JPS58214334A - 無塵粒状材料の製造方法及び装置 - Google Patents

無塵粒状材料の製造方法及び装置

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JPS58214334A
JPS58214334A JP58000544A JP54483A JPS58214334A JP S58214334 A JPS58214334 A JP S58214334A JP 58000544 A JP58000544 A JP 58000544A JP 54483 A JP54483 A JP 54483A JP S58214334 A JPS58214334 A JP S58214334A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は無塵粒状材料の製造方法及び装置に関する。
粒状の製品（例えば染料又は化学薬品）はアトマイザ−
、パドルドライヤー又はベルトドライヤーの如き装置中
で材料の溶液から製造される。製品は実質的に純粋な形
にあってもよく　（例えば極めて少量の副生物を含むベ
ンゾトリアゾールの如き化学薬品）、　あるいは実質量
（例えば１０〜７０重量％）の添加物が存在していても
よい。例えば、染料は、多くの場合、Ｈ丁定強度のカラ
ー（コントロール値に関して）を再生することができる
ように、クーベージ（ｃｏｕｐａｇｅ　）材料を含むで
あろう。
また、最終製品は、染料の製造の際から残留する不活性
物質（例えばＮａＣ１又は芒硝）を含むこともある。
工業用染料は一般に粒状において種々の良好な性質、例
えば、良好な溶解性（好ましくは水に対する溶解性）、
　良好な溶解速度、最少乃至は皆無の塵、良好な湿潤特
性及び良好な注入適性を有する。しかし、多くの場合、
ｌの性質が改良されると他の性質が悪くなるために、こ
れらの特性の全てｒ改良することは困難である。例えは
、硬に表面を有する製品は一般に塵を全くもしくはほと
んど生じないけれども、溶解が困難となるであろう。
流動床クラニスレータ−中で粒子化される製品は、他の
方法で形成された粒子に比較して、比較的大量の塵を含
みがちである。
流動化粒子中に存在する塵の量を減少させ、より均一な
粒径の粒子を得るために、本発明は実質的に所定の粒径
範囲内にある粒子を有する粒状製品の製造方法ケ提供す
るのであって、この方法は製品を溶液又は分散液のスプ
レーの形で流動床乾燥機に導入し、流動床内で形成され
た粒子を流動床から除去し、第１の所定の粒径より大き
い粒子（以下、大粒子という）の粒径を減少さぞ、次い
で第２の所定の粒径（第１の所定の粒径は第２の所定の
粒径より大きい）　より小さい粒子（以下、小粒子とい
う）のみを再Ｏｉ環させることを含んでなる。もちろん
、実質的に無視し得る量の大粒子が小粒子とともに再循
環されることもある。
好ましくは、小粒子は、落下する粒子を、粒子の落下と
は反対方向に流動する、小粒子をそれらの落下とは反対
の方向に移動させ、流動床乾燥機に戻らせるような力の
加熱空気と接触させることにより、再循環される。
好ましくは、大粒子の粒径は石目やすりで磨砕すること
により、即ち磨砕片により粒子を石目やすりの（はぼ第
１の所定の粒径の）円筒形孔を通過させることにより、
減少される。好ましくは、小粒子は、石目やすりの下流
で、小粒子が石目やすりを通過し、粒子の落下とは反対
方向に流れる（かつ小粒子をそれらの落下とは反対の方
向に吹くのに十分な圧力の）空気と接触された後にパイ
プ中に吹き込まれるように配置されたパイプを介して、
流動床に戻される。更に好ましくは、小粒子が再循環の
ためのパイプに入る前に石目やすりから落下する小粒子
が分離するのを促進するために、粒子はｌ又はそれ以上
の孔あきそらせ板に接触される。
粒状製品が湿潤された形で求められる場合、好ましくは
本発明の方法において粒径の減少及び再循環の工程の後
で、粒子は他の流動床中で水と接触させることにより湿
潤される。
好ましくは、本発明に係る方法は連続流動化プロセスで
あり、この場合流動化されるべき材料は連続的に流動床
中に導入され、粒状製品が流動床から取り出され、粒状
製品のうちの大粒子は粒径を減少され、小粒子は再循環
され、そして粒状製品が装置から取り出される。
本発明に係る好ましい連続プロセスにおいては、１時間
当り流動床の床ｌ−当り少なくとも９０ｋｔの粒子が大
造される。
好ましくは、粒状製品が湿っている場合、得られる製品
は０．５〜１０％、更に好ましくは１〜２チの湿潤材料
（例えば水）を含む。材料を湿らせることの利点は塵が
減少され、材料の水溶性を損うことなく貯蔵及び輸送の
安定性が増大されるといりことにある。
更に、本発明によれば流動床装置が提供されるのであっ
て、この装置は格子床を有する容器、容器内の格子床上
方に置かれたスプレーノズル、加熱ガスを格子床を介し
て上方へ通過させる手段、格子床上方の空間から固体粒
子を引き取り、これらを第１の所定の粒径よりも大きい
粒子（大粒子）の粒径を減少させる手段及び第２の７’
）ｆ定の粒径よりも小さい粒径の粒子（小粒子）を流動
床に戻らせるための除塵手段に移送する手段を含んでな
る。
好ましくは、粒子を引き取るための手段は格子床の近く
に置かれτいる。
好ましくは、大粒子ｔ−減少さゼる手段は石目やすり及
び磨砕片を含み、磨砕片がこの磨砕片の抑圧作用により
粒子をして石目やすりの孔を通過させるように位置して
いる。
好ましくは、除塵手段は、流動床に接続され、大粒子を
減少させる手段のＦ流に置かれたパイプ、大粒子を減少
させる手段の下流に置かれた、空気の導入のための入口
、及び１又はそれ以上の孔あきそらせ板を含み、除塵手
段は、大粒子を減少させる手段からの粒子をそらせ板上
に落下させ、粒子の落下とは反対方向に流動する、第２
の所定の粒径よりも小さい粒子が流動床に接続されたパ
イプ中に吹き込まれるような力の、入口からの空気と接
触させるように機能する。
好ましくは、第１の所定の粒径は第２の所定の粒径の２
〜５倍である。
好ましくは、石目やすりは円筒状の孔を有する。
好ましくは、本発明に係る方法又は装置により形成され
た粒状材料は平均で０．２〜ＩＷ１ｍ１１更に好ましく
は０．６〜０．７１１１１の粒径を有する。
好ましくは、本発明に係る装置においては、流動化され
た材料を均一に湿潤させるための手段が設けられ、この
手段は大粒子を減少させる手段及び除塵手段の下流に置
かれている。この湿潤手段は格子床、格子床を介して加
熱された流動化空気を導入する手段及び湿潤材料をスプ
レーの形で導入するためのノズルを含み、粒子を格子床
上に落下させ、格子床の上方の領域においてノズルから
湿潤材料をスプレーし、同時に加熱空気により粒子を流
動化するように作動する。
本発明の方法に従い又は本発明の装置により製造された
粒状製品は良好な取扱い容易特性を有する。良好な取扱
い容易特性とは、最少限の塵の存在、良好な注入適性、
良好な湿潤性、良好な溶解性（好ましくは水中）、　良
好な溶解速度及“ぴ良好な輸送性である。
以下、添附図１ｆｉを参照しながら、本発明を更に説明
する。
第１図に示す流動床装置はチャンバー１を含み、操作に
際してこのチャンバーは下部に漏斗部２を有し、これは
流動床３倉含み、その底部は格子床４となりている。漏
斗部２は流動化空気？流動床３に導入するための手段５
に接続され、手段５は入口バイブ６、ヒーター７及び接
続パイプ８を含む。流動化空気９の流れの方向は入口バ
イブ６内に示されている。
チャンバー１の頂部に向かって、流動床３からの小粒子
が装置から外へ送られるのを防ぐためにフィルター１０
が置かれている。フィルター１０は出口バイブ１１に連
通し、流動化空気を装置外に放出させる。装置からの流
動化空気の流れは真空抽出器１２及びペン）１３により
コントロールされている。チャンバー１の頂部にはカバ
ー１４が設けられている。
スプレーノズル１５がフィルター１０と流動床３との間
に置かれ、流動化されるべき材料をスプレーの形で流動
床３に導入する。入口１５ａは流動化されるべき液状の
材料（例えば分散液又は懸濁液）をノズル１５に導入し
、入口バイブ１５ｂは流動化される材料の微細なスプレ
ーが生成されるようにノズル１５に空気を導入する。矢
印はスプレーの流れの方向を示す。
格子床４の上方には、流動化された材料を流動床から取
り出すためのスクリウシャフ）１６が置かれている。材
料はモーターＭ１に呼応する前記シャツ）１６０回転（
矢印で示す）によりシャフト１６の軸にそって移動され
る。そして、モーターＭ、はノズル１５部と流動床３と
の間の圧力差を測定する圧力作動パルプ１７によりコン
トロールされる。材料はパイプ１８中に通過され、そこ
で大粒子は石目やすり１９（所定のサイズの孔を有する
）により、矢印で示すように回転する磨砕片２０が大粒
千金して石目やすＩＩ）１９を通過せしめる作用によっ
て、粉砕される。磨砕片２ｏはモーターＭ、により回転
される。
流動化された材料は孔あきそらせ板２１上に移され、そ
こで小さすぎるものとして予め決められた粒径（例えは
３００ミクロン以下）の粒子は材料の落下とは反対方向
に流れる、小さすぎる粒径の粒子をパイプ２２に吹き入
れるような力の空気流に！ＩＩ）パイプ２２を介してチ
ャンバー１に戻される。孔あきそらせ板２１の下方にお
いて人口２４から除塵空気流が導入され（矢印２５の方
向）、この空気の導入はベント２６によりコントロール
される。
流動化された材料の残部は流動化制料を入れるためのコ
ンパートメント２８を有する回転可能な水門２７に移さ
れる。水門２７はパイプ３ｏが容器２９に直接開口しな
いように絶えず回転する。
このようにコンパートメントが回転するので、コンパー
トメント２８の内容物は、コンテナー２９への開口に到
達したときに、コンテナー２９中に入る。
第２図は、第１図の、小さすぎる粒子を除去し、粒子を
磨砕するための部分の変形を示す。流動床（図示すず）
からの材料は孔あきそらせ板２１に移される。除塵のた
めの空気は、入口バイブ２４から、粒子の落下とは反対
方向に、小さすぎる粒子がパイプ２２内に吹き込まれ、
それにより流動−に戻されるような圧力で導入される。
残りの材料は孔あきそらせ板２１よりモーターＭ３に上
り一１転される軸方向に伸びている部材３１の周りにお
いて回転可能なシーブチャンバー３０　（矢印３０ａで
示す方向に回転）に移される。直交して位置する部材３
２はシープチャンバー３０　ｅ　ｍ材３１に接続し、入
口バイブ２４からの空気をシープチャンバー３０から軸
方向にパイプ２２に流動させるように設計されている。
シープチャンバー３０からの材料は次いで水門２７及び
次に容器２９に移送される。
第３図は第１図の装置の他の変形を示し、この装置では
水門２７と容器２９との間に他の流動床が配置されてい
る。流動化された材料は格子床３３上に落下し、この格
子床を介して加熱空気流が入口３４から矢印方向に流入
し、ベント３６によりコントロールされる。容器３７か
ら液体のスプレーがバルブ４０によりコントロールされ
て、パイプ３９を介してノズル３８に導入される。空気
は入口バイブ４１を経てノズル３８に導入される。ノズ
ル３８により導入されたスプレーは流動化された材料を
湿潤させ、入口３４から導入された空気は流動床におい
てスプレーと接触された粒子を均一に分布せしめる。ベ
ント４２は入口バイブ３４から流動床装置のチャンバー
に接続されたパイプ２２への空包の流れを調節する。湿
潤された流動化材材料はシーブ３３から容器２９に取り
出される。
第４図は第１図の装置の石目やすり１９及び磨砕部２０
の拡大図であり、第５図は第４図のＡ−Ａ線に沿う断面
図である。磨砕部２０の切削エツジ２０ａは石目やすり
の孔１９ａを通過するには大きすぎる流動化材料粒子と
接触し、粒子を孔１９ａより押し出し、これにより粒子
の径を減少させる。
−仰一 下記の表に示す如＠８種の反応性染料の溶液（Ｃ，１，
ＩＪアクティブオレンジ９３の溶液４種及びＣ，１，Ｉ
Ｊアクティブバイオレット３６の溶液４種）を調製した
。
以下余白 溶液をそれぞれ別々に第１図の装置中で流動化し、粒子
を得た。これらは実際上無塵で、水に容易に溶解した。
粒子の９５％がＱ、４５＋ｍ（予め小さすぎるものとし
て決めた粒子径）　より大きい粒径を有し、５チがＱ、
７５ｍｇ（石目やすり１９の孔の径は０、８　ｍであっ
た）　より大きい粒径を有し、粒子の平均径は０．６Ｗ
であった。
流動床グラニエレーター格子床（４）は０．７５ｎｌの
表面積を有し、１時間当り１１０ｋｆの粒子を生成した
。流動化空気の温度は１３７℃であり、放散された空気
（出口口Ｊの温度は５９℃であった。
同様にして、３０％の純染料及び７０％の水の溶液から
酸性染料Ｃ，１，アシッド５７　の粒子を製造すること
ができた。粒子の生成速度は１時間当り８５ｋｆであり
゛、流動化空気は１１５℃の温度で導入され、５９℃で
放散された。
粒状材料は実際上無塵であり、水に易溶であった。
同様にして、７０％のベンゾトリアゾール（しばしば錆
防止剤として用いられる）及び３０％の水の溶液からベ
ンゾトリアゾール粒子を調製することができた。粒子生
成の速度は１５０　ｋｆ／ｈｒ　　であり、流動化空気
の温度は１１５℃、　放散されるときのそれは５８℃で
あった。粒状材料は実際上無塵であり、水に易溶であっ
た。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係る流動床装置の断面図、第２図及び
第３図はそれぞれ泥１図の装置の変形を示す図、そして
第４図及び第５図はそれぞれ第１図の装置の一部を拡大
して示す図である。 ｌ・・・チャンバー　　　　３・・・流動床４・・・格
子床　　　　　１０・・・フィルター１５・・・ヌプレ
ーノズル １９・・・石目や丁り　　　２０・・・磨砕片２１・・
・孔あきそらせ板 特許出願人 サンド　アクチェンゲゼルシャフト 特許出願代理人 弁理士　青　木　　　朗 弁理士　西　舘　和　之 弁理士　吉　１）維　夫 弁理士　山　口　昭　之 手続補正書（方式）　　　６・ 昭和５８年７　月Ｘ′２′ ７゜ 特許庁長官　若杉和夫　殿 １、事件の表示　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　、。 昭和５８年　特許願　　第　５４４　号２、発明の名称 無塵粒状材料の製造方法及び装置 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 名称　　　サンド　アクチェンゲゼルシャフト４、代理
人 （外３　名） 補正の対象 図　　　面 補正の内容 図面の浄書（内容に変更なし） 添付書類の目録 浄書図面　　　　　１通

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、実質的に所定の粒径範囲内にある粒子を有する粒状
    製品を製造するに当り、製品を溶液又は分散液のスプレ
    ーの形で流動床乾燥機に導入し、流動床内で形成された
    粒子を流動床から除去し、第１の所定の粒径より大きい
    粒子（大粒子という）の粒径を減少させ、次いで第２の
    所定の粒径（第１の所定の粒径は第２の所定の粒径より
    大きい）より小さい粒子（小粒子という）のみを再循環
    させることを含んでなる方法。 ２、小粒子が、粒子を落下させながら、粒子の落下とは
    反対方向に流動する、小粒子をそれらの落下とは反対の
    方向に移動させ、流動床乾燥機に戻らせるような力の加
    熱空気と接触させることにより、再ｗＡ環される特許請
    求の範囲第１項記載の方法。 ３、大粒子の粒径が石目やすりの孔により粒子を磨砕す
    ることにより減少される％許請求の範囲第１項記載の方
    法。 ４、粒子を他の流動床中において水と接触させることに
    より湿潤させることを含む特許請求の範囲第１項記載の
    方法。 ５、格子床を有する容器、容器内の格子床上方に置かれ
    たスプレーノズル、加熱ガスを格子床を介して上方へ通
    過させる手段、格子床上方の空間から固体粒子を引き取
    り、これらを第１の所定の粒径よりも大きい粒子（大粒
    子という）の粒径を減少させる手段及び第２の所定の粒
    径よりも小さい粒径の粒子（小粒子という）を流動床に
    戻らせるための除塵手段に移送する手段を含んでなる流
    動床装置。 ６゜大粒子の粒径を減少さゼ°る手段が石目やすり及び
    磨砕片を含み、磨砕片がこの磨砕片の抑圧作用により粒
    子ｔして石目やすりの孔を通過させるように位置してい
    る特許請求の範囲第５項記載の流動床装置。 ７、除塵手段が、流動床に接続され、大粒子を減少させ
    る手段の下流に置かれたパイプ、大粒子を減少させる手
    段の下流に置かれた、空気の導入のための入口、及びｌ
    又はそれ以上の孔あきそらせ板を含み、除塵手段が、大
    粒子を減少させる手段からの粒子をそらせ板上に落下さ
    せ、粒子の落下とは反対方向に流動する、第２の所定の
    粒径よりも小さい粒子が流動床に接続されたパイプ中に
    吹き込まれるような力の、入口からの空気と接触させる
    ように機能する特許請求の範囲第５項記載の装置。
JP58000544A 1982-01-09 1983-01-07 無塵粒状材料の製造方法及び装置 Granted JPS58214334A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3200456 1982-01-09
DE3200456.7 1982-01-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58214334A true JPS58214334A (ja) 1983-12-13
JPH0375211B2 JPH0375211B2 (ja) 1991-11-29

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ID=6152800

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JP58000544A Granted JPS58214334A (ja) 1982-01-09 1983-01-07 無塵粒状材料の製造方法及び装置

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US (1) US4832700A (ja)
JP (1) JPS58214334A (ja)
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GB (1) GB2113112B (ja)
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