JPS58198427A - 4−〔4′−(トランス−4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゾトリフルオロメタン - Google Patents
4−〔4′−(トランス−4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゾトリフルオロメタンInfo
- Publication number
- JPS58198427A JPS58198427A JP8056082A JP8056082A JPS58198427A JP S58198427 A JPS58198427 A JP S58198427A JP 8056082 A JP8056082 A JP 8056082A JP 8056082 A JP8056082 A JP 8056082A JP S58198427 A JPS58198427 A JP S58198427A
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- Japan
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- trans
- formula
- cyclohexen
- liquid crystal
- benzotrifluoromethane
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- Pending
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本晃鴫&j正り鱒電典h1ヶボ丁ν「規な液晶−員に関
する3゜ 献晶表乃く木士口象晶物質か南−する光学異方性及び鱒
電^方性V利用したもので必るが、その表示方式KqT
N臘、D8a1、ゲスト・ホスト槌、1)AP!!11
.ホワイト・ティラーamなど各機り上式が69、−t
n−eれの方式VCより使用される液晶1MK41卓さ
れる性質も褐る。例えば貴71<重子り櫨訓VCよって
、液晶切實として一電^ノコ性ΔCが正のものr必要と
したり、負のものを必要としたシ、或はその中間的な値
のものが適した夛する。しかしいずれにしても使用され
る淑晶物ii[はでをるだけ広い11置範−で藪晶韻髪
下し、又水分、熱、空気、光などに対して安定で44必
費かある。視在りところ単一化合物でこの糠な条件tす
べて桐たすものはなく、数株の敵晶化f吻や非畝晶化付
物
する3゜ 献晶表乃く木士口象晶物質か南−する光学異方性及び鱒
電^方性V利用したもので必るが、その表示方式KqT
N臘、D8a1、ゲスト・ホスト槌、1)AP!!11
.ホワイト・ティラーamなど各機り上式が69、−t
n−eれの方式VCより使用される液晶1MK41卓さ
れる性質も褐る。例えば貴71<重子り櫨訓VCよって
、液晶切實として一電^ノコ性ΔCが正のものr必要と
したり、負のものを必要としたシ、或はその中間的な値
のものが適した夛する。しかしいずれにしても使用され
る淑晶物ii[はでをるだけ広い11置範−で藪晶韻髪
下し、又水分、熱、空気、光などに対して安定で44必
費かある。視在りところ単一化合物でこの糠な条件tす
べて桐たすものはなく、数株の敵晶化f吻や非畝晶化付
物
【混合して一応実HAK制えるも#)v侍ているのが
機状である。 不発−の化ft!1flIはこの僚な目的に波相される
1&晶&底物の一成分として1胸な、低帖曳で広い龜曳
軸−で歇晶相ン示す倉熾な敞晶化鎗吻Cある。 限ち、本鈍I#4ri−飯式 %式%) (上式中には炭素1(1〜10すIルキAムを不す) で表わされる4−(4−()ランス−4−フA午ルシク
ロヘキシル)シクロヘキセン−1−・イル〕ペンシトリ
フルオロメタンでめる。 本兜明り化合Vは低粘度で、しン戸もUいい歇晶mmm
m’rもつ。例えば4−[4’−()ランス−4−グロ
ビルシクロヘキシル)シフし】へギセンー1−イル〕ペ
ンゾトリプルオロメタzti粕晶−スメクチック点(C
”’、’i’;U 7に30C、xメクチソクーネマチ
ツク6(am−N点)125.7℃2本マチック−a切
点(N−I点)1291℃と広い温度範囲で敵晶相を示
し、!!%電兵力fi * 4J−) 7程度、粘夏龜
20℃で50 cp程度(外押1匠)と、低粘性で広(
・−反範囲でネマナツク本晶札を)」、す敵晶組賊物を
青るりに好蜘な化酋物で占る。 つきに4.、見明り1ヒ台−り表瓜法について述べる。 ! −j” 4−)リフルオロメ1ルノ゛ロ七ベノゼ/
トに輌マク不ンウムとノ又ルムdぜ4−トリフルオロメ
チルベ/ゼ/マグネ/ウムプ0ミドとし、これに4−<
ドア/スー4−fルキルシクロヘキシル)7クロへキt
ツノとス嘉しさせて4−(4−< 1フノスー4−フル
キルシクロヘキシル)シクロ−\キナノー 1−オール
〕ベンソトリフルオpメメンとTるU次にこれ’rmm
水木力リクムす脱ボし一ξq−(4’−()う/スーツ
−アルキル/クロー蔦キンル)/クロヘキセンー1−イ
ル」ベー′ノ°トリ7ノし7ムメタ/τ44゜以上ン化
字式で示すと、 以F、爽施例によシ本発明の化合−の製法及びり用例に
ついてさらに評細に――する。 ★船1(4−[4’−()ランス−4′−7°ルビ^シ
クロヘキシル)シクロヘキセ/− 1リイ身〕ベンシトリフルオロメタ/ のm慮〕 削)状マグネシフ^t2F(CLロ49モル)ン3つ目
フラスコに入れ4−トリフルオロメチルブロモベンゼン
1101 (0,049モル)ケチトラヒドロフランに
浴かしたl[25sgY:N、4A訛中で瓜応温度50
〜35℃に保ちなかり、ゆっくり一下して行くと反応に
より3時間でマグネシウム「よ盛けて均一なliKなり
4−トリフ)ktロメチルベンゼンマグネンクムグl1
lIンドゼ生じる。 こ九に4−()ノ/スー4′−グロビルシクQヘキシル
)7クロヘキVノンのa、z y < tLose七k
)?テトンヒドc17う/に緩かして50−としたもの
t反ムth一度t5〜10℃に−5つつなるべく連やか
rc鳴Fすす。−一ト俵、−一まで昇−してから+tt
l+l慎仔し、りいで5N−塩酸100m馨加える。反
応献ン分績r斗にと)10ローのトル工/で6−嫁出恢
、酋わせたトルエン層ンI11相賞埴水で洗畝が中性に
なるまで洗浄し一〇7J・らトルl/に賊比曽太する。 貴貿した油状−は、4−〔4′−(トランス−4−グロ
ビルシクロヘキ/ル)シフoへ*t/−1−1−6)べ
/ノドリフルオロメタ/でるり、これに懺絃水巣刀すウ
ム4.01Y加え、′klIB気訛’P150Cで1峙
關脱水すi、冷却*、20Ll−のトルエン奮加えてか
ら偽鍍水本カリウムを#J別し、トルエン層に&象か’
PaKなるまで水洗する。次いでトルエン【賊圧曽犬し
、残る油状會をエメノールで丹鮎−して得られるのか目
的の4−cj −(トランス−4−プlaビルシクロヘ
キシル)シクロヘキセン−1−イル〕ベンシトリフルオ
ロメタンである。収量10t、収率7−0七りC−8m
点は7g(1: 、 Sm−N点U125.7℃、N−
IAは1291cで4つた。 以下同様にして次の化合物が板組される。 a−〔1−()ランス−4′−メチルシクロヘキシル)
シクμヘキ童ンー1′−イル〕ベンシトリフルオロメタ
ン。 4−(4−()ランス−i−エチル/クロー\中シル)
シクロヘキセン−1′−イA〕ベンゾトリプルオロメタ
ン。 4−4!−tトランス−j−yナルシクロヘキシル)シ
フnヘキセノ−1−イh〕ペンシトリフルオロメタン。 4−[4−()ランス−7−ベンナル7クロヘキシル)
シクロヘキセン−1−(ル]ベンゾ) IJ 7i&+
オロメタン。 4−(4′−(ト?ンスー41−へキシルシクロヘキシ
ル)シクロヘキセン−1′−イル〕ヘンシトリフルオロ
メタノ。 4−(4’−()う/ス−4″〜へメチルシクロヘキシ
ル)/クロヘキセ/−17−イル〕ベンシトリフルオロ
メタ/。 4−(4’−()ランス−4″−オクナル7クロヘキン
ル)シクロヘキセ/1′−イル〕へ/ソトリフルオロメ
タ/。 4〜(4’ −()フ/スー 4−ノニルシクロヘキシ
ルンノタρへ中セフ−1フーイル〕ベンシトリフルオロ
メタン。 4− 〔4’i)う/ノー4#−デシルシクロヘキシ
ル)フクロヘキセ/−1フーイル〕べ/ソトリフルオロ
メタン。 vl施劉+2(使用例) トラ7スー4−プロピル−(4−ンアノフェニル)シク
ロヘキg72に3% ト>/ノー4−べ/チルー (4−シアノフエニノし)
シクロヘキサ/ 42− トランス−4−ヘゲチル−(4−77ノフエニル) シ
クロ−\キナノ 6υ囁 なる組成のa晶組戟−りネマチック猷晶−阪軛一は一5
〜52Cである。この献晶lll1戚智ンセル厚10μ
諷のTNセルCQじれネマ1ツクセル)y(J1人した
ものの動作しきい電圧ll1issv、飽罪電圧は2.
12.Vであった。又粘度は20℃で25CI)でめっ
た。 上記の猷ム組戚195部に本発明の実施ガ1の4−(4
’−()ランス−4−ブロビルンクΩヘキンル〕ンクロ
ヘキセン−17−イル〕ペンシトリフルオロメタン5−
ン澗えた献晶−戚智のネマナツク故−L転−は一5〜5
49Lに玖か9、又これt先と同じ“l″hhセル入し
Iこものノ鯛作り龜1.−’!圧は155 V 、 1
@411 電圧tよzliV。 2OCK&ける粘には27 C9であり、製作しきい電
圧、飽@l電圧の麹ン始んど上昇さゼずにネマナツクm
u軸囲tムけることかできた。 以上
機状である。 不発−の化ft!1flIはこの僚な目的に波相される
1&晶&底物の一成分として1胸な、低帖曳で広い龜曳
軸−で歇晶相ン示す倉熾な敞晶化鎗吻Cある。 限ち、本鈍I#4ri−飯式 %式%) (上式中には炭素1(1〜10すIルキAムを不す) で表わされる4−(4−()ランス−4−フA午ルシク
ロヘキシル)シクロヘキセン−1−・イル〕ペンシトリ
フルオロメタンでめる。 本兜明り化合Vは低粘度で、しン戸もUいい歇晶mmm
m’rもつ。例えば4−[4’−()ランス−4−グロ
ビルシクロヘキシル)シフし】へギセンー1−イル〕ペ
ンゾトリプルオロメタzti粕晶−スメクチック点(C
”’、’i’;U 7に30C、xメクチソクーネマチ
ツク6(am−N点)125.7℃2本マチック−a切
点(N−I点)1291℃と広い温度範囲で敵晶相を示
し、!!%電兵力fi * 4J−) 7程度、粘夏龜
20℃で50 cp程度(外押1匠)と、低粘性で広(
・−反範囲でネマナツク本晶札を)」、す敵晶組賊物を
青るりに好蜘な化酋物で占る。 つきに4.、見明り1ヒ台−り表瓜法について述べる。 ! −j” 4−)リフルオロメ1ルノ゛ロ七ベノゼ/
トに輌マク不ンウムとノ又ルムdぜ4−トリフルオロメ
チルベ/ゼ/マグネ/ウムプ0ミドとし、これに4−<
ドア/スー4−fルキルシクロヘキシル)7クロへキt
ツノとス嘉しさせて4−(4−< 1フノスー4−フル
キルシクロヘキシル)シクロ−\キナノー 1−オール
〕ベンソトリフルオpメメンとTるU次にこれ’rmm
水木力リクムす脱ボし一ξq−(4’−()う/スーツ
−アルキル/クロー蔦キンル)/クロヘキセンー1−イ
ル」ベー′ノ°トリ7ノし7ムメタ/τ44゜以上ン化
字式で示すと、 以F、爽施例によシ本発明の化合−の製法及びり用例に
ついてさらに評細に――する。 ★船1(4−[4’−()ランス−4′−7°ルビ^シ
クロヘキシル)シクロヘキセ/− 1リイ身〕ベンシトリフルオロメタ/ のm慮〕 削)状マグネシフ^t2F(CLロ49モル)ン3つ目
フラスコに入れ4−トリフルオロメチルブロモベンゼン
1101 (0,049モル)ケチトラヒドロフランに
浴かしたl[25sgY:N、4A訛中で瓜応温度50
〜35℃に保ちなかり、ゆっくり一下して行くと反応に
より3時間でマグネシウム「よ盛けて均一なliKなり
4−トリフ)ktロメチルベンゼンマグネンクムグl1
lIンドゼ生じる。 こ九に4−()ノ/スー4′−グロビルシクQヘキシル
)7クロヘキVノンのa、z y < tLose七k
)?テトンヒドc17う/に緩かして50−としたもの
t反ムth一度t5〜10℃に−5つつなるべく連やか
rc鳴Fすす。−一ト俵、−一まで昇−してから+tt
l+l慎仔し、りいで5N−塩酸100m馨加える。反
応献ン分績r斗にと)10ローのトル工/で6−嫁出恢
、酋わせたトルエン層ンI11相賞埴水で洗畝が中性に
なるまで洗浄し一〇7J・らトルl/に賊比曽太する。 貴貿した油状−は、4−〔4′−(トランス−4−グロ
ビルシクロヘキ/ル)シフoへ*t/−1−1−6)べ
/ノドリフルオロメタ/でるり、これに懺絃水巣刀すウ
ム4.01Y加え、′klIB気訛’P150Cで1峙
關脱水すi、冷却*、20Ll−のトルエン奮加えてか
ら偽鍍水本カリウムを#J別し、トルエン層に&象か’
PaKなるまで水洗する。次いでトルエン【賊圧曽犬し
、残る油状會をエメノールで丹鮎−して得られるのか目
的の4−cj −(トランス−4−プlaビルシクロヘ
キシル)シクロヘキセン−1−イル〕ベンシトリフルオ
ロメタンである。収量10t、収率7−0七りC−8m
点は7g(1: 、 Sm−N点U125.7℃、N−
IAは1291cで4つた。 以下同様にして次の化合物が板組される。 a−〔1−()ランス−4′−メチルシクロヘキシル)
シクμヘキ童ンー1′−イル〕ベンシトリフルオロメタ
ン。 4−(4−()ランス−i−エチル/クロー\中シル)
シクロヘキセン−1′−イA〕ベンゾトリプルオロメタ
ン。 4−4!−tトランス−j−yナルシクロヘキシル)シ
フnヘキセノ−1−イh〕ペンシトリフルオロメタン。 4−[4−()ランス−7−ベンナル7クロヘキシル)
シクロヘキセン−1−(ル]ベンゾ) IJ 7i&+
オロメタン。 4−(4′−(ト?ンスー41−へキシルシクロヘキシ
ル)シクロヘキセン−1′−イル〕ヘンシトリフルオロ
メタノ。 4−(4’−()う/ス−4″〜へメチルシクロヘキシ
ル)/クロヘキセ/−17−イル〕ベンシトリフルオロ
メタ/。 4−(4’−()ランス−4″−オクナル7クロヘキン
ル)シクロヘキセ/1′−イル〕へ/ソトリフルオロメ
タ/。 4〜(4’ −()フ/スー 4−ノニルシクロヘキシ
ルンノタρへ中セフ−1フーイル〕ベンシトリフルオロ
メタン。 4− 〔4’i)う/ノー4#−デシルシクロヘキシ
ル)フクロヘキセ/−1フーイル〕べ/ソトリフルオロ
メタン。 vl施劉+2(使用例) トラ7スー4−プロピル−(4−ンアノフェニル)シク
ロヘキg72に3% ト>/ノー4−べ/チルー (4−シアノフエニノし)
シクロヘキサ/ 42− トランス−4−ヘゲチル−(4−77ノフエニル) シ
クロ−\キナノ 6υ囁 なる組成のa晶組戟−りネマチック猷晶−阪軛一は一5
〜52Cである。この献晶lll1戚智ンセル厚10μ
諷のTNセルCQじれネマ1ツクセル)y(J1人した
ものの動作しきい電圧ll1issv、飽罪電圧は2.
12.Vであった。又粘度は20℃で25CI)でめっ
た。 上記の猷ム組戚195部に本発明の実施ガ1の4−(4
’−()ランス−4−ブロビルンクΩヘキンル〕ンクロ
ヘキセン−17−イル〕ペンシトリフルオロメタン5−
ン澗えた献晶−戚智のネマナツク故−L転−は一5〜5
49Lに玖か9、又これt先と同じ“l″hhセル入し
Iこものノ鯛作り龜1.−’!圧は155 V 、 1
@411 電圧tよzliV。 2OCK&ける粘には27 C9であり、製作しきい電
圧、飽@l電圧の麹ン始んど上昇さゼずにネマナツクm
u軸囲tムけることかできた。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 11)−叡式 (上式中&4は屍嵩畝1〜1υすIルヤル轟【不す) で表わされる4−CI−<トフンス−4“−IA中ルシ
クロヘ中シX)シフ−ヘキセ/−1′−イル〕ベンゾト
リフ Atuメタノ。 (2)一般式 (上式中kLは炭素鎖1〜1uのアルキル轟【ホす) で嶽わされる4−(4’−()う/スー4′−1ルキル
シクロヘキシA)シクロヘキセノ−11−イノ1」ベノ
ゾトリ7hオロメタンを少なくとも一種含有することV
%徴とする液晶繊成り。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8056082A JPS58198427A (ja) | 1982-05-13 | 1982-05-13 | 4−〔4′−(トランス−4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゾトリフルオロメタン |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8056082A JPS58198427A (ja) | 1982-05-13 | 1982-05-13 | 4−〔4′−(トランス−4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゾトリフルオロメタン |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58198427A true JPS58198427A (ja) | 1983-11-18 |
Family
ID=13721716
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8056082A Pending JPS58198427A (ja) | 1982-05-13 | 1982-05-13 | 4−〔4′−(トランス−4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゾトリフルオロメタン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58198427A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4684476A (en) * | 1985-02-27 | 1987-08-04 | Chisso Corporation | Pyrimidine derivative and liquid crystal composition containing same |
US4775764A (en) * | 1987-07-28 | 1988-10-04 | Mallinckrodt Inc. | Method for preparing 4,4' difluorobiphenyl |
US4910350A (en) * | 1987-09-29 | 1990-03-20 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Fluorine-substituted cyclohexylcyclohexene derivative |
CN106479513A (zh) * | 2015-08-05 | 2017-03-08 | 默克专利股份有限公司 | 液晶介质 |
-
1982
- 1982-05-13 JP JP8056082A patent/JPS58198427A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4684476A (en) * | 1985-02-27 | 1987-08-04 | Chisso Corporation | Pyrimidine derivative and liquid crystal composition containing same |
US4775764A (en) * | 1987-07-28 | 1988-10-04 | Mallinckrodt Inc. | Method for preparing 4,4' difluorobiphenyl |
US4910350A (en) * | 1987-09-29 | 1990-03-20 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Fluorine-substituted cyclohexylcyclohexene derivative |
CN106479513A (zh) * | 2015-08-05 | 2017-03-08 | 默克专利股份有限公司 | 液晶介质 |
CN106479513B (zh) * | 2015-08-05 | 2022-12-06 | 默克专利股份有限公司 | 液晶介质 |
US11884862B2 (en) * | 2015-08-05 | 2024-01-30 | Merck Patent Gmbh | Liquid-crystalline medium |
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