JPS58199087A - プロセス水及び廃水からのオニウム塩の抽出 - Google Patents

プロセス水及び廃水からのオニウム塩の抽出

Info

Publication number
JPS58199087A
JPS58199087A JP58073107A JP7310783A JPS58199087A JP S58199087 A JPS58199087 A JP S58199087A JP 58073107 A JP58073107 A JP 58073107A JP 7310783 A JP7310783 A JP 7310783A JP S58199087 A JPS58199087 A JP S58199087A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
bromide
onium
extraction
phase
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP58073107A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0232949B2 (ja
Inventor
カルステン・イ−デル
デイ−タ−・フライタ−ク
エトガル・オストリニング
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bayer AG
Original Assignee
Bayer AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bayer AG filed Critical Bayer AG
Publication of JPS58199087A publication Critical patent/JPS58199087A/ja
Publication of JPH0232949B2 publication Critical patent/JPH0232949B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/26Treatment of water, waste water, or sewage by extraction
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/50Treatment of water, waste water, or sewage by addition or application of a germicide or by oligodynamic treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2303/00Specific treatment goals
    • C02F2303/18Removal of treatment agents after treatment
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S210/00Liquid purification or separation
    • Y10S210/902Materials removed
    • Y10S210/908Organic

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Extraction Or Liquid Replacement (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、オニウム塩の製造まfcFi使用において生
じる水性の系からのオニ9ム塩(特に第四ホスホニウム
化合物及び殊に第四アンモニウム化合物)の分離及び除
去のための方法を提供する。
今日、オニウム塩は、たとえば繊維助剤、殺菌剤及び相
聞移動触媒として、広範囲の用途を有している。
特に第四アンモニウム塩は、織物軟化剤、ビスコース添
加剤、湿潤堅牢性のための助剤または、染色において、
均染剤または遅延剤として、更には、はがし剤及び抜染
剤として、織吻工t!において用いられている。その上
、織物は、第四アンモニウムの使用によって防腐性且つ
非帯電性ならしめることができる。化粧品工業及び医学
においてに、第四アンモニウム塩の殺菌性及び殺真菌性
が、化粧品及び消毒剤に対して用いられている。浮遊助
剤として(たとえばカリウム塩の製造において)、原油
の生産K>けるam剤として且つ重合反応における乳化
剤として用いられるほか、オニウム塩一般、%に第四ア
ンモニウム塩及びホスホニウム塩は、高活性の層間移動
触媒として用いられる。
たとえば着換、脱離、酸化、還元、ウィツテイヒ及びア
ルドール反応のような多数の有機反応を、層間移動触媒
の使用rCよって、かなり促進することができる。特に
、界面重縮合方法における迅速な高分子量物の合成を挙
げるべきであるが、この場合には、たとえばポリカーl
ネート及びポリエステルのような、価値のある熱可塑性
プラスチック材料を取得することができる。
含まれるこれらのオニウム化合物の殺菌作用に、廃水の
浄化に対して一般に用いられる生物学的浄水工場に対し
て悪影響を有している。浄水工場の細菌培養物が着るし
く冒されるか筐たrat殺されるかも知れないという危
険がある。生物学的浄化工場における第四アンモニウム
化合物の分解が少しは予想されるとしても、それはきわ
めて緩徐で且つ不完全な分解でめるに過ぎない。しかし
ながら、分解は法律rCよって要求されている。かくし
て、浄水工場へと流す前に廃水からオニウム化合物を除
去することが望ましい。
鵬〈べきことVC1第四アンモニウム及び/またにホス
ホニウム化合物は、フェノール類またはその塩を、水と
混和しない溶剤と共に添加することVCよって、水溶液
から容易に抽出し巨り有機相中に移すことができるとい
うことが、本発明によって見出された。この工うにして
オニウム塩ヲ除い九本性の系は、そのままで生物学的浄
化プラント中に導入し、次いで下水道へ送ることができ
る。
このように処理した水性の系に、浄化プラントの細菌植
物相に対して最低限の悪影響を有するのみである。
本発明の方法に対しては、モノフェノール及びジー、ト
リー並びに/リフエノール類が適している。アルキル基
を有しているフェノールが特に適当であるが、しかしな
がら、その場合に汀、引続く相分離をやっかいにする嫌
どフェノールの乳化作用が強くてはならない。
モノフェノールは一般式(1)に相当するフェノールで
ある: 上式中で R1は好ましくはメタ−またけノ々ラー位にあす且つc
t””’ctaアルキルまたはシクロアルキル基、C6
〜C0アリール、アルカリル塘たにアラルキル基を表わ
す。
基RIF′i置換基を有していても工〈且つ直鎖または
枝分れ鎖の何れでもよい。R,ij官能基、たとえばエ
ーテル、チオエーテル、ケト、及び工Iキシ基、ハロダ
ン原子及び/または複素環式の環を含有していても工く
、あるいは置換基としてこれらを有していてもよい。複
数の81基が芳香族化合物に結合していてもよいが、し
かしフェノールのオルト位の二置換はあまり好都合では
ない。
本発明においては、たとえば、以下のフェノール類を用
いることができる: 3−メチルフェノール、 4−メチルフェノール、 3−エチルフェノール、   1゜ 4−エチルフェノール、 3−%−プロピルフェノール、 3−%−ブチルフェノール、 4−%−ブチルフェノール、 5−t−ブチルフェノール、 4−1−ブチルフェノール、 3−%−ペンチルフェノール、 4−n−ペンチルフェノール、 4−%−イソペンチルフェノール、 4−%−ヘキシルフェノール 4−イソヘキシルフェノール、 4−シクロヘキシルフェノール、 2−メチル−4−シクロヘキシルフェノール、4−%−
へブチルフェノール、 4−イソへブチルフェノール、 4−%−オクチルフェノール、 4−インオクチルフェノール、 4−%−ノニルフェノール、 4−イソノニルフェノール、 4−n−デシルフェノール、 4−イソデシルフェノール、 4−イソデシルフェノール、 n−ウンデシルフェノール、 算−ドデシルフェノール、 イソデシルフェノール、 れ−テトラデシルフェノール、 カーステアリルフェノール、 4−フェニルフェノール、 4−トリルフェノール、 4−(2−エトキシエチル)−フェノール、4−(2−
グロポキシエチル)−フェノール、4−(3−エトキシ
エチル)−フェノール、4−ブトキシフェノール、 4−(2−エトキシブトキシ)−フェノール、4−(!
−エトキシヘキシル)−フェノール、場合によっては着
換しであるC4〜C11のR1基を有している式(1)
K従がうフェノールが好適である。
以下のフェノールa#i特に好適である=4−1−ブチ
ルフェノール、 4−インオクチルフェノール、 4−算−デシルフェノール、 4−イソデシルフェノール、 4−蕗一デシルフェノール、及び 4−シクロヘキシルフェノール 一般式(意)・及び(a)に相当するビスフェノール類
が適当なビスフェノールとして含まれる:これらの式中
で R,、R,、R4及びR3は、同一であっても異なって
いてもLく、それぞれ、水素原子、買換してあってよい
CI = CI !アルキルまたはシクロアルキル基、
あるいは臭素または塩素のようなへロrン原子を表わし
、且つ X#″tit@結合、C2〜CtSアルキレンまたはシ
クロアルキレン基、C1〜”18アルキリデンまたはシ
クロアルキリデン基、一方または両方の芳香核に縮合さ
せてあってもよい複素環式基、二環式環系、たとえばノ
ルボルニリデン基、たとえば一へ−1−o−1−s−1
−so−1−so、−のような官能基を表わし、あるい
JriKは一般式(4a)及び(4&)K相当fる基と
することができる:たとえば下記のビスフェノール頌を
用いることができる: 2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−グロノぐ
ン、 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘ
キサン、 2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタン、 2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−ペンタン
、 2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−ヘキサン
、 2.2−ビス−(4−ヒト10キシフエニル)−オクタ
ン、 2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−デカン、 2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−ドデカン
、 2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−へキサデ
カ/、 2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−オクタデ
カン、 2.2−ビス−(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル
)−グロパン、 2.2−ビス−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル
)−グロノぐン、 2.2−ビス−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル
)−シクロヘキサン、 2、!−ビスー(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル
)−へキサデカン、 2.2−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−fロノ々ン、 4.4′−ジヒドロキシフェニルエーテル、4.4′−
ジヒドロキシフェニルチオエーテル、α、α−ビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−p−ソイソゲpピルベンゼ
ン、 2、!−ビスー(4−ヒドロキシフェニル)−ノルlシ
ナン、及び 1.1,1,4.a−ペンタメチル−3−(3゜5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)−インメン−5−オ
ール。
比較的鳩い驕肪族の割合を有するビスフェノールを用い
ることが好ましい。
トリフエノール、テトラフェノール及び一般にポリフェ
ノール類を用いることもできる。たとえば、2.4−ビ
ス−(4−ヒドロキシフェニルーインプロビル)−フェ
ノール、l、4−ビス−4、4’−(ジヒドロキシトリ
フェニルメチル)−ベンゼン、及び1,1,4.4−テ
トラ−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサンが
有用である。
オニウム塩、特Vζ第四ホスホニウム塩、l(K特に第
四アンモニウム塩は、本発明による抽出に対する適当な
対象である。抽出すべき対象が第四アンモニウム塩であ
るときは、窒素原子は、開いた連鎖中及び環系中rc存
在することができる。窒素原子上の置換基は同一であっ
ても異な′りていてもあるいけアラルキル基を表わす。
それぞれの場合に!置換基が結合して環を形成していて
も工く、与 それKよって窒素原子と共に、それが複素環系を形成す
る。複数の第四アンモニウム化合物が、たとえば、アル
キレン基によって結合していてtよい。窒素原子上の置
換基は場合によっては陳換してあって4よい。たとえば
、4〜丁2炭素原子と1〜3窒素原子を有する第四アン
モニウム塩が適当である: 臭化テトラメチルアンモニウム、 塩化テトラ−エチルアンモニウム、 臭化テトラ−エチルアンモニウム、 臭化テトラ−輻−プロビルアンモニウム、臭化テトラ−
蕗−プチルアンモニ9ム、臭化テトラ−謡−ヘキシルア
ンモニウム、臭化テトラ−電−オクチルアンモニウム、
臭化テトラ−乳−デシルアンモニワム、硫酸トリーオク
チル−メチルアンモニウム、沃化トリーオクチル−メチ
ルアンモニウム、’A化N−メチルーN−デシルモルホ
リニウム、臭化N−メチル−N−プチルモルホリニ9ム
、美化N−メチル−N−オクチルモルホリニウム、臭化
N−メチル−N−セチルモルホリニウム、臭化N−メf
ルーN−ぺ/ヅルモルホリニ9ム、塩化N−)チルーN
−ペンノルモルホリニ17A、A化N−メチル−N−エ
チルモルホリニウム、臭化N−メチル−N−エチルピロ
リジニウム、臭化N−メチル−N−!チルピロリノニ9
ム、臭化N−メチル−N−セチルピロリジニウム、臭化
N−メチル−N−オクチルピロリダニ9ム、塩化N−メ
チル−N−ペンノルピロリゾニクム、lt7V−(g−
ヒドロキシエチル)−A/−エチルビペリノニクム、 臭化N−(2−ヒドロキシエチル)−N−ブチルピペリ
ジニウム、 臭化N1x−ヒドロキシエチル)−71/−オクチルピ
ペリVニクム、 塩化N−tg−ヒドロキシエチル)−N−ペンツルビペ
リVニクム、 臭化トリプロピルヘキシルアンモニウム、臭化トリプロ
ピルセチルアンモニウム、美化N−エチル−N−グチル
ーピペリソニウム、A化)IJシクロヘキシルエチルア
ンモニウム、臭化ペンシルトリブチルアンモニウム、塩
化ペンゾルトリメチルアンモニウム、塩化へ中ナデシル
ピ(リジニウム、 臭化ヘキtデシルトリメチルア/モニ9ム、臭化フェニ
ルトリメチルアンモニウル。
硫酸水素テトラプチルアンモニ9ム、 硫酸水翼テトラーエチルアンモニウム、4−トルエンス
ルホン酸テトラ−エチルアンモニウム、 過塩素酸テトラデシルアンモニウム、 臭化トリカプリルメチルアンモニクム、及び臭化ジメチ
ル−トリエチレンジアンモニウム。
抽出が第四ホスホニウム塩を包含する場合には、燐原子
は開いた連鎖中及び環状の系中に存在することができる
。燐原子の置換基は同一のものでも異なるものでもよく
、且つそれらは一般に第四アンモニウム塩の基と同一で
るる。複数の第四ホスホニウム塩が、たとえばアルキレ
ン基によって、結合していてもよい。燐原子の置換基は
場合に工っては置換してあってもよい。たとえば4〜フ
2炭素原子と1〜3燐11A子を有する第四ホスホニウ
ム塩が適当である: 臭化テトラメチルホスホニウム、 塩化テトラーエチルホスホニ9ム、 臭化テトラ−エチルホスホニウム、 J[テトラ−鴇−プロピルホスホニウム、臭化テトラ−
鴇−ブチルホスホニウム、沃化テトラ−亀−へ中シルホ
スホニ9ム、臭化テトラ−鴇−オクチルホスホニ9ム、
臭化テトラ−亀−デシルホスホニ174、臭化トリー稀
−デシルーメチルホスホニウム、臭化トリーフェニル−
セチルホスホニウム、A(?5IJ−フェニルーペンツ
ルホスホニウム、臭化トリーフェニル−メチルホスホニ
ウム、塩化トリーフェニル−エチルホスホニウム、及び
臭化トリーフェニル−ブチルホスホニウム。
本発明に従ってフェノールと組合わせて水性の系から第
四アンモニウム及び/筐たはホスホニウム塩を抽出する
友めに用いる、不活性な水と混相しない有機相としては
、以下の4のが用いられる:ベンゼン、トルエン、、キ
シレン及ヒ酢酸エチル、たとえば塩化メチレン、クロロ
ホルム及び1,2−ジクロロエタンのような塩素化脂肪
族炭化水素xrnc、+とえげクロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン、クロロトルエン及ヒクロロキシレンのよう
な、塩素化芳香族炭化水素。
有機の水と混相しない相の水相に対する容量比は、それ
ぞれの特定の第四アンモニウム及び/またにホスホニウ
ム塩VC対して決定しなければならない。この比Fi両
相の混合の時間とその撤しさにも依存する。しかしなが
ら、一般に有機相の水相rc対する容鎗比劇よ1:25
乃至10:1の範囲とすることがでさる。抽出は、必要
ならば圧力下に、20〜200℃の温度、好ましくけ2
0〜100℃において、行なうことができる。オニウム
塩を含有する水相と有機相プラスフェノールの混合時間
は、0.1−11100秒の範囲とすることができる。
第四アンモニウム及びホスホニウム塩の有機相への移行
は、一般に迅速に生じるから、混合時間は上記の時間範
囲の低い方の領域にあることが好ましい、第四アンモニ
ウムまたはホスホニウム塩のフェノールに対するモル比
は1:1乃至l:100、好ましくは1:1乃至l:2
5でめる。
水相の%HFi中性乃至塩基性でなければならない。
抽出自体は、通常の装置中で、たとえば混合機−分離横
系中で、行なうことができる。たとえば塩化物及び硫酸
塩のような、廃水中vc Lばしは昭められる塩類は、
悪影響を有しておらず、むしろ水相からのオニウム塩の
除去を促進さえする。親有機性フェノール、特に比較的
長いアルキル連鎖を有している−のは、最高の抽出作用
を示す。これらは前記の割合の第四アンモニウムまたは
ホスホ二9ム塩を伴なってほとんど定量的に有機相中に
移行し且つこの相から回収することができる。たとえば
、抽出後に有機相を蒸留することrζ工って、有機溶剤
、フェノール成分及び第四アンモニウムまたはホスホニ
ウム塩を回収することができる。
かくして有機fg剤とフェノール成分は本発明に従る第
四アンモニウムまたはホスホニウム塩を回収すること本
また可能である。
実施例 l (フェノールを添加しない比較例)本発明
の範囲外の実験において、1152ppmの臭化テトラ
−n−ブチルアンモニウム(TBAB)(11ミリモル
)を含有する水溶液を88゜fの塩化メチレンと混合す
る。両相を20分間激しく混合する。次いで水相を分離
して、TBAHの量を測定する。
抽出後に僅かな量のTBABが塩化メチレン相中に移行
しているのみである。315ppmのTEABが水相に
残存し且つs’rpp鴇のTBABが抽出されるのみで
ある。
実施例 2 実施ガ1と同様にして、352ppmの臭化テトラ−露
−ブチルアンモニウムを含有する880fの水溶液を導
入する。186Fの45襲水酸化ナトリウム(1&75
ミリモルのNαOH)と1839(1N75ミ1J−i
−ル)(7)F−47,tクチルフェノールをも加えて
、880Fの塩化メチレンと共IC20分間激しく混合
する。相分111i後rC。
水相中のTBABの残存含鎗を測定する=5〜sppm
のTBAB、1i!施fillと対照的に、オニウム塩
けほとんど定量的に水相から除去される。
実施例 3 異なるフェノールを用いるほかは、実施例2と同様にし
て実験を行なう。183Fのイソオクチルフェノール(
1aystリモル)の代すに、281fのp−t−ブチ
ルフェノール(1&751 ミリモル)を用いる、相分離後VC19ppmの臭化テ
トラ−露−ブチルアンモニウムがなお水相中VC残存し
ているに過ぎない(抽出前: s s 2 ppvpc
のTBAB)e。
実施例 4〜8 352ppmの臭化テトラ−話−ブチルアンそニウム(
THAB)を含有する。実施例1〜3中[記すものと同
様な水溶液を用いて実験を行なう。
実姉例2に従って、TBABのモル数に対してモル的に
過剰のp−イソオクチルフェノール(70F)/NaO
Hを加えたのち、塩化メチレンによる抽出を行なう。T
BABのモル数に対して異なるモル比のp−イソオクチ
ルフェノール(IOP)/Na0HF′i、オニウム塩
の抽出に関して異なる効率を示す。
4        rs     55299%   
98pFyx5      10    352190
14  29ppm@       15     s
sgpps   10Fpm?     !10   
 sszppm  <l+pm8    21!   
 352ppm  く5ppry+抽出時間F′i20
分とした。同量の水相と塩fヒメチレン相を用いた。
実施例9〜13 p−インオクチルフェノールの代りにp−シクロヘキシ
ルフェノール(CHP)を用いるほかは、実施例4〜8
に記すようにして実験を行なう。
実施pJ  CHP/NαOH水相中のTBABのpp
m9      5      352ppm   1
78jjl110     10      351p
pvn    4’199vyh11     15 
      Bs2ppm    11jlP鴎12 
     20      3S29’l)m   6
−5Pj醜ls     25      ss2pp
m   <sppm実施例  13〜17 抽出時間を明らかに短縮する#1かは、実施例2と一様
にして実験を行なった。実施例13〜16によって示す
ように、20分と1分の混合時間の間に抽出効果の相違
huめられない。30秒のみの混合時間(実施例17)
の場合には抽出効果が明らかに低下する。
水相中のTBABのppm ti     go分   ssBptm   <Sp
pm14    10分   s52ppm   <5
TJ9%ls     5分   5sBp畷  <s
ppm16    1分   852ppvn   く
6ppm1マ   B5分  B52pprn  5−
6pf)%実施gI4g 820ppmの臭化テトラ−旙−デジルアンモニウム(
TDAB)<L24ミリモル)を含有する1000tの
水溶液を100Ofの塩化メチレンによってS分間rc
わたりて抽出する。相分JII後に、マasppmのT
DABが水相中に残存する。
LiF(1141リ−v−ル)cD4511水酸化ナト
リウムとLl@f(1!4ミリモル)のp−1−ブチル
フェノールを抽出前に加えるほかは、実験を繰返す、抽
出と相分離ののちに、水相中KH6ppmのTDABが
認められるのみである。
実施例 1′9 352’l)9mの臭化テトラ−n−ブチルアンモニウ
ム(TBAB)を含有する実施例2 r(よる水溶液を
、7.8Fの45−水酸化ナトリウム(88ミリモル)
及びt o、 o tのビスフェノールA(ビス−(4
−ヒドロキシフェニル)−ゾロ/ダン−2,2)(44
ミリモル)と混合したのち、同重量の塩化メチレンと共
に20分間振とうする。相分離後vc、水相中kc〈5
pp漢のTBAB、が存在するのみである。
実施例 20 実施例211Cよる抽出を繰返す。抽出後になお5〜6
pp%のTBABを含有するのみの水相中p−インオク
チルフェノールの量は、7ppmと測定される。かくし
て、オニウム塩の除去後に、本発明の関係内で加えたp
−インオクチルフェノールは、有機相中1C残留するの
で、廃水中には入6ない。
実施9121 sioppmのjll化トリフェニルペンシルホスホニ
ウム(L42ξリ42ミ9含有する1000tの水溶液
を、l!IF(!5tリ5F)の45−水酸化ナトリウ
ムと&1f(25ミリモル)の−一インオクチルフェノ
ールを加えることVC工り、1000fの塩化メチレン
で1分間抽出する。相分離後に、水相中に799%のみ
の塩化トリフェニルーペンシルホスホニウムを定量する
ことができる。
特許出願人  I4イニル・アクチェンrゼルシャフト

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L オニウム塩含有水溶液(対してフェノール化合物を
    η口え、その溶液を水と混和しない有機材料と接触させ
    、それによってオニウム塩を水と混和しない有機材料中
    に移行させ、セして水相を水と混和しない有機材料中の
    オニウム塩から分離することから成る、水浴液からオニ
    ウム塩を除去するための方法。 2 加えるフェノール化合物は1〜4のフェノール性−
    〇H部分を有している、特許請求の範囲第1項記載の方
    法。 & 加えるフェノール化合物はそれぞれ4〜6炭素原子
    を有するアルキルによって置換しであるモノフェノール
    、ビスフェノール、トリフエノールまたはテトラフェノ
    ールである、特許請求の範囲第2墳記載の方法。 也 水溶液のjIHを6〜14の値VC窄節する、特許
    請求の範囲環1〜3項の何れかに記載の方法。 4 水溶液Fi6〜14のpHを有し且つ加えるフェノ
    ール化合物に対するオニウム塩のモル比にl=1乃至t
    :tooである、特許請求の範囲第1〜3項の何れかに
    記載の方法。 a オニウム塩は第四ホスホニウム塩、第四アンモニウ
    ム塩またはそれらの混合物である、特許請求の範囲第5
    項記載の方法。 7、水溶液及び水と混合しない有機材料を約20〜!O
    O℃の温gにおいて約at乃至約1800秒にわたって
    激しく混合する、特許請求の範囲第1項記載の方法。 a 水と混合しない有機相の水溶液に対する容量比は約
    1=25乃至10:1である、特許請求の範囲第1rA
    記載の方法。
JP58073107A 1982-05-03 1983-04-27 プロセス水及び廃水からのオニウム塩の抽出 Granted JPS58199087A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3216383.5 1982-05-03
DE19823216383 DE3216383A1 (de) 1982-05-03 1982-05-03 Extraktion von oniumsalzen aus prozesswaessern und abwaessern

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58199087A true JPS58199087A (ja) 1983-11-19
JPH0232949B2 JPH0232949B2 (ja) 1990-07-24

Family

ID=6162499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58073107A Granted JPS58199087A (ja) 1982-05-03 1983-04-27 プロセス水及び廃水からのオニウム塩の抽出

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4487698A (ja)
EP (1) EP0093320B1 (ja)
JP (1) JPS58199087A (ja)
AT (1) ATE27798T1 (ja)
DE (2) DE3216383A1 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4877886A (en) * 1987-06-19 1989-10-31 Union Carbide Chemicals And Plastics Company Inc. Process for the production of alkylene carbonate
US4968433A (en) * 1989-12-06 1990-11-06 The Dow Chemical Company Removal of organic cations from polar fluids
US5207937A (en) * 1991-04-29 1993-05-04 Mobil Oil Corp. Amine salts of sulfur-containing alkylated phenols or alkylated naphthols as multifunctional antioxidant and antiwear additives
US5705696A (en) * 1996-08-01 1998-01-06 General Electric Company Extractive method for the preparation of quaternary salts
US6077976A (en) * 1998-12-17 2000-06-20 Basf Corporation Process for recovery of aminoalcohols from aqueous solutions containing inorganic salts
US6113790A (en) * 1998-12-18 2000-09-05 Basf Corporation Process for removing water-soluble organics from waste streams
US7010492B1 (en) 1999-09-30 2006-03-07 International Business Machines Corporation Method and apparatus for dynamic distribution of controlled and additional selective overlays in a streaming media
US6723249B2 (en) 2001-12-18 2004-04-20 Baker Hughes Incorporated Detoxification of onium compounds
DE10164145A1 (de) * 2001-12-27 2003-07-10 Bayer Ag Verfahren zur Auftrennung von Reaktionsgemischen und Rückführung von Quartärsalzen
DE10164143A1 (de) * 2001-12-27 2003-07-10 Bayer Ag Verfahren zur Auftrennung von Reaktionsgemischen und Rückführung von Quartärsalzen und Basen
DE10210623A1 (de) * 2002-03-11 2003-09-25 Haarmann & Reimer Gmbh Alkoxy-substituierte Indane und deren Herstellung

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2475005A (en) * 1945-11-23 1949-07-05 Bakelite Corp Onium-catalyzed phenolic resins
US3158647A (en) * 1955-10-05 1964-11-24 Gulf Research Development Co Quaternary ammonium fatty, phenate and naphthenate salts
DE1642392A1 (de) * 1967-05-06 1971-05-06 Basf Ag Verfahren zur Entfernung von organischen Stickstoffbasen bzw.Phenolen aus Abwaessern
SE354849B (ja) * 1969-06-12 1973-03-26 Haessle Ab
US3855269A (en) * 1972-07-27 1974-12-17 Phillips Petroleum Co Apparatus and method for separating tetraalkylammonium salt
NL7903216A (nl) * 1979-04-24 1980-10-28 Tno Werkwijze voor het extraheren van ammoniumverbindingen, alsmede verbindingen geschikt voor gebruik bij deze werkwijze.
SU833949A1 (ru) * 1979-05-28 1981-05-30 Белорусский Ордена Трудового Красногознамени Государственный Университетим. B.И.Ленина Способ очистки солей высших четвертичныхАММОНиЕВыХ ОСНОВАНий, СОдЕРжАщиХ OT16 дО 36 ATOMOB углЕРОдА
JPS57171940A (en) * 1981-04-14 1982-10-22 Sumitomo Chem Co Ltd Purification and concentration of quaternary ammonium compound

Also Published As

Publication number Publication date
DE3216383A1 (de) 1983-11-03
ATE27798T1 (de) 1987-07-15
US4487698A (en) 1984-12-11
DE3372089D1 (en) 1987-07-23
EP0093320A3 (en) 1986-02-05
JPH0232949B2 (ja) 1990-07-24
EP0093320B1 (de) 1987-06-16
EP0093320A2 (de) 1983-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS58199087A (ja) プロセス水及び廃水からのオニウム塩の抽出
CN104946303B (zh) 一种选择性分离油中酚类混合物的方法
DE2426510A1 (de) Verfahren zur herstellung von polyarylenestern
US4042564A (en) Method for preparing polyphenylene ethers
DE2360709A1 (de) S-triazin-vorpolymerisaten
EP0381204A1 (de) Phosphornitridchloride enthaltende Zusammensetzungen
JP3554063B2 (ja) デソルター洗浄水中での原油の乳化または分散を抑制する方法
JPS63230659A (ja) 重合防止剤の回収方法
DE2610675A1 (de) Verfahren zur herstellung von cyanazofarbstoffen
US7923418B2 (en) Emulsion breaker
WO2012073976A1 (ja) ピペラジン-n,n'-ビスカルボジチオ酸塩水溶液及びその製造方法
JPS5968314A (ja) アクリル酸またはメタクリル酸のエステル類の重合方法
DE2233940A1 (de) Verfahren zur herstellung wasserfreier loesungen von alkaliarylaten und zur abtrennung dieser arylate von alkalisulfit
JPS6237642B2 (ja)
DE69433495T2 (de) Verfahren zur Herstellung von Polycarbonaten
US20180222832A1 (en) Process for Aluminum Catalyst Deactivation and Removal from Alkylated Phenols
US4864065A (en) Process for removing halogenated hydroxyaromatics from aqueous solutions
DE1193046B (de) Verfahren zur Herstellung von Organomercaptomethylsiloxanen
US3563969A (en) Process for preparation of vinyl benzyl halide polymers and their quaternary ammonium salts
DE1015223B (de) Verfahren zur Herstellung von Sulfoniumgruppen enthaltenden stark basischen Anionenaustauschharzen
JPH0665653B2 (ja) ビニル芳香族単量体の重合禁止剤および重合禁止方法
JPS6144139A (ja) コバルトおよびニツケルを含有する水溶液からコバルトを分離する方法
US7344648B2 (en) Use of silicones for causing or facilitating the flow of dispersions of solid particulates in liquids
DE3305686A1 (de) Verfahren zur beseitigung von oelschlick auf seewasser und hierfuer geeignete zusammensetzung
JPH07310077A (ja) 原油エマルジョン処理用乳化破壊剤