JPS58192856A - 安息香酸アミド誘導体およびそれらを含有する除草剤 - Google Patents

安息香酸アミド誘導体およびそれらを含有する除草剤

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JPS58192856A
JPS58192856A JP7339182A JP7339182A JPS58192856A JP S58192856 A JPS58192856 A JP S58192856A JP 7339182 A JP7339182 A JP 7339182A JP 7339182 A JP7339182 A JP 7339182A JP S58192856 A JPS58192856 A JP S58192856A
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JP
Japan
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group
formula
represent
acid amide
compound
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JP7339182A
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English (en)
Inventor
Ikuo Kimura
育夫 木村
Mitsumasa Yamazaki
三正 山崎
Yasunari Sakuraba
桜庭 保也
Takayuki Isogawa
五十川 隆之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hodogaya Chemical Co Ltd
Original Assignee
Hodogaya Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特定の安息香酸ア(ド鱒導体およびそれt含
有する除草剤に関するものである。
本発明者らは、安息香酸系の化合物に薄日して除草活性
を検討していたところ、特定の安息香酸アミド誘導体の
特異な作用な見い出し、本発明な完成させるに至った。
本発明の第一の発明は、一般式 〔但し、式中のR,およびR,は水素[L低級アル中ル
基、低級アルケニル基、低級アル中ニル基を衰わす、た
だし、R8およびR3が共に水素原子を示すことはない
。またR、および−は式中の窒素原子と共にピロリジノ
基、ピペリジノ基、a−メチルヒヘリジノ基、またはへ
中サメチレンイζ)基ヲ形成してもよい、〕で表わされ
る安息香酸アイド誘導体であり、第二の発明は、轟該化
合物な含有する除草剤である。
次に本発明に係る安息香酸アイド鍔導体の代表的なもの
な示す。
□ 811表 本発明化合物は、′eLK示す各種の方法により合成す
ることができる。
(1)一般式 〔ただし、式中、Xは・・ロゲン腺子It表わす。〕で
表わされろ7・ロメチルシタロヘキサン類と一般人 〔ただし、式中、R1,R1は前記定義の通りとする。
〕で表わされるメタヒドロキ7安息香酸アイド鱒導体と
な反応させる。
すなわちI・ロメチルシクロへ中すン類〔璽〕とメタヒ
ドロキシ安息香酸アイド鰐導体〔■〕とを無溶媒または
不活性有機**中、脱I・ロゲン化水素剤に用い、加熱
するととにより反応させる。不活性溶媒としては、トル
エン、*シレン、ジメチルホルム7()″、ジメチルス
ルホ中シV、ジグリムなと、またはその混合物が適当で
ある。°脱ハロゲン化水素剤としては、たとえば炭酸ナ
トリウム。炭酸カリウムのような炭fllアルカリ金属
または水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような水酸
化アルカリ金属が、また金属化合物としては、たとえば
銅粉、塩化第−鋼などな使用するのが好適である0反応
温度および反応時間は′、主としてI!用される化合物
によつ【異なるが、一般に50℃ないし還流温度で、1
ないし20時間が好適である。
反応終了vk、目的化合物は常法に従って反応混合物よ
り得ることができる。
(1)一般式 で表わされるメタシフaへ中シルメト命シ安息香酸また
はその反応性誘導体と一般式 〔ただし式中h RIs R1は前記定義の通りとする
。〕で表わされるアイソとを反応させる。
ここでいう反応性誘導体とは eハライド、M無水物ま
たはエステルなどがあげられる。
この反応は、無溶媒または不活性有機溶媒中において行
なわれる。遊離酸および反応性誘導体のうち glクロ
ライド°を用いるのが一般的で、あり。
脱塩化水素剤の存在下で行なわれる。使用に供される酸
クロライドは、遊離酸と塩化チオニルまたはホスゲンと
kより、合成される。不活性有機溶mとしてはトルエン
、dPシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオ中サン、ジクロルメタン、四基化炭、素、酢酸エ
チルなど、またはその混合物が適当である。また脱塩化
水素剤としては1例えばトリエチルアtノ、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸ナトリウムなどt使用するのが・適当で
ある0反応は一般に発熱反応であるので、冷却下にて行
なわれるのが普通である0反応時間は主に反応温度、V
!用される化合物によって、異なるが、瞬時ないし数時
間程度である0反応終了後、目的化合物は常法に従つ【
反応混合物より得ることができる。
次にその代表的な合成例な示す。
合成例I  N−エチル S−シタaへ中シルメトキシ
安息香酸アζド N−エチル 3−ヒトcx命シ安息香酸ア()′19.
8F、シクロヘキシルメチルブーマイV17.7F、炭
酸カリウム2(LD?、銅粉α2rをジメチルホルムア
(ドl001111に加j、110℃にて20時間攪拌
した0反応終了後1反応混合物な700−の水の中へ注
ぎ、析出した結晶をP別、乾燥して粗結晶245tを得
た。これなベンゼンn−ヘキサンの混合溶媒から再結晶
して、N−エチル 3−シクロヘキシルメト命シ安息香
@1イド19.11を得た。融点87〜88℃、収率7
五2%(シタロヘ中シルメナルプロマイド基底)であっ
た。
元素分析値(C鏝u、No、として) 計算値:C7五56  H&81  N5.56実験値
:C7五29  H&66  N!L42I R(Nu
joll法、極大吸収 ff1−’ )5560 15
40 1486 1247合成例2 N−アリル 3−
7クロヘキシルメトキシ安息香醗ア(ド 3−シクロへキシルメト命シ安息香酸クロライ)” 5
. I Fのテトラヒドロフラン溶液に、水浴で冷却下
攪拌しながら、アリルアイン8−を滴下し、滴下終了後
室温−にて10分攪拌した。反応終了後。
反応液な500−の水の中へ注ぎ、析出した結晶をP別
、乾燥して粗結晶&5Pを得た。これをベンゼン・n−
へキナノの混合溶媒から再結晶して。
N−7リル 5−シクロヘキシルメト中シ安息香饋アミ
ド五7F&得た。一点74〜76℃ 収率67.5%(
カルボン酸りaライド基底)であった。
元素分析値(C*t H2s NO!とし−C)計算値
:C74,75H&42  N515実験mニア4.9
7  H&19  Nt94I R(Nujo14法、
!大吸収 国−3)1635   1585   15
37   1240本発明の除草側は、関配一般式(1
)で表わされる化合物を有効成分として各櫨担体と混合
し、水和剤、乳剤、粉剤及び粒剤等の形11に製剤化す
ることKより得られる。担体のうち液状担体としては、
通常用いられる有機溶媒が使用され、固体相体としては
1通常用いられる鉱物質微粉が便用される。また製剤製
造に際しては、乳化性、分触性および展着性等な付与す
るため、界面活性剤が6加される。セしてさらに、肥料
、除草側、殺虫剤および殺菌剤等の他の奥薬な混合して
g!用することもできる。
除草側としてfC用するためKは、有効成分化合物を所
望の除草作用を奏するよう充分施用する。
その施用量は有効成分1ないし2000F/I Daの
1曲内で施用されるが、普通は1ないし1000r/1
01、そしてなるべくは100ないし500r/10m
がよく、有効成分(11ないし50%な含む水和剤。
乳剤、粉剤、粒剤なとの形態に製剤化して用いる。
乳剤とするには、有効成分な農耕上容関される何傍#[
に形解し、溶媒可溶性乳化剤?加える。
適当な溶媒は通常水と混和しないものであって。
炭化水素、1累化炭化水車、ケトン、エステル、アルコ
ールおよびアイド類等の有機#1媒である。
H用fx #l謀I工Fルエノ、ギシレン、ナフサ、過
りaルエチレ/、シクロへ牟すノン、イソホロンおよび
ジメチルホルムアイドまたはこれらの混合vA髪挙げろ
ことカーできろ、特に適する溶媒は、芳査族炭化水素お
よびケトン拳であるが、普通は溶媒の混合物な用いる。
乳化1I11−として用いる界面f′8性剤は、乳剤の
約α5ない120重量部な占め、陰イオン性でも陽イオ
ン性でも、あるいは非イオン性でもよい。
陰イオン界面活性剤には、アルコールサルフエ−)jり
i!スルホ$−)、アルキルアリールスルホネートまた
はスルホすクシネート、例えばドデシルベンゼンスルホ
ン酸カルシウムまたはジオタ4−yスルホコハク酸ナト
リウム等である。
陰イオン界面活性剤には、脂肪族アルキルアイン喋およ
び脂肪酸アル中ル藁4級1、例えばラウリルアミ7虫a
t[または塩化ラウリルジメチルベンジルアンモニウム
が挙げられる。
便用することのできる非イオン乳化剤には、アルキルフ
ェノール+脂肪アルコール、メルカプタンまたは脂肪酸
のエチレンオキシド付加物、例えばステアリン酸のポリ
エチレンクリコールエーテルマタはパルミ千ルアルコー
ルもしくはオクチルフェノールのポリエチレンクリコー
ルエーテルな挙げることができる。
有効成分の濃度は、5ないし80重量部で、特に10な
いし50重量部の範囲内が適当である。
水和剤は、不活性微粉化固体担体および界面活性剤へ有
効成分な添加してつくる。有効成分は5ないし50重量
部の範囲内で、また界面活性剤はα5ないし20重量部
で存在するのが普通である。
有効成分との配合に常用する固体担体は、天然に産出す
る粘土、ケイ酸塩およびシリカ、石灰および炭酸塩なら
びに有機担体類である。これらの代表例は、カオリン、
ンークライト、フラー土、タルク、ケイノウ土、マグネ
シウム石灰、ト°ロマイトおよび胡桃穀粉である。
店用されろ乳化剤および11m剤は、ボIJオキシエチ
レン化アルキルフェノール、脂肪アルコール、ohす緻
およびアルキルアイン、1ルキルア1ノールスルホネー
トおよびジアルキルスルホサタシネート等である。
m看eにはグリセリンマンニットラウレートおよび無水
フタル酸で変性したオレイン酸とボ1ノグリセリンとの
結合体のような物質が挙げられる。
分散屋には無水マレイン蟹とオレフィン、例]え(イジ
イノプチレンとの共重合体のナト1)ラム塩、1ノグニ
ンスルホン酸ナトリウムおヨヒホルムアルデヒド−ナフ
タリンスルホン酸ナトlウム等カ′−用一・られる。
粉剤は、有効成分を粉剤の製造に常用される不を内性相
体1例えばタルク、微粉化粘土、Sロウ6フ4フ9士、
炭Wマグネシウムまたはコムギ粉と配合することKよっ
てつくる。
有効成分が10ないし80重量部の範囲で存在する濃厚
粉剤が普通つくられるが、除草剤として施用するvA圧
は、さらに固体な加えて約1ないし20重量部に希釈す
る。
粒剤は、有効成分を農耕上容認される担体、例えばベン
トナイト、カオリンタレ−、ケイノウ士またはタルクに
混入することによってつくる。このような粒剤は有効成
分を1ないし50重量部含む。
本発明の除草剤は、水田の強害草として知られているノ
ビエ、−マガヤツリ、ミゾハコベに対して除草活性な示
す、しかも、イネに対する薬害は全く認められない。
次に本発明の除草剤taX例および試験例によって説明
する。
以下に本発明剤の調製について異体的な実施例な示す、
なお「部」とあるのは「重量部」を意味する。
実施例1 (乳剤) 化合物番号−225部 キンレン              35部ンタロヘ
キサノン          50部ツルポール 80
0A          10部(IN邦化宇■tii
1m) を均一に混合溶解し1本発明乳剤を得た。
実施例2 (水和剤) 化合物番号−150s カオリンクレー          45sノルボール
 5059          5 mft混合粉砕し
、本発明水和剤tl−得た。
実施例3 (粉m1ll) 化合物番号−65W6 カオリンクレー          95部な混合粉砕
し1本発明粉剤を得た。
実施例4 (粒剤) 化合物番号−155s ベントナイト             45部タルク
              45部リグニンスルホン
酸ソー〆      5部な均一に混合粉砕し、水な加
えて練り、造粒乾燥して本発明粒剤な傅た。
次に本発明に係る化合物の有用性を以下の試験例にて具
体的に説明する。
試験例 (水田土壌処1m) 直径11.5011.深さ101のポットに水田土壌な
つめ、!!層に各檜水田雑草な含む水田±Ijlな加え
た後、施肥、代か傘して湛水S1とし水稲苗(品種二二
ホンバレ、葉令2.51部期)2本を移植した。水稲移
植彼4日目に本発明削氷による希釈液の所定!#ナビペ
ン)Kて水中に滴下処理した。
調査は薬剤処理後20日目kIC除草効果および水稲に
対する薬害の有無を観察により行なった。その結果を第
二表に示す。なお表中評価は1次の基準による。
除草効果指数          薬害指数5:完全除
草効果        −二無害4:80〜90%の除
草効果    士:僅小害5:60〜79%の除草効果
    +:小害2:40〜59%の除草効果    
惜:大害1:20〜59%の除草効果    @:甚害
O:20%以下の除草効果    X:枯死1■ 保土谷化学工業株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 を一般式 〔ただし1式中のR1およびR3は水素原子、低級アル
    中ル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基な表わす
    。ただし、R1およびR3が共に水素原子を示すことは
    ない。またR1および島は式中の窒素原子と共にビaリ
    ジノ基、ピペリジノ基、a−メチルピペリジノ基、また
    はへキtメチレンイi)基を形成してもよい、〕で表わ
    される安息香酸アイド誘導体。 2一般式 〔ただし、式中のR1およびR3は水素原子、低級アル
    中ル基、 低級アルケニル基、低級アルキニル基な表わ
    す、ただし、R1およびR,が共に水素原子を示すこと
    はない。またR1およびR,は式中の窒素原子と共にピ
    ロリジノ基、ピペリジノ基、−一メチルピペリジノ基、
    またはへ1IPtメチレンイイノ基な形成してもよい、
    〕で嵌わされる安息香s!1ミド鋳導体を含有する除草
    剤。
JP7339182A 1982-05-04 1982-05-04 安息香酸アミド誘導体およびそれらを含有する除草剤 Pending JPS58192856A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4764619A (en) * 1985-03-26 1988-08-16 Asahi Glass Company Ltd. Optically active compounds, smectic liquid crystal compositions containing them and smectic liquid crystal display devices

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4764619A (en) * 1985-03-26 1988-08-16 Asahi Glass Company Ltd. Optically active compounds, smectic liquid crystal compositions containing them and smectic liquid crystal display devices

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