JPS58201856A - 被覆組成物 - Google Patents
被覆組成物Info
- Publication number
- JPS58201856A JPS58201856A JP8147582A JP8147582A JPS58201856A JP S58201856 A JPS58201856 A JP S58201856A JP 8147582 A JP8147582 A JP 8147582A JP 8147582 A JP8147582 A JP 8147582A JP S58201856 A JPS58201856 A JP S58201856A
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- JP
- Japan
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- coating composition
- molecular weight
- ethylenically unsaturated
- meth
- coating
- Prior art date
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- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な被覆組成物に関し、更に詳しくは熱や
放射線エネルギーにより架橋硬化し、諸物性にすぐれた
被膜を与える新規な被覆組成物の提供を目的とする。
放射線エネルギーにより架橋硬化し、諸物性にすぐれた
被膜を与える新規な被覆組成物の提供を目的とする。
従来、放射線により架橋硬化する被覆組成物は多数公知
であるが、これら従来の被覆組成物の主たる被覆形成成
分は、比較的低分子量のモノマーやオリゴマーであるた
め、形成された被膜の密層性、屈曲性、耐衝撃性等が不
十分であり、また、すべての七ツマ−やオリゴマーを完
全に高分子化することも困難である。
であるが、これら従来の被覆組成物の主たる被覆形成成
分は、比較的低分子量のモノマーやオリゴマーであるた
め、形成された被膜の密層性、屈曲性、耐衝撃性等が不
十分であり、また、すべての七ツマ−やオリゴマーを完
全に高分子化することも困難である。
本発明者は上述の如き従来技術の欠点を解決すべく鋭意
研究の結果、特定の多官能性高分子物を主たる被覆形成
成分として使用することにより、上述の従来技術の欠点
が解決されることを知見して本発明を完成した。
研究の結果、特定の多官能性高分子物を主たる被覆形成
成分として使用することにより、上述の従来技術の欠点
が解決されることを知見して本発明を完成した。
すなわち、本発明は、α、β−エチレン性不飽和カルボ
ニル基を有するモノヒドロキシまたはモノアミノ化合物
（Ａ）、平均分子量が約１，０００〜ｔｏ、ｏｏｏ粂端
ポリヒドロキシまだはポリアミノオリゴマ＝（Ｂ）およ
びポリインシアネート化合物から得られる平均分子量が
約ｓ、ｏｏｏ〜ｓｏ、ｏｏｏの反応生成物を主たる被覆
形成成分とする被覆組成物である。
ニル基を有するモノヒドロキシまたはモノアミノ化合物
（Ａ）、平均分子量が約１，０００〜ｔｏ、ｏｏｏ粂端
ポリヒドロキシまだはポリアミノオリゴマ＝（Ｂ）およ
びポリインシアネート化合物から得られる平均分子量が
約ｓ、ｏｏｏ〜ｓｏ、ｏｏｏの反応生成物を主たる被覆
形成成分とする被覆組成物である。
本発明を更に詳細に説明すると、本発明で使用する化合
物（Ａ）はアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マ
レイン酸、イタコン酸等のα、β−エチレフ性不飽和カ
ルボン酸とポリオール化合物、モノアミノポリオール化
合物等の多官能化合物とを水酸基またはアミン基が１個
残るように反応させることによって得られるものであっ
て、例えは、好ましいものとして、２−ヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト等である。これらの化合物（Ａ）は、本発明において
使用する被膜形成成分である多官能重合体の末端官能基
を形成する。
物（Ａ）はアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マ
レイン酸、イタコン酸等のα、β−エチレフ性不飽和カ
ルボン酸とポリオール化合物、モノアミノポリオール化
合物等の多官能化合物とを水酸基またはアミン基が１個
残るように反応させることによって得られるものであっ
て、例えは、好ましいものとして、２−ヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト等である。これらの化合物（Ａ）は、本発明において
使用する被膜形成成分である多官能重合体の末端官能基
を形成する。
オリゴマー（ｎ）はポリマー鎖末端に水酸基捷だけアミ
ン基を有するものであって、例えば、そのポリマー鎖と
して、１，２または１，４−ポリブタジェン、ポリイソ
プレン、ポリクロロプレン、ブタジェン−スチレンコポ
リマー、スチレン−イソプレンコポリマー、ブタジエン
ープクリロニトリルコボリマー、あるいはそれらの部分
または完全水素。
ン基を有するものであって、例えば、そのポリマー鎖と
して、１，２または１，４−ポリブタジェン、ポリイソ
プレン、ポリクロロプレン、ブタジェン−スチレンコポ
リマー、スチレン−イソプレンコポリマー、ブタジエン
ープクリロニトリルコボリマー、あるいはそれらの部分
または完全水素。
添加物等；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレ
ン、エチレン−プロピレンコポリマー等：ボリスチレン
毎ン；ポリメチルアクリ１／−１−等；ポリエチレンオ
キザイド、ポリプロピレンオギ甲イド、エチレンオキザ
イドープロピレンオキザイドコボリマー、ポリ＋）ラメ
チレンエーテル等；ポリエチレンアジペート、ポリブチ
レンアジペート、ポリエチレンブチレンアジベート、ポ
リＳ−カプロラクトン、ポリブチレンチレフタレ−１−
、ビスフェノールＡとプロピレンオキサイドとの伺加生
成物とアジピン酸、テレフタル酸、イソフタル酸等との
ポリエステル等；ダイマー酸とエチレンジアミン、ヘキ
サメチレンジアミン等のアルキレンジアミンとのポリア
ミド、アゼライン酸、セバシン酸等のジカルボン酸とへ
キサメチレンジアミン等とのポリ”アミド；ジオールと
ジイソシアイ・−トとからなるポリウレタン等であり、
これらの重合体鎖は単独重合体、ランダム共重合体、グ
ラフ］・共重合体、ブロック共重合体等いずれの形式の
ものでもよい。
ン、エチレン−プロピレンコポリマー等：ボリスチレン
毎ン；ポリメチルアクリ１／−１−等；ポリエチレンオ
キザイド、ポリプロピレンオギ甲イド、エチレンオキザ
イドープロピレンオキザイドコボリマー、ポリ＋）ラメ
チレンエーテル等；ポリエチレンアジペート、ポリブチ
レンアジペート、ポリエチレンブチレンアジベート、ポ
リＳ−カプロラクトン、ポリブチレンチレフタレ−１−
、ビスフェノールＡとプロピレンオキサイドとの伺加生
成物とアジピン酸、テレフタル酸、イソフタル酸等との
ポリエステル等；ダイマー酸とエチレンジアミン、ヘキ
サメチレンジアミン等のアルキレンジアミンとのポリア
ミド、アゼライン酸、セバシン酸等のジカルボン酸とへ
キサメチレンジアミン等とのポリ”アミド；ジオールと
ジイソシアイ・−トとからなるポリウレタン等であり、
これらの重合体鎖は単独重合体、ランダム共重合体、グ
ラフ］・共重合体、ブロック共重合体等いずれの形式の
ものでもよい。
このような重合体鎖は、その平均分子量が約１．０００
〜１０，０００のものであり、この範囲の分子量のもの
が本発明の所期の目的の達成に好゛ましい。
〜１０，０００のものであり、この範囲の分子量のもの
が本発明の所期の目的の達成に好゛ましい。
また、末端基として最も好ましいものけ水酸基であり、
はぼ２個が好ましい。
はぼ２個が好ましい。
本発明で使用するポリイソシアネートとしては、例えば
、トリレンジイソシアネート、４，４１−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、
トリジンジイソシアネート、フェニレンジイソシアナー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイ
ソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ビス（イ
ンシアナトメチル）シクロヘキサン、ジシクロヘキシル
メタンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ト
リメチルヘキサメチルジインシアネート等である。
、トリレンジイソシアネート、４，４１−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、
トリジンジイソシアネート、フェニレンジイソシアナー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイ
ソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ビス（イ
ンシアナトメチル）シクロヘキサン、ジシクロヘキシル
メタンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ト
リメチルヘキサメチルジインシアネート等である。
上述の化合物（Ａ）、（Ｂ）およびポリイソシアネート
はいずれも例示であって、これら以外の公知の化合物（
Ａ）、（Ｂ）およびポリイソシアネートも本発明で使用
することができる。また、いずれの化合物も単独でも混
合物でも使用することができる。
はいずれも例示であって、これら以外の公知の化合物（
Ａ）、（Ｂ）およびポリイソシアネートも本発明で使用
することができる。また、いずれの化合物も単独でも混
合物でも使用することができる。
本発明で使用する被覆形成成分は上述の各成分を反応さ
せることにより製造されるが、その製造方法自体は、従
来のポリウレタンあるいはポリ尿ｘａｉ ｓ−、０１
１１’Ｂ＝ ±４二Ｉｆｆ Ａム −→４ ム
イＨＩ ＩＦａｌ ヅバ α、β
−エ チレン性基を有するので、反応時に反応系に約５
０〜２、ＯＯＯｐｐｍのハイドロキノン、ブチルハイド
ロキノ〉〆、ベンゾキノン、Ｐ−メトキシフェノール等
の重合禁止剤を存在させて原料および生成物の架橋を防
止するのが好ましい。またすべての原料を同時に反応さ
せてもよいが、所期の構造を形成さすだめ、また、生成
物の分子量分布をできるだけ狭くするために原料の反応
順序を規定し、段階的に反応させるプレポリマー法を採
用するのが望ましい。
せることにより製造されるが、その製造方法自体は、従
来のポリウレタンあるいはポリ尿ｘａｉ ｓ−、０１
１１’Ｂ＝ ±４二Ｉｆｆ Ａム −→４ ム
イＨＩ ＩＦａｌ ヅバ α、β
−エ チレン性基を有するので、反応時に反応系に約５
０〜２、ＯＯＯｐｐｍのハイドロキノン、ブチルハイド
ロキノ〉〆、ベンゾキノン、Ｐ−メトキシフェノール等
の重合禁止剤を存在させて原料および生成物の架橋を防
止するのが好ましい。またすべての原料を同時に反応さ
せてもよいが、所期の構造を形成さすだめ、また、生成
物の分子量分布をできるだけ狭くするために原料の反応
順序を規定し、段階的に反応させるプレポリマー法を採
用するのが望ましい。
このようなプレポリマー法自体は公知であり、公知の方
法を採用することができる。このような反応は不活性溶
剤中で行ってもよいし、無溶剤で行ってもよい。使用す
る溶剤自体は公知の溶剤がそのまま使用できる。
法を採用することができる。このような反応は不活性溶
剤中で行ってもよいし、無溶剤で行ってもよい。使用す
る溶剤自体は公知の溶剤がそのまま使用できる。
上記の如くして得られる被覆形成成分であるポリマーの
構造はその主鎖がオリゴマー（Ｂ）とポリイソシアネー
トからなるポリウレタンまたはポリ尿素鎖であり、末端
に化合物（Ａ）の残基であるα、β−エチレン性不飽和
力ルホニル基が結合している構造である。才た、その分
子量は原料の使用比率等を変更することにより種々の分
子量のものが得られるが、本発明の被覆組成物にふ・い
て特に好−ましいものは平均分子量が約８，０００〜５
０，０００の範囲のものである。
構造はその主鎖がオリゴマー（Ｂ）とポリイソシアネー
トからなるポリウレタンまたはポリ尿素鎖であり、末端
に化合物（Ａ）の残基であるα、β−エチレン性不飽和
力ルホニル基が結合している構造である。才た、その分
子量は原料の使用比率等を変更することにより種々の分
子量のものが得られるが、本発明の被覆組成物にふ・い
て特に好−ましいものは平均分子量が約８，０００〜５
０，０００の範囲のものである。
本発明の被覆組成物は上記の被膜形成成分と、該成分を
溶ｗ１．ｔ＊ｉ、分散させる媒体を必須成分とする。媒
体が水である場合は水中分散体、水中乳化体とするのが
一般的であり、媒体が有機溶剤である場合は一般に溶液
状あるいは非水エマルジョン型、油中水型の乳化体であ
る。Ｎましい有機溶剤は比較的揮発性の高い有機溶剤、
例えは、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、シク
ロヘキサン、メチルシクロヘキサン、イソパラフィン類
、リグロイン、ミネラルスピリット等の炭化水素系；酢
酸エチル、酢酸ブチル、酪酸ブチル等のエステル糸；メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類；ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；メタノール
、エタノール、グロバノール、ブタノール等のアルコー
ル類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテート等のエーテル、エステル系等；ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系等が
好ましいものであり、これらの溶剤は単独でも混合物で
もよく、１だ、不活性のものは被覆形成成分の製造時に
反応溶剤として使用し、そのまま被覆組成物の媒体とし
てもよい。このよう力媒体中に加える被覆形成成分の量
は、被覆組成物の使用方法、必要とする添加剤等により
変化するが、一般的には組成物全量の５〜６０、好まし
くは１０〜４０重量係の範囲である。
溶ｗ１．ｔ＊ｉ、分散させる媒体を必須成分とする。媒
体が水である場合は水中分散体、水中乳化体とするのが
一般的であり、媒体が有機溶剤である場合は一般に溶液
状あるいは非水エマルジョン型、油中水型の乳化体であ
る。Ｎましい有機溶剤は比較的揮発性の高い有機溶剤、
例えは、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、シク
ロヘキサン、メチルシクロヘキサン、イソパラフィン類
、リグロイン、ミネラルスピリット等の炭化水素系；酢
酸エチル、酢酸ブチル、酪酸ブチル等のエステル糸；メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類；ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；メタノール
、エタノール、グロバノール、ブタノール等のアルコー
ル類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテート等のエーテル、エステル系等；ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系等が
好ましいものであり、これらの溶剤は単独でも混合物で
もよく、１だ、不活性のものは被覆形成成分の製造時に
反応溶剤として使用し、そのまま被覆組成物の媒体とし
てもよい。このよう力媒体中に加える被覆形成成分の量
は、被覆組成物の使用方法、必要とする添加剤等により
変化するが、一般的には組成物全量の５〜６０、好まし
くは１０〜４０重量係の範囲である。
本発明の被覆組成物は、物品の表面に塗布後、被覆形成
成分を架橋硬化せしめてすぐれた被膜を形成するもので
あるが、その架橋方法や塗膜が必要とする各種物性に応
じて各種の添加物を加える。
成分を架橋硬化せしめてすぐれた被膜を形成するもので
あるが、その架橋方法や塗膜が必要とする各種物性に応
じて各種の添加物を加える。
加熱架橋硬化型組成物の場合はベンゾイルパーオキサイ
ド、ラウロイルパーオキサイド、キュメンハイドロバー
オキザイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、過硫
酸塩、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシアノバ
レリン酸、その他の重合開始剤を被膜形成成分１００重
量部あたり、約０．１〜１０、好捷しくは０．５〜５重
量部の割合で使用する。また、 Ｎ、Ｎ−ジメチルアニ
リン、ナンテン酸コバルト、亜硫酸ナトリウムを併用し
てレドックス系とするのも好ましい。
ド、ラウロイルパーオキサイド、キュメンハイドロバー
オキザイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、過硫
酸塩、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシアノバ
レリン酸、その他の重合開始剤を被膜形成成分１００重
量部あたり、約０．１〜１０、好捷しくは０．５〜５重
量部の割合で使用する。また、 Ｎ、Ｎ−ジメチルアニ
リン、ナンテン酸コバルト、亜硫酸ナトリウムを併用し
てレドックス系とするのも好ましい。
光硬化型の場合は、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエ
ーテル、ベンゾフェノン、ベンジル、アンスラキノン、
ベンゾインジメチルケタール、２−エチルチオキサント
ン、その他の光重合開始剤を、被膜形成成分１００重量
部あたシ約０．１〜１０、奸才しくけ約１〜５重量部の
割合で使用する。
ーテル、ベンゾフェノン、ベンジル、アンスラキノン、
ベンゾインジメチルケタール、２−エチルチオキサント
ン、その他の光重合開始剤を、被膜形成成分１００重量
部あたシ約０．１〜１０、奸才しくけ約１〜５重量部の
割合で使用する。
電子線等の高エネルギー線により架橋硬化する場合は、
上述の如き重合開始剤の使用は必須ではない。
上述の如き重合開始剤の使用は必須ではない。
上述の如き本発明の被覆組成物は、その他各種の添加剤
を包含することができる。１例としては被膜形成成分の
架橋を促進する多官能性モノマーや比較的低分子量（通
常１，０００以下）のオリゴマーがある。例えば、エチ
レングリコールジ（メタ）アクＩＪレート、プロピレン
グリコールジ（メタ）アクＩＪレート、ジエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ネオベンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（
メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアク
リレート、エポキシアクリｌ／−ト、ウレタンアクリレ
ート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリ
レート等のオリゴマーを上記の被膜形成成分１００重量
部あたりθ〜１００］ｆ量部の割合で使用することがで
きる。このようなモノマーおよび／またはオリゴマーは
前記の有機媒体を兼ねることができる。
を包含することができる。１例としては被膜形成成分の
架橋を促進する多官能性モノマーや比較的低分子量（通
常１，０００以下）のオリゴマーがある。例えば、エチ
レングリコールジ（メタ）アクＩＪレート、プロピレン
グリコールジ（メタ）アクＩＪレート、ジエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ネオベンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（
メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアク
リレート、エポキシアクリｌ／−ト、ウレタンアクリレ
ート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリ
レート等のオリゴマーを上記の被膜形成成分１００重量
部あたりθ〜１００］ｆ量部の割合で使用することがで
きる。このようなモノマーおよび／またはオリゴマーは
前記の有機媒体を兼ねることができる。
その他の除加剤としては、染顔料、着色剤、充填剤、強
磁性微粒子材料、４電性椙料、鉱物繊維その他の任意の
添加剤が必要に応じて添加される。
磁性微粒子材料、４電性椙料、鉱物繊維その他の任意の
添加剤が必要に応じて添加される。
以上の如き、本発明の被覆組成物は、金属製品、プラス
チック成形品、木材、合板、紙、プラスチックフィルム
、レザー、織布、その他各種物品の保護被覆、装飾被覆
、印桐インキ、捺染剤等のバインダー、製版用画像レジ
スト、シャドーマスク、ネームプレート、プリント配線
、集積回路等の腐食加工用レジスト、その他の各種の物
品に利用できる。
チック成形品、木材、合板、紙、プラスチックフィルム
、レザー、織布、その他各種物品の保護被覆、装飾被覆
、印桐インキ、捺染剤等のバインダー、製版用画像レジ
スト、シャドーマスク、ネームプレート、プリント配線
、集積回路等の腐食加工用レジスト、その他の各種の物
品に利用できる。
本発明の組成物の各種物品への適用および架橋硬化方法
自体は従来公知の方法でよい。
自体は従来公知の方法でよい。
本発明の被覆組成物によシ得られる架橋硬化被膜は従来
の紫外線ないし放射線硬化型の被膜に比して、密着性、
屈曲性、耐衝撃性、弾性、強靭性、電気特性等各種の性
能においてすぐれている。このようなすぐれた性能は前
述した本発明の被膜形成成分の特定の構成に起因するも
のである。
の紫外線ないし放射線硬化型の被膜に比して、密着性、
屈曲性、耐衝撃性、弾性、強靭性、電気特性等各種の性
能においてすぐれている。このようなすぐれた性能は前
述した本発明の被膜形成成分の特定の構成に起因するも
のである。
次に参考例、実施例をあけて本発明を具体的に説明する
。なお、文中部またはチとあるのは重量基準である。
。なお、文中部またはチとあるのは重量基準である。
参考例１
ペンタエリスリトールトリアクリレ−）、１．２ポリブ
タジエングリコール（平均分子量約３，０００）および
トリレンジイソシアナートを当量比で２二８：１０の割
合で３倍量のメチルエチルケトン中に溶解し、更に不揮
発分の０．０５％のハイドロキノンおよび０，１％のジ
プチル銀シラウリレートを添加し、５０〜８０℃で２０
時間反応させ、平均分子部゛が約１万３千のポリウレタ
ン樹脂を得た。
タジエングリコール（平均分子量約３，０００）および
トリレンジイソシアナートを当量比で２二８：１０の割
合で３倍量のメチルエチルケトン中に溶解し、更に不揮
発分の０．０５％のハイドロキノンおよび０，１％のジ
プチル銀シラウリレートを添加し、５０〜８０℃で２０
時間反応させ、平均分子部゛が約１万３千のポリウレタ
ン樹脂を得た。
参考例２〜１１
参考例１の資材に代えて、下記第１表の資材を使用し、
参考例１と同様にして各種のポリウレタン樹脂を得た。
参考例１と同様にして各種のポリウレタン樹脂を得た。
第 １ 表
１１−
１２ 一
実施例１
参考例１のポリウレタン樹脂８０部、スチレン上ノア−
２０部、トリメチロールプロパントリアクリレート２０
部、ベンゾインジメチルケタール５部、Ｎ−メチルジェ
タノールアミン２部および少量の添加剤（ワックス、消
泡剤、レベリング剤）を配合し、本発明の被覆組成物を
得だ。
２０部、トリメチロールプロパントリアクリレート２０
部、ベンゾインジメチルケタール５部、Ｎ−メチルジェ
タノールアミン２部および少量の添加剤（ワックス、消
泡剤、レベリング剤）を配合し、本発明の被覆組成物を
得だ。
実施例２〜８
実施例１と同様にして、下記第２表の組成の本発明の被
覆組成物を得た。
覆組成物を得た。
第２表
−１５−
使用例１〜８
上記本発明の被覆組成物を使用した結果を下記第３表に
示す。
示す。
第 ３ 表
１６−
なお、参考例６〜９のポリウレタンを使用し、実施例１
〜８と同様にして得だ本発明の被僚糾成物を使用例１〜
８と同様に使用してすぐれた性膜の被膜が得られた、。
〜８と同様にして得だ本発明の被僚糾成物を使用例１〜
８と同様に使用してすぐれた性膜の被膜が得られた、。
特許出願人 大日精化工業株式会社
手続補正書（自発）
昭和５７年６月２日
特許庁長官 殿
２、発明の名称
被覆組成物
３、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住所 東京都中央区日本稿馬喰町−丁目７企６号名称
（２８２）大日精化工業株式会社代表者 高 槁
端 ４、代理人 住 所 東京都中央区日本楡馬喰町−丁目７査６号（
〒１０３）５ 補正の対象 願書および明細誓
（２８２）大日精化工業株式会社代表者 高 槁
端 ４、代理人 住 所 東京都中央区日本楡馬喰町−丁目７査６号（
〒１０３）５ 補正の対象 願書および明細誓
Claims (2)
- （１）α、β−エチレン性不飽和カルボニル基を有する
モノヒドロキシまたはモノアミノ化合物、平均分子量が
約１，０００〜１０，０００の末端ポリヒドロキシまた
はポリアミノオリゴマーおよびポリイソシアネート化合
物から得られる平均分子量が約８．０００〜５０，００
０の反則生成物を主たる被覆形成成分とする被覆組成物
。 - （２）α、β−エチレン性不飽和カルボニル基がアクリ
ロイル基またはメタクリロイル基である特許請求の範囲
第（１）項に記載の被覆組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8147582A JPS58201856A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 被覆組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8147582A JPS58201856A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 被覆組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58201856A true JPS58201856A (ja) | 1983-11-24 |
| JPS6116301B2 JPS6116301B2 (ja) | 1986-04-30 |
Family
ID=13747424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8147582A Granted JPS58201856A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 被覆組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58201856A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH023408A (ja) * | 1987-12-31 | 1990-01-09 | General Electric Co <Ge> | ポリカーボネート物品被覆用光硬化性組成物 |
| WO2004035651A1 (de) * | 2002-10-17 | 2004-04-29 | Basf Coatings Ag | Thermisch und mit aktinischer strahlung härtbarer beschichtungsstoff und verfahren zum beschichten mikroporöser oberflächen |
| DE19826716B4 (de) * | 1997-07-18 | 2009-12-17 | Basf Se | Verfahren zur Herstellung von strahlengehärteten Beschichtungen mit verbesserter Elastizität und hiermit beschichtete Substrate |
| JP2010163594A (ja) * | 2008-12-15 | 2010-07-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 硬化性樹脂組成物、硬化性樹脂フィルム及びそれを用いためっき方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7145048B2 (ja) | 2018-11-16 | 2022-09-30 | キヤノン株式会社 | 撮像装置及びその制御方法、プログラム、記憶媒体 |
-
1982
- 1982-05-19 JP JP8147582A patent/JPS58201856A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH023408A (ja) * | 1987-12-31 | 1990-01-09 | General Electric Co <Ge> | ポリカーボネート物品被覆用光硬化性組成物 |
| JPH0667996B2 (ja) * | 1987-12-31 | 1994-08-31 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | ポリカーボネート物品被覆用光硬化性組成物 |
| DE19826716B4 (de) * | 1997-07-18 | 2009-12-17 | Basf Se | Verfahren zur Herstellung von strahlengehärteten Beschichtungen mit verbesserter Elastizität und hiermit beschichtete Substrate |
| DE19826716B8 (de) * | 1997-07-18 | 2010-06-10 | Basf Se | Verfahren zur Herstellung von strahlengehärteten Beschichtungen mit verbesserter Elastizität und hiermit beschichtete Substrate |
| WO2004035651A1 (de) * | 2002-10-17 | 2004-04-29 | Basf Coatings Ag | Thermisch und mit aktinischer strahlung härtbarer beschichtungsstoff und verfahren zum beschichten mikroporöser oberflächen |
| JP2010163594A (ja) * | 2008-12-15 | 2010-07-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 硬化性樹脂組成物、硬化性樹脂フィルム及びそれを用いためっき方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6116301B2 (ja) | 1986-04-30 |
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