiノン、4−(p−ヒド
ロフェニル)−2−シタノン、ビスフェノールAおよび
こ11ら2種以上の混合物である。
あらかじめ重合して得た重合体としてはポリ(フェニレ
ンオキシド)、ポリ(フェニレンオキ7ド)誘導体、ポ
リ(ジフェニルフェニレンオキシド)1.t9す(ジメ
チルフェニレンオキシド)、ポリカーパーネート等があ
る。
ンオキシド)、ポリ(フェニレンオキ7ド)誘導体、ポ
リ(ジフェニルフェニレンオキシド)1.t9す(ジメ
チルフェニレンオキシド)、ポリカーパーネート等があ
る。
素原子を含有する芳香族化合物であり、例えば、一般式
%式%()
(ここで、Arは芳香核、Rは置換基、pは0または1
以上の整数およびqは1以上の整数であってp+qはA
rの有効原子価数を越えない。
以上の整数およびqは1以上の整数であってp+qはA
rの有効原子価数を越えない。
ただし、Arが含窒素複素環の場合qは0であってもよ
い)で示すことができる。芳香核Arおよび置換基Rは
ヒドロキシ芳香族化合物に関して述べたものと同じであ
る。これら化合物のN−置換誘導体も用いられる。
い)で示すことができる。芳香核Arおよび置換基Rは
ヒドロキシ芳香族化合物に関して述べたものと同じであ
る。これら化合物のN−置換誘導体も用いられる。
このような窒素含有芳香族化合物の具体例を挙げると、
l、2−ジアミノベンゼン、アニリン、2−アミノペン
ゾトリフルオリド、2−アミノピリジン、2,3−ジア
ミノピリジン1,4.4’ −ノアミノジフェニルエー
テル、4.4’−メチレンジアニリン、チラミン、N−
(、−ヒドロキシペンノル)アニリンおよびカルバゾー
ル等である。
l、2−ジアミノベンゼン、アニリン、2−アミノペン
ゾトリフルオリド、2−アミノピリジン、2,3−ジア
ミノピリジン1,4.4’ −ノアミノジフェニルエー
テル、4.4’−メチレンジアニリン、チラミン、N−
(、−ヒドロキシペンノル)アニリンおよびカルバゾー
ル等である。
あらかじめ重合して得た重合体としてはポリ芳香族アミ
ドおよびイミドがある。
ドおよびイミドがある。
以上述べたヒドロキシ芳香族化合物または、窒素−含有
芳香族化合物から誘導された重合体膜を白金系金属基板
11表面上に被着するためKは、窒素含有芳香族化合物
またはヒドロキシ芳香族化合物を電解酸化重合法によっ
て白金系金属基板11表面上で重合させる方法、予め合
成された重合体を溶媒に溶かし、この溶液を浸漬・塗布
および乾燥により白金系金属基板11表面に固定する方
法、さらには重合体膜を化学的処理、物理的処理もしく
は照射処理によって白金系金属基板11表面に直接固定
する方法を採ることができる。
芳香族化合物から誘導された重合体膜を白金系金属基板
11表面上に被着するためKは、窒素含有芳香族化合物
またはヒドロキシ芳香族化合物を電解酸化重合法によっ
て白金系金属基板11表面上で重合させる方法、予め合
成された重合体を溶媒に溶かし、この溶液を浸漬・塗布
および乾燥により白金系金属基板11表面に固定する方
法、さらには重合体膜を化学的処理、物理的処理もしく
は照射処理によって白金系金属基板11表面に直接固定
する方法を採ることができる。
上記被着方法のうち最も好都合な方法は電解酸化重合法
による方法である。この電解酸化重合は適当な溶媒中で
窒素含有芳香族化合物またはヒドロキシ芳香族化合物を
電解酸化重合させ、動作電極としての所望基体の表面に
重合体膜を被着するものである。例えば、1,2−ノア
ミノベンゼン、2−アミノペンゾトリフルオリドおよび
4,4′−ジアミノジフェニルメタンの電解酸化重合は
pH7のリン酸緩衝溶液中で、アニリンの重合はピリジ
ンおよび過塩素酸ナトリウムを含むアセトニトリル溶液
中で、4.4’−ジアミ2ノジフェニルエーテルの重合
は過塩素酸ナトリウムを含むアセトニトリル溶液または
水酸化ナトリウムを含むメタノール溶液中でおこなう。
による方法である。この電解酸化重合は適当な溶媒中で
窒素含有芳香族化合物またはヒドロキシ芳香族化合物を
電解酸化重合させ、動作電極としての所望基体の表面に
重合体膜を被着するものである。例えば、1,2−ノア
ミノベンゼン、2−アミノペンゾトリフルオリドおよび
4,4′−ジアミノジフェニルメタンの電解酸化重合は
pH7のリン酸緩衝溶液中で、アニリンの重合はピリジ
ンおよび過塩素酸ナトリウムを含むアセトニトリル溶液
中で、4.4’−ジアミ2ノジフェニルエーテルの重合
は過塩素酸ナトリウムを含むアセトニトリル溶液または
水酸化ナトリウムを含むメタノール溶液中でおこなう。
ヒドロキシ芳香族化合物の電解酸化重合はアルカリ性の
メタノール等の溶媒中でおこなう。
メタノール等の溶媒中でおこなう。
電解酸化重合によって被着した重合体膜は被着安定性が
極めてよく、また膜表面も滑らかである。
極めてよく、また膜表面も滑らかである。
重合体膜の厚さに特に制限はないが001μないし1μ
程度が適当である。
程度が適当である。
上記重合体膜は溶液中のイオンを選択的に透過させるが
、透過イオン種の中で導電性基体の平衡電位に悪影9を
及ぼすものが当該溶液中に存在すると、イオン濃度測定
に悪影響がある。
、透過イオン種の中で導電性基体の平衡電位に悪影9を
及ぼすものが当該溶液中に存在すると、イオン濃度測定
に悪影響がある。
このような場合、ヒドロキシ芳香族化合物または窒素含
有化合物から誘導された重合体膜を他の、第2の膜で被
覆するとよい。この第2の膜は平衡電位値に影響を与え
ない不活性溶存イ、オンー棹全選択的に透過させるよう
な孔を多数有するもめであり、ポリアクリルアミド、ポ
リウレタン、Iり塩化ビニル、ポリアミノ酸、ポリアミ
ド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ(フッ化化合
物)、ポリシリコーンゴム、ポリ2−ヒドロキシエチル
メタクリレート、セルロースおよびその誘導体、合成ゴ
ム、天然高分子(コラ−r)、ゼラチン、天然ゴム等)
等積々の高分子材料から形成することができる。
有化合物から誘導された重合体膜を他の、第2の膜で被
覆するとよい。この第2の膜は平衡電位値に影響を与え
ない不活性溶存イ、オンー棹全選択的に透過させるよう
な孔を多数有するもめであり、ポリアクリルアミド、ポ
リウレタン、Iり塩化ビニル、ポリアミノ酸、ポリアミ
ド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ(フッ化化合
物)、ポリシリコーンゴム、ポリ2−ヒドロキシエチル
メタクリレート、セルロースおよびその誘導体、合成ゴ
ム、天然高分子(コラ−r)、ゼラチン、天然ゴム等)
等積々の高分子材料から形成することができる。
第2、第3の被覆膜として、四級化した高重合度のポリ
ビニルピリジンやナフィオンなどのようなスルホン基を
持った高分子−など、陽イオン性および陰イオン性高分
子電解質被覆膜を使用し、溶存中の多価電荷イオン棟の
基板電極表面への直接接触を防止することもできる。
ビニルピリジンやナフィオンなどのようなスルホン基を
持った高分子−など、陽イオン性および陰イオン性高分
子電解質被覆膜を使用し、溶存中の多価電荷イオン棟の
基板電極表面への直接接触を防止することもできる。
■1発明の具体的作用
この発明のイオン電極用基体は溶液中のイオン濃度を電
極電位応答または′it流応答で測定するイオン電極用
の基体として有用であり、これまでに述べた重合体膜化
学修飾イオン電極の基体としてはもとよシその他のイオ
ン電極の基体として用いて応答速度、再現性、平衡電位
値の安定性等の、より改善されたイオン電極全提供する
ことができるとともに電極自体としても使用できる。
極電位応答または′it流応答で測定するイオン電極用
の基体として有用であり、これまでに述べた重合体膜化
学修飾イオン電極の基体としてはもとよシその他のイオ
ン電極の基体として用いて応答速度、再現性、平衡電位
値の安定性等の、より改善されたイオン電極全提供する
ことができるとともに電極自体としても使用できる。
また、第2図に示すイオン電極20を用いて溶液の例え
ば水素イオン濃度(ptl )を測定するには、第3図
に示すように、槽31中にPHを測定すべき試料溶液3
2金入れ、この溶液にこの発明のイオン電極20および
参照電極33とし −ての銀−塩化銀電極、あるいは食
塩飽和カロメルt 極(5SCE )等を浸漬する。そ
して参照電極33に対するイオン電極20の電位差(起
電力) ゛を電位差計35で測定する。このとき
、試料溶液32を攪拌機36で攪拌するとよい。そして
あらかじめ作製しておいた起電力とpi(との相関図か
ら試料溶液のptl ’に読みとる。。なお、気体を吹
き込む場合、気体吹き込み管37を用いる。
ば水素イオン濃度(ptl )を測定するには、第3図
に示すように、槽31中にPHを測定すべき試料溶液3
2金入れ、この溶液にこの発明のイオン電極20および
参照電極33とし −ての銀−塩化銀電極、あるいは食
塩飽和カロメルt 極(5SCE )等を浸漬する。そ
して参照電極33に対するイオン電極20の電位差(起
電力) ゛を電位差計35で測定する。このとき
、試料溶液32を攪拌機36で攪拌するとよい。そして
あらかじめ作製しておいた起電力とpi(との相関図か
ら試料溶液のptl ’に読みとる。。なお、気体を吹
き込む場合、気体吹き込み管37を用いる。
この発明のイオン電極による起電力と−との関係は広範
囲のPH領領域ほぼ59 mV /P)iの勾、配を持
つ直線関係を示し、式 (ここで、Eは起電力(mV )、Koは一定電位(m
V)、Rはがス定数、Tは絶対温度、Fはフ゛アラデ一
定数、〔H+〕は水素イオン濃度)で示されるネルンス
トの式を満足する。
囲のPH領領域ほぼ59 mV /P)iの勾、配を持
つ直線関係を示し、式 (ここで、Eは起電力(mV )、Koは一定電位(m
V)、Rはがス定数、Tは絶対温度、Fはフ゛アラデ一
定数、〔H+〕は水素イオン濃度)で示されるネルンス
トの式を満足する。
以下、この発明の実施例を記す。
実施例1
直径1m+、長さ約20mmの白金線の両端面をシリコ
ンカーバイド(粒径約0.8μm)紙およびアルミナ粉
末(粒径0.3μm)で研暦・平滑化し、水洗し、メタ
ノールで洗浄後乾燥した。
ンカーバイド(粒径約0.8μm)紙およびアルミナ粉
末(粒径0.3μm)で研暦・平滑化し、水洗し、メタ
ノールで洗浄後乾燥した。
M、Efl+ 1 tan、長さ80咽のタングステン
線を同様に処理した。− これら白金線およびタングステン線をバット溶接し、イ
オン電極用基体を準備した。この線状基体の周囲をテフ
ロンで絶縁した。
線を同様に処理した。− これら白金線およびタングステン線をバット溶接し、イ
オン電極用基体を準備した。この線状基体の周囲をテフ
ロンで絶縁した。
こうして得た基体の白金線の露出先端面にフェノールの
電解酸化重合膜を被着した。この電解酸化重合は、通常
の3電極式セルを使用し、対極として白金網、基準電極
として市販の飽和カロメル電極(SSCE)、そして動
作電極として上記基体を用いた。基体の白金線露出端面
は蒸留水で洗浄した。電解液として10mMフェノール
および30 mM水酸化ナトリウムを含むメタノール溶
液を用い、電解前にこれをアルデンがスで十分に脱酸素
した。印加電圧を走査し、フェノール単量体の酸化反応
が白金表面で生起していることを確認した後、印加電圧
を1.0テルト(対5SCE )で止め、3分間定電解
した。
電解酸化重合膜を被着した。この電解酸化重合は、通常
の3電極式セルを使用し、対極として白金網、基準電極
として市販の飽和カロメル電極(SSCE)、そして動
作電極として上記基体を用いた。基体の白金線露出端面
は蒸留水で洗浄した。電解液として10mMフェノール
および30 mM水酸化ナトリウムを含むメタノール溶
液を用い、電解前にこれをアルデンがスで十分に脱酸素
した。印加電圧を走査し、フェノール単量体の酸化反応
が白金表面で生起していることを確認した後、印加電圧
を1.0テルト(対5SCE )で止め、3分間定電解
した。
こうして、基体の白金線露出先端面にフェノールの電解
酸化重合膜(ppo膜)が被着され、これを蒸留水で洗
浄し、イオン電極とした。
酸化重合膜(ppo膜)が被着され、これを蒸留水で洗
浄し、イオン電極とした。
このイオン電極を動作電極とし、5SCEを基準電極と
し、種々の一値を持つ試料溶液(005M IJン酸緩
衝溶液、PH値は水酸化ナトリウムおよび過塩素酸で調
節)中で平衡電位値到達時間(応答速度ンを測定した。
し、種々の一値を持つ試料溶液(005M IJン酸緩
衝溶液、PH値は水酸化ナトリウムおよび過塩素酸で調
節)中で平衡電位値到達時間(応答速度ンを測定した。
なお、試料溶液のpFI値は市販の声メーター(オリオ
ンリサーチ社製70−、/A型)で測定しておいた。結
果を第4図に示す。この¥4閣1・1・\)7、曲線a
はPHが6.86の場合を、曲線すは−■が4.00の
場合を、曲線CはPnが2.30の場合を、および曲線
dは−が10、01の場合をそれぞれ示す。なお、第4
図から得た応答速度、および−4に対する起電力値(m
V )を下記の表1にまとめて示す。
ンリサーチ社製70−、/A型)で測定しておいた。結
果を第4図に示す。この¥4閣1・1・\)7、曲線a
はPHが6.86の場合を、曲線すは−■が4.00の
場合を、曲線CはPnが2.30の場合を、および曲線
dは−が10、01の場合をそれぞれ示す。なお、第4
図から得た応答速度、および−4に対する起電力値(m
V )を下記の表1にまとめて示す。
表 1
比較として、溶接をおこなうことなく白金線だけを用い
て上記と同様にppo膜を被着し、イオン゛1述極を作
製した。このイオン電極を用いて上記と同様に平衡電位
応答速度を6111定した結果を表2にまとめて示す。
て上記と同様にppo膜を被着し、イオン゛1述極を作
製した。このイオン電極を用いて上記と同様に平衡電位
応答速度を6111定した結果を表2にまとめて示す。
表 2
以上の結果から、この発明のイオン電極は庖答速度が有
意に改善されていることがわかる。
意に改善されていることがわかる。
また、この発明のイオン電極の平衡′電位値の変動範囲
は±0.2 mVと非常に小さかった。
は±0.2 mVと非常に小さかった。
実施例2
直径0.5園、各長さ2.5鰭と7.5簡の二本の白金
線の端部側面同志を接触させてスポ、トア一り溶接した
。こうして得た基体の先端面に実施例1と同様にPPO
膜を被着し、イオン電極を得た。このイオン電極の平衡
電位到達時間(0,05mMリン酸緩衝溶液中、Po6
.s6)を測定−したところ10分であった。
線の端部側面同志を接触させてスポ、トア一り溶接した
。こうして得た基体の先端面に実施例1と同様にPPO
膜を被着し、イオン電極を得た。このイオン電極の平衡
電位到達時間(0,05mMリン酸緩衝溶液中、Po6
.s6)を測定−したところ10分であった。
こめ結果、白金線同志を溶接しても応答速度が向上する
ことがわかった。
ことがわかった。
実施例3
jα径0.3 叫、長さ20咽の白金線と直径0.2調
、長さ80間のタングステン線とを実施例2と同様にア
ークスポット溶接した。その白金線の先端面に実施例1
と同様にppo膜を被着しイオン電極を作輿した。この
イオン電極について実施例1と同様に平衡電位到達時間
を測定した。
、長さ80間のタングステン線とを実施例2と同様にア
ークスポット溶接した。その白金線の先端面に実施例1
と同様にppo膜を被着しイオン電極を作輿した。この
イオン電極について実施例1と同様に平衡電位到達時間
を測定した。
結果を表3にまとめて示す。
表 3
実施例4〜7
表4に示すような種々の長さの白金線(直径0、5 m
m )とタングステン線(直径1. Ortm )とを
スポットアーク溶接し、実施例1と同様に白金線の先端
面にppo膜を被着しイオン電極を作製した。これらイ
オン電極の平衡電位応答速度をp)(6,86のリン酸
緩衝溶液中で測定した。結果を表4に併記する。
m )とタングステン線(直径1. Ortm )とを
スポットアーク溶接し、実施例1と同様に白金線の先端
面にppo膜を被着しイオン電極を作製した。これらイ
オン電極の平衡電位応答速度をp)(6,86のリン酸
緩衝溶液中で測定した。結果を表4に併記する。
表 4
実施例8〜15
種々の直径を持つ白金#i!(長さ2.5 crn )
と種々の直径を持つ異種金属線(長さ7.5 cm )
とをバット溶接またはスポット溶接し、実施例1と同様
にして白金線の先端面にppo膜を被着し、イオン電極
を作製した。表5に示す各−の試料溶液中でこれらイオ
ン電極の応答速度を測定、した。結果を表5に併記する
。なお、PF1当シのmv値も併せ示した。
と種々の直径を持つ異種金属線(長さ7.5 cm )
とをバット溶接またはスポット溶接し、実施例1と同様
にして白金線の先端面にppo膜を被着し、イオン電極
を作製した。表5に示す各−の試料溶液中でこれらイオ
ン電極の応答速度を測定、した。結果を表5に併記する
。なお、PF1当シのmv値も併せ示した。
実施例16〜18
溶接すべき金属線の長さを変えてアークスポット溶接し
、実施例1と同様にしてイオン電極を作製し、pH6,
86のリン酸緩衝溶液中で平衡電位到達速度を測定した
。結果を表6に示す。
、実施例1と同様にしてイオン電極を作製し、pH6,
86のリン酸緩衝溶液中で平衡電位到達速度を測定した
。結果を表6に示す。
表 6
以上述べた実施例から、応答特性改善部材を構成する金
属線の長さを大きくすると、電気抵抗が大きくなり導電
性が低下し、したがって応答速度が遅くなる傾向にある
ことがわかる。しかし溶接をおこなうことなく一本の白
金線にppo膜を直接被着した場合よシも、平衡電位到
達速度は早い(表2参照)a ■1発明の具体的効果 以上述べたこの発明のイオン電極あるいはイオン電極用
基体は以下に列挙する効果を秦する。
属線の長さを大きくすると、電気抵抗が大きくなり導電
性が低下し、したがって応答速度が遅くなる傾向にある
ことがわかる。しかし溶接をおこなうことなく一本の白
金線にppo膜を直接被着した場合よシも、平衡電位到
達速度は早い(表2参照)a ■1発明の具体的効果 以上述べたこの発明のイオン電極あるいはイオン電極用
基体は以下に列挙する効果を秦する。
(1) この発明のイオン電極はpl(2,0から1
0.0の広範囲にわたって平衡電位到達速度(98チ到
達)が早く、また平衡電位値の変動も非常に小さく、安
定している。
0.0の広範囲にわたって平衡電位到達速度(98チ到
達)が早く、また平衡電位値の変動も非常に小さく、安
定している。
(2) また、このイオン電極は、試料溶液のPlf
を変えて次々にそのpl(を測定しても、いわゆるメモ
リー効果がないので、再現性がよい。
を変えて次々にそのpl(を測定しても、いわゆるメモ
リー効果がないので、再現性がよい。
(3) このイオン電極は窒素含有芳香族化合物また
はヒドロキシ芳爵族化合物から誘導された重合体膜を被
着してなる導電性基体を溶液に浸漬し、その電極電位応
答でP1+を測定できる。したがって、基準液室を設け
る必要がなく、基体本体の加工限度近くまで微小化でき
、測定試料液が少量でよい。
はヒドロキシ芳爵族化合物から誘導された重合体膜を被
着してなる導電性基体を溶液に浸漬し、その電極電位応
答でP1+を測定できる。したがって、基準液室を設け
る必要がなく、基体本体の加工限度近くまで微小化でき
、測定試料液が少量でよい。
(4)重合体膜の導電性は極めて良く、抵抗は非常に小
さく、低インピーダンス化されているので、?I!’I
定に高入力インピーダンスの増幅器を必要としない。
さく、低インピーダンス化されているので、?I!’I
定に高入力インピーダンスの増幅器を必要としない。
(5) この発明のイオンFJjt用基体は以上述べ
た優れたイオン電極を提供できる。
た優れたイオン電極を提供できる。
第1図はこの発明のイオン電極用基体の断面図、第2図
はこの発明のイオン電極の断面図、第3図はこの発明の
イオン電極を用いたイオン濃度測定装置を示す概略図、
第4図はこの発明のイオン電極の特性を示すグラフ。 11・・・電極基板、12・・・応答特性改善部材、2
ノ・・・重合体膜。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦牙1 図
士2図
はこの発明のイオン電極の断面図、第3図はこの発明の
イオン電極を用いたイオン濃度測定装置を示す概略図、
第4図はこの発明のイオン電極の特性を示すグラフ。 11・・・電極基板、12・・・応答特性改善部材、2
ノ・・・重合体膜。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦牙1 図
士2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【1) 溶液中のイオン濃度を電極電位応答または電
流応答で測定するイオン電極用の基体であって、白金系
金属材料で形成された電極基板に金属材料で形成された
応答特性改善部材を溶接してなるイオン電極用基体。 (2)金属材料が白金、鉄、銅、ニッケル、クロム、コ
バルト、アルミニウム、チタン、アンチモン、タングス
テン、モリブデン、パラジウム、インジウム、ロジウム
、ルテニウムおよびこれら金属を少なくとも一成分とす
る合金よりなる群の中から選ばれたものである特許請求
の範囲第1項記載の基体。 (3) 溶液中のイオン濃度をt極電位応答または電
流応答で測定するイオン電極であって、白金系金属材料
で形成された電極基板に金属材料で形成された応答特性
改善部材を溶接してなる基体の該電極基板表面にヒドロ
キシ芳香族化合物もしくは窒素含有芳香族化金物から誘
導された重合体膜を直接的に被着してなるイメン醒極。 (4)金属材料が白金、鉄、銅、ニッケル、クロム、コ
バルト、アルミニウム、チタン、アンチモン、タングス
テン、モリブデン、ノ9ラジウム、インジウム、ロジウ
ム、ルテニウムおよびこれら金属を少なくとも一成分と
する合金よりなる群の中から選ばれた金属系材料である
特許請求の範囲第3項記載のイオン電極。 (5)重合体膜が電解酸化重合膜である特許請求の範囲
第3項または第4項記載のイオン電極。 (6) ヒドロキシ芳香族化合物が式() %式%() (ここで、Arは芳香核、各Rは置換基、nは1以上の
整数、mはOまたは1以上の整数であってn+mはAr
の有効原子価数越えない)で示される特許請求の範囲第
3項ないし第5項のいずれかに記載のイオン電極。 (7)ヒトoキシ芳爵族化合物がフェノール、2.6−
および3.5−ギシレノール、o−、m−およびp−ヒ
ドロキシベンゾフェノン、0−〉よびm−ヒドロキシペ
ン・ゾルアルコール、212’14.4′ニテトラヒド
ロキシペンゾフエノン、0−lm−およびp−と5.ド
ロキシグロピオフエノン、0− + m−およびp−ヒ
ドロキシベンズアルデヒド、O−g m−およびp−ベ
ンゾフェノール、0−・m−およびp−ヒドロキシアセ
トフェノン、4−(p−ヒドロフェニル)−2−ブタノ
ン、並びにビスフェノールAよりなる群の中から選ばれ
たものである特許請求の範囲第6項記載のイオン電極。 (8)重合体膜がポリ(フェニレンオキシド)、ポリ(
ジフェニルフェニレンオキシド)、ポリ(ツメチルフェ
ニレンオキシド)またはポリカー?ネートである特許請
求の範囲第3項または第4項記載のイオン成極。 (9)窒素含有芳香族化合物が式 %式%) (ここで、Arは芳香核、Rは置換基、pは0または1
以上の整数およびqは1以上の整数でF”! あって聯十量はArの有効原子価数を越えない。 ただし、Arが含窒素複素環の場合零はOであってもよ
い)で示される特許請求の範囲第3項ないし第5項のい
ずれかに記載のイオン電極。 OI 窒素含有芳香族化合物が1,2−ジアミノベン
ゼン、アニリン、2−アミノペンシトリフル3オリド、
2−アミノピリジン、2.3−ジアミノピリジン、4.
4’−ジアミノジフェニルエーテル、4.4’−メチレ
ンジアニリン、チラミン、N−(0−ヒドロキシペンシ
ル)アニリンおよびカルバゾールよシなる群の中から選
ばれた少なくとも1種である特許請求の範囲第9項記載
のイオン成極。 09 重合体膜が溶媒に溶解し、白金系金属層表面に塗
布乾燥したIり芳香族アミドまたはポリ芳香族イミドで
ある特許請求の範囲第3項または第4項記載のイオン電
極。 0オ 重合体膜が低インピーダンス化されていることを
特徴とする特許請求の範囲第3項な、いし第11項のい
ずれかに記載のイオン電極。 03 ’ pal電極である特許請求の範囲第3項ない
し第12項のいずれかに記載のイオン電極。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57104984A JPS58223054A (ja) | 1982-06-18 | 1982-06-18 | イオン電極用基体およびイオン電極 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57104984A JPS58223054A (ja) | 1982-06-18 | 1982-06-18 | イオン電極用基体およびイオン電極 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58223054A true JPS58223054A (ja) | 1983-12-24 |
JPH041302B2 JPH041302B2 (ja) | 1992-01-10 |
Family
ID=14395351
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57104984A Granted JPS58223054A (ja) | 1982-06-18 | 1982-06-18 | イオン電極用基体およびイオン電極 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58223054A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6114560A (ja) * | 1984-06-30 | 1986-01-22 | Terumo Corp | Phセンサ− |
JPS61213661A (ja) * | 1985-03-19 | 1986-09-22 | Terumo Corp | pHセンサ− |
Citations (4)
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---|---|---|---|---|
JPS5199590A (ja) * | 1975-01-27 | 1976-09-02 | Shemu Fuarumu Ind Kg Aparaateb | |
JPS54148593A (en) * | 1978-03-13 | 1979-11-20 | Fmc Corp | Special electrode and analyzing method for salt of isocyanuric acid* and quaternary ammonium salt of isocyanuric acid for said electrode and method |
JPS6313148A (ja) * | 1985-05-27 | 1988-01-20 | Toshihiko Hirabayashi | 光磁気記録用フロツピ−デイスクのガラス基板の同心度を高める方法およびその装置 |
JPS6364740A (ja) * | 1986-09-08 | 1988-03-23 | 東芝ケミカル株式会社 | 銅張積層板 |
-
1982
- 1982-06-18 JP JP57104984A patent/JPS58223054A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5199590A (ja) * | 1975-01-27 | 1976-09-02 | Shemu Fuarumu Ind Kg Aparaateb | |
JPS54148593A (en) * | 1978-03-13 | 1979-11-20 | Fmc Corp | Special electrode and analyzing method for salt of isocyanuric acid* and quaternary ammonium salt of isocyanuric acid for said electrode and method |
JPS6313148A (ja) * | 1985-05-27 | 1988-01-20 | Toshihiko Hirabayashi | 光磁気記録用フロツピ−デイスクのガラス基板の同心度を高める方法およびその装置 |
JPS6364740A (ja) * | 1986-09-08 | 1988-03-23 | 東芝ケミカル株式会社 | 銅張積層板 |
Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
JPS6114560A (ja) * | 1984-06-30 | 1986-01-22 | Terumo Corp | Phセンサ− |
JPS61213661A (ja) * | 1985-03-19 | 1986-09-22 | Terumo Corp | pHセンサ− |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH041302B2 (ja) | 1992-01-10 |
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