JPS58175190A - 半導体メモリ - Google Patents

半導体メモリ

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JPS58175190A
JPS58175190A JP58030240A JP3024083A JPS58175190A JP S58175190 A JPS58175190 A JP S58175190A JP 58030240 A JP58030240 A JP 58030240A JP 3024083 A JP3024083 A JP 3024083A JP S58175190 A JPS58175190 A JP S58175190A
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transistor
base
supply line
power supply
emitter
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ダニエル・デユモン
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Koninklijke Philips NV
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Philips Gloeilampenfabrieken NV
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    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/41Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
    • G11C11/413Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
    • G11C11/414Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the bipolar type
    • G11C11/415Address circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
〔従来技術〕 本発明は、行列マトリックスに配置したメモリセルを有
する半導体メモリであって、各メモリセルがエミッタ接
続した2つのトランジスタを有し1これらトランジスタ
のコレクタをベースに交差接続し、マトリックスの行中
のメモリセルが第1および第2の給電ライン間に互いに
並列に接続されており、第1給電ラインをライン選択電
位或いは休止電位にする為のスイッチング手段か第1給
電ラインに接続されており、給電ラインに接続された各
メモリセル内に記憶されたデータ?維持Tる為の電流源
が第2給電ラインに接続されており、前記のスイッチン
グ手段が第1トランジスタを具えており、該第1トラン
ジスタのエミッタが第1給電ラインに接続され、そのベ
ースが第1給電ラインをライン選択電位にする為の電圧
パルスを受ケルようにし、前記のスイッチング手段が更
に、第1給電ラインをライン選択電位から休止電位に放
電させるか或いは第2給電、ラインを放電させる為の池
のトランジスタを具えており、前記の半導体メモリが更
に、第1トランジスタのベースにおける電圧パルスの経
了を検出するとともに前記の池のトランジスタを制御す
る検出手段を具えており、この目的の為に該検出手段が
第1トランジスタのベースに少くとも間接的に接続され
ているようにした半導体メモリに関するものである。 この種類のメモリは特開13i355− x29992
号明細書から既知であり、ここにはE、 C,L技術に
基づいた静的メモリが記載さnている。 本発明は特にE、 C,L技術(エミッタ結合論理技術
)によって造ったRAMメモリに関するものであるがこ
れに限定されるものではない。 従来技術によれば、常規作動中はメモリの行(選択され
た行)のセルは給電ラインを経て高(選択)電位vHの
点に接続され、池の行のすべての池のセルはこれらの池
の行の数に相当する本数の給電ラインを経て低(休止)
電位vBの点に接続されている。2つの異なる行に属し
ている2つのセル間の転移に際しては、選択された給電
ラインの電位をvHからvBにできるだ蚤ブ迅速に減少
せしめる必要がある。メモリセルの行に灼する給電ライ
ンは比較的大きなキャパシタンスすなわち容量(行の1
6.82.64・・・個のセルを相互連結するアルミニ
ウムテープの容量と各セルの自己容量)を有する。この
大きな容量が、行が休止電位に急速に放電するのを阻止
する。上述した転移の瞬時に特別な放電電流を発生させ
ることは知られており、この放電電流はしばしば゛付加
t?M”と称されており、放電さすべき給電ラインに供
給される。 この”付加電流”を適当な瞬時に、放電さすべき給電ラ
インとこnに関連する放電回路との間で切換えることは
、IEEEの文献(J 1 fl2 fl (Janu
ary1981 ) 、 ”Large E、C,L、
 Bipolar RAM5 ” (第120〜124
頁、第11図)に開示されている。 この文献に記載されている回路では、セルの行kJlす
る給電ラインに接続されているアドレス回路(このアド
レス回路は特にこの文献で″第1トランジスタ”と称さ
れているアドレストランジスタを有している)のいずれ
かの側で選択された所定の2点間でvH−+VBの転移
の瞬時に生じる動的な電位差を利用している。■H→v
Bの転移の彰時には上記の2点における電圧が変化する
。Tなゎちアドレス回路における電圧が低容量の制御回
路の為にVHから靭に直ちに減少するも、給電ライン上
の電圧はこの給電ラインの容量が比較的大きい為比較的
ゆっくり減少する。 従来技術によれば、前記の勢的な電位差が第1の差動増
幅器により検出これ、これにより第2の差動増幅器を制
御し、この第2の差動増幅器により付加電流を、放電さ
すべき給電ラインに供給している。 この回路を用いることにより実際に給電ラインの放電を
迅速に達成し得るも、この付加電流源は永続的に作動し
ている。すなわちこの付加電流源はこの付加電流を実際
に必要とする鱒時にのみ作動するものではない。付加電
流は数ミリアンペアの電流強度を有しており、メモリの
軍人カ電流の可成りの部分を占めており、無視すること
ができない。このことはエネルギー消費の点で重大な欠
点となるものであり、従って不必要な熱が半導体メモリ
内に発生する。また従来のこの回路は複雑であり、多く
の回路素子を有しており、従ってメモリの半導体結晶上
で比較的大きなスペースを占める。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、従来技術によるのと同じ原理に基づい
て構成するも、付加放電電流に対し永続的に作動する電
流源を用いず、従ってエネルギーが熱となって消費され
るの?著しく減少せしめた半導体メモリを提供せんとす
るにある。本発明の池の目的は、比較的簡単で数個の素
子のみを有し、従ってわずかなスペースしか必要としな
い半導体メモリを提供せんとするにある。 本発明は1行列マトリックスに配置したメモリセルを有
する半導体メモリであって、各イモリセルがエミッタ接
続した2つのトランジスタを有し、これらトランジスタ
のフレフタをベースに交差接続し、マトリックスの行中
のメモリセルが第1および第2の給電ライン間に互いに
並列に接続されており、第1給電ラインをライン選択電
位或いは休止電位にする為のスイッチング手段が第1給
電ラインに接続されており、給電ラインに接続された各
メモリ七ル内に記憶されたデータを維持する為の電流源
が第2給電ラインに接続されており、前記のスイッチン
グ手段が第1トランジスタを具えており、該第1トラン
ジスタのエミッタが第1給電ラインに接続され、そのベ
ースが第1給電ラインをライン選択電位にする為の電圧
パルスを受けるようにし、前記のスイッチング手段が更
に、第1給電ラインをライン選択電位から休止電位に放
電させるか或いは第2給電ライン牙放寛させる為の池の
トランジスタ?具えており、前記の半導体メモリが更に
、第1トランジスタのベースにおける電圧パルスの終了
を検出するとともに前記の池のトランジスタを制御する
検出手段を具えており、この目的の為に該検出手段が第
1トランジスタのベースに少くとも間接的に接続されて
いるようにした半導体メモリにおいて、前記の検出手段
が第2トランジスタを具え、該第2トランジスタのエミ
ッタを第】給電ラインに接続し、該第2トランジスタの
ベースを少くとも間接的に第1)ランジスタのベースに
接続し、前記の池のトランジスタを前記の第2トランジ
スタのフレフタを経て制御し、m 1および第2トラン
ジスタをそれぞれ第1および第2の導電型としたことを
特徴とテる。 給電ラインと第1トランジスタのベースとの間に生じる
電位差は第2トランジスタのベース−エミッタ回路によ
り検出され、これにより第2トランジスタが導通する。 第2トランジスタを流れる電流は池のトランジスタと称
する第1導電型の少くとも1つのトランジスタにより増
幅される。得られた放電、を流G1第1給電ライン或い
は第2給電ラインのいずれかに供給する。 従来技術に比べて本発明によれば、付加放電電流がわず
かな期間の間流れるだけであるという利点が得られる。 すなわち池のいがなる瞬時においても、行が選択されて
いるが休止状態にあるかにかかわらず、第2トランジス
タは非導通状態に維持される。これにより、従来技術の
メモリに比べてメモリ内のエネルギー消費を著しく減少
せしめる。また本発明によれば、メモリ回路を集積化す
る半導体結晶上のスペースを節約しつる。その理由は、
本発明による回路は特にわずがな個数の素子しか有さな
い為である。 第2トランジスタのエミッタは行の第1給電ラインに、
従って第1トランジスタのエミッタにも接続するのが好
ましい。休止状態において適当なバイアス電圧を得る為
には、電流源に接続されている第2トランジスタのベー
スを、ダイオードと第1導電型の第4トランジスタのエ
ミッターベース通路とを(この順序で)経てIR)+ラ
ンジスタのベースにも接続し、この第4トランジスタの
ベースおよびコレクタを第1トランジスタのベースおよ
びコレクタにそれぞれ接続する。前述したようにダイオ
ードは第2トランジスタのエミッタおよびベース間に静
的なバイアス電圧を設定Tる為、第2トランジスタは導
通状態に近い状態となり、従って、給電ラインおよびメ
モリセルの行が選択状態から非選択状態に切換ゎると第
2トランジスタは極めて迅速に導通状態となる。 所望の静的なバイアス電圧の設定を得る方法は池にもあ
ること町らがである。第2トランジスタのエミッタが行
の第1給電ラインにも接続されており、上述した例とは
わずかに相違する回路の例では、−2トランジスタのベ
ースを電流源に且つ第1導電型の第4トランジスタのエ
ミッタにも接続し、この第4トランジスタのベース全抵
抗分圧器のタップに接続し、この抵抗分圧器の一端を第
1トランジスタのベースに接続し、この抵抗分圧器の地
端を第1導電型の前記のI!1トランジスタのコレクタ
に接続Tる。 図面につき本発明を説明する。 第1図はメモリマトリックスの1つの行に関する本発明
によるメモリ回路の一部のみを示T0メモリのマトリッ
クスの行の各々に対し同じ回路を用いる。列区分および
読出し回路等のようなメモリの池の部分自体は既知であ
り、その説明は省略する。 第1図のメモリマトリックス行】0は既知のようにして
形成し、2つの給電ライン】1および12間に並列に接
続された複数のメモリセル18を有する。本例ではメモ
リセル18を構成が周知のE、C0L型とする。この構
成を、上記のメモリセルを表わTブロックの1つの中に
示す。すなわち、2つのエミッタを有しフリップフロッ
プとして接続されている2つのトランジスタがこれら2
つのエミッタのうちの第1のエミッタおよび共通抵抗を
経て第2の給電ライン12に接続されている。 各トランジスタの第2のエミッタは列導線の一本に接続
されている。交差的に結合されているベースおよびコレ
クタは抵抗を経て第1の給電ライン11に接続されてい
る。図面を簡潔とする為にメモリセル内には符号を付さ
なかった。 第1給電ライン1】はnpn型トランジスタT1のエミ
ッタに接続する。このトランジスタを以後第1トランジ
スタと称する。第1トランジスタT1のコレクタは正¥
3圧ライン15に接続する。第】トランジスタT1のベ
ースには給電ライン11の状
【(選択された状態である
か休止状態であるか)′f副制御°る電圧パルスを供給
する。 第2給電ライン】2は線図的に示T電流源16に接続し
、この1!1流源はセル18に、これらセルに記憶され
ているデータを維持するのに必要な電流を供給する作用
をする。 メモリセル18の給電ライン】1および12は大地に対
し比較的大きl電気的容量(キャパシタンス)を有して
いる。関連の給電ライン1】および12と大地との間に
接続したコンデンサ17および18によって線図的に示
すこの容量は、ライン11および12が長くなればなる
程およびセル18の個数が多くなればなる程大きくなる
。給電ライン11が、選択された状態(第1トランジス
タT のベースに高電圧Vnが印加された状a)か】 ら休止状p(第1トランジスタT1のベース・に低電圧
VBが印加されている状態)に転移する際、第1トラン
ジスタT1のベース側における電圧はVHからVBに迅
速に変化するも、ライン11および12における電圧は
コンデンサー7および18の放電期間の為に第1トラン
ジスタT□のベースにお(ブる電圧よりも著しくゆっく
り変化する。従って、ライン11の放電中筒1トランジ
スタT]のベースとそのエミッタとの間に動的な電位差
が生じる。 この電位差は、本発明によるメモリ回路における検出後
に、ライン11或いは12の放電を迅速にする為のに時
電流を形成するのに用いる。前述したように本発明によ
るメモリ回路は、第2導電型(本例の場合pnp型)の
トランジスタT2(以後第2トランジスタと称する)を
具え、そのエミッタを行の給電ライン(本例の場合ライ
ン1])に接続し、ベースを端子】9に接続し、この端
子を電流源4に接続するとともにトランジスタT1のベ
ースに間接的に接続し、トランジスタT2のコレクタを
少くとも1つの池のnpn型トランジスタT8を経て行
10の給電ライン11@いは12に接続したコトを特徴
としている。第2トランジスタTのコレクタはトランジ
スタTδのベースに接続する。 トランジスタT8のエミッタは接地しそのコレクタは点
Aでラインl】に接続する。或いはまた、トランジスタ
T8のコレクタは給電ライン1】上の点Aの代りに給電
ライン12上の点Bに接続することができる。 更に、トランジスタT1およびT2のベース間の接続は
直接的でなく間接的とする。すなわちこの接続は端子】
9からダイオード20(このダイオードの陰極をこの端
子]9に接続する)およびトランジスタT4 (npn
型)のベース−エミッタ接合を経る接続とする。トラン
ジスタT、のベースおよびコレクタはトランジスタTI
ノペースおよびコレクタにそれぞれ接続する。 ダイオード20は第2トランジスタT2のベースおよび
エミッタ間に適切なバイアス電圧を形成するも、このバ
イアス電圧により、給電ライン1】が休止電位を有する
場合にこの第2トランジスタT2を丁度導通せしめない
ように(導通状態の直前の状態)する為に設けたもので
ある。 第2トランジスタT2のベースは端子19を経て電流回
路に接続する。この電流回路は、トランジスタT1およ
びT、から゛の電流回路として、ダイオード20および
電流源4を有している。この電流回路は給電ライン11
或いは12に対して極めて小さな容量を有している。従
って、トランジスタT2のベースにおける電圧変化は殆
んどトランジスタT1のベースにおける電圧変化と同期
し、一方トランジスタTユおよびT2のエミッタにおけ
るvHからVBへの電圧変化はコンデンサ17および1
8の容量が大きい為に著しくゆっくりとなる。 メモリセルのライン1】が選択されているか選択されて
いない安定な作動状態にある場合は、トランジスタT2
のバイアス電圧をこのトランジスタT2が丁度遮断状態
となるような(導通状態の直前の状態となるような)電
圧とする。ライン1】が選択信号を受けると(すなわち
正電圧がトランジスタT□のベースに印加さ渇と)、ト
ランジスタT2のベースおよびエミッタにおける電圧が
ほぼ同時に増大し、最終的に互いに等しくなる(実際に
はトランジスタT2のエミッタ側で前述した容1比の為
にわずかな遅延が常に生じ、この遅延がFランジスタテ
2のバイアス電圧の減少に寄与する)。 従ってトランジスタT2は、ライン11が非1択状態か
ら選択状態に転移する際に遮断状態に維持される。vH
がVBに変化する場合には上述した状態と逆の状態が生
じる。丁なわちトランジスタT2のベースにおける電圧
は電気的な容量に関する前述した理由の為にトランジス
タT2のエミッタにおける電圧減少よりも早く減少する
。従ってトランジスタT3のベース−エミッタダイオー
ド(接合)の端子間電圧は増大し、この電圧の増大によ
りこのトランジスタを急激に導通状態とする。従って電
流がこのトランジスタT2を経て流れ、トランジスタT
によって増幅される。トランジスタT8によつて増幅さ
れた電流は点Aにおいてライン1】に或いは点Bにおい
てライン12に供給され、これによりコンデンサ17お
よび18の放電を早める。 放電処理が進行すると、トランジスタT2のエミッタニ
オける電圧が減少し、トランジスタT2のペースおよび
エミッタ間の電圧は直ちにこのトランジスタが再び遮断
状態となるような電圧になる。 付加放電電流は、このような電流を実際に必要とする短
かい期間中のみ存在することに注意する必要がある。こ
の点が、永続的に作動する放mm流源を有し、セルの行
がもはや選択されなくなる瞬時に上記の電流源の電流が
この行に正しく切換わって与えられるようにした従来の
回路における作動と相違する点である。 図面にはトランジスタT2を通る電流に対し1つのみの
増幅トランジスタを示しである。第2の増幅トランジス
タを導入することによっては(このトランジスタは必ず
しもトランジスタT8と縦続接続する必要はない)、構
成の簡単化に特徴のある回路を殆んど複雑にすることは
ない。実際には、増幅度が充分大きく集積回路に組み込
んだ1つのプレーナpnp型増幅トランジスタを用いれ
ば充分であることを確かめた。 トランジスタT8のコレクタを給電ライン】】上の点A
に接続するか給電ライン12上の点Bに接続するかの選
択は、この接続によって回路の池の点に得られる電圧或
いは電流の波形や、一方の場合或いは地方の場合に得ら
れる放電速度のような要因に応じて行なう。点Aに接続
すると放電速度が極めて速くなる。放電速度はメモリの
池の部分のスイッチング速度に適合させるのが最良であ
る◇第2図は第1図の回路の一部分(第1図のn−■線
よりも左側の部分)の池の例を示す。本例でハ体止状態
においてトランジスタT2にバイアス電圧を異なるよう
にして与える。第2図の例ではトランジスタT□、 T
2. T、を第1図におけ2・のと同様に相互接続する
。電流源4は図示のように端子19に接続し、この端子
19はトランジスタT2のペースに接続する。しかし端
子19はnpn型トランジスタT5のエミッタにも接続
し、このトランジスタのコレクタは電圧ライン】5に接
続する。トランジスタT5のベースは、2つの抵抗21
および22より成りトランジスタT1のベースおよびラ
イン15間に接続された分圧器のタップにmaする。ト
ランジスタTのバイアス電圧の値は抵抗20および21
の値の比に依存すること明らかである。この方法が特に
、トランジスタT2のバイアス電圧を制御し、付加放電
電流を供給する瞬時および期間を決定するトランジスタ
T0のペース側およびエミッタ側間の容量比を調整する
方法である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるメモリ回路を示す回路図、第2図
は第1図のメモリ回路の一部の変形例を示す回路図であ
る。 4、】6・・・電流源 10・・・メモリマトリックス行 11、 1’2・・・給電ライン 18・・・メモリセル 15・・・正電圧ライン

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 行列マトリックスに配置したメモリセルを有する半
    導体メモリであって、各メモリセルがエミッタ接続した
    2つのトランジスタを有し1これらトランジスタのコレ
    クタをベースに交差接続し、マトリックスの行中のメモ
    リセルが第1および第2の給電ライン間に互いに並列に
    接続さnており、第1給電ラインなライン選択電位或い
    は休止電位にする為のスイッチング手段が第1給電ライ
    ンに接続されており、給電ラインに接続された各メモリ
    セル内に記憶されたデータを維持する為の電流源が第2
    給電ラインに接続されており、前記のスイッチング手段
    が第1トランジスタを具えており、l第1)ランジスタ
    のエミッタが第1給電ラインに接続され、そのベースが
    第1給電ラインをライン選択電位にする為の電圧パルス
    を受けるようにし、前記のスイッチング手段が更に、第
    1給電ラインをライン選択電位から休止電位に放電させ
    るが或いは第2給電ラインを放電させる為の院のトラン
    ジスタを具えており、前記の半導体メモリが更に、第1
    トランジスタのベースにおける電圧パルスの終了を検出
    するとともに前記の池のトランジスタを制御する検出手
    段を具えており、この目的の為に該検出手段が第1トラ
    ンジスタのベースに少くとも間接的に接続されているよ
    うにした半導体メモリにおいて、前記の検出手段が第2
    トランジスタを具え、該第2トランジスタのエミッタを
    第1給電ラインニ接続し、該第2トランジスタのベース
    lr少くトも間接的に第1トランジスタのベースに接続
    し、前記の池のトランジスタを前記の@2)ランジスタ
    のコレクタを経て制御し、第1および第2トランジスタ
    をそれぞれ第1および@2の導電型としたことを特徴と
    する半導体メモリ。 ム 特許請求の範囲1記載の半導体メモリにおいて、第
    2トランジスタのベースをダイオ−F (2o)および
    第4トランジスタ(T4)のエミッターベース接合を経
    て第1トラン、ジスタのベースに接続し、前記の第4ト
    ランジスタを第1導電型とし、この第4トランジスタの
    ベースオヨびコレクタを第1トランジスタのベースおよ
    びコレクタトそれぞれ接続し、前記のダイオード(20
    )の陰極を第2トランジスタ(T2)のベースに接続し
    、第2トランジスタには電流源(4)をも接続したこと
    を特徴とする半導体メモリ。 & 特許請求の範囲l記載の半導体メモリにおいて、第
    2トランジスタ(T2)のベースを電流源(4)および
    第1導電型のi、4)ランジスタ(T、)のエミッタに
    接続し、第4トランシタのコレクタを第1トランジスタ
    (T、)のコレクタにvVeし、第4トランジスタのベ
    ースを、第1トランジスタ(T□)のベースおよびコレ
    クタ間に接続され、た分圧器(jll、22)に接続し
    たことを特徴とする半導体メモリ。 表 特許請求の範囲l、〜8のいずれか1つに記載の半
    導体メモリにおいて、第2トランジスタをpnp型のプ
    レーナトランジスタとしたことを特徴とする半導体メモ
    リ。
JP58030240A 1982-02-26 1983-02-26 半導体メモリ Granted JPS58175190A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8203237 1982-02-26
FR8203237A FR2522432A1 (fr) 1982-02-26 1982-02-26 Procede pour obtenir la decharge rapide d'une rangee de matrice memoire, et circuit de decharge dynamique correspondant

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58175190A true JPS58175190A (ja) 1983-10-14
JPH0315280B2 JPH0315280B2 (ja) 1991-02-28

Family

ID=9271390

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58030240A Granted JPS58175190A (ja) 1982-02-26 1983-02-26 半導体メモリ

Country Status (9)

Country Link
US (1) US4539659A (ja)
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KR (1) KR910000966B1 (ja)
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GB (1) GB2117202B (ja)
IE (1) IE54398B1 (ja)
IT (1) IT1170111B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59162689A (ja) * 1983-03-07 1984-09-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 半導体メモリのワ−ド線放電回路
JPS60140592A (ja) * 1983-12-28 1985-07-25 Hitachi Ltd 半導体メモリ

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4570240A (en) * 1983-12-29 1986-02-11 Motorola, Inc. AC Transient driver for memory cells
US4864539A (en) * 1987-01-15 1989-09-05 International Business Machines Corporation Radiation hardened bipolar static RAM cell
US4825413A (en) * 1987-02-24 1989-04-25 Texas Instruments Incorporated Bipolar-CMOS static ram memory device
US4961168A (en) * 1987-02-24 1990-10-02 Texas Instruments Incorporated Bipolar-CMOS static random access memory device with bit line bias control
US5278795A (en) * 1987-03-27 1994-01-11 U.S. Philips Corporation Memory circuit having a line decoder with a Darlington-type switching stage and a discharge current source
US4862421A (en) * 1988-02-16 1989-08-29 Texas Instruments Incorporated Sensing and decoding scheme for a BiCMOS read/write memory
US4951255A (en) * 1989-04-14 1990-08-21 Atmel Corporation Memory current sink
US5321658A (en) * 1990-05-31 1994-06-14 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor memory device being coupled by auxiliary power lines to a main power line
CA2042432A1 (en) * 1990-05-31 1991-12-01 Robert M. Reinschmidt Memory selection circuit

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4168490A (en) * 1978-06-26 1979-09-18 Fairchild Camera And Instrument Corporation Addressable word line pull-down circuit
FR2443118A1 (fr) * 1978-11-30 1980-06-27 Ibm France Dispositif pour l'alimentation des memoires monolithiques
JPS55129992A (en) 1979-03-24 1980-10-08 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory
DE3004565C2 (de) * 1980-02-07 1984-06-14 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Integrierte digitale Halbleiterschaltung

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59162689A (ja) * 1983-03-07 1984-09-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 半導体メモリのワ−ド線放電回路
JPS60140592A (ja) * 1983-12-28 1985-07-25 Hitachi Ltd 半導体メモリ

Also Published As

Publication number Publication date
US4539659A (en) 1985-09-03
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JPH0315280B2 (ja) 1991-02-28

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