JPS58172310A - う蝕の予防・治療剤 - Google Patents
う蝕の予防・治療剤Info
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- JPS58172310A JPS58172310A JP5508382A JP5508382A JPS58172310A JP S58172310 A JPS58172310 A JP S58172310A JP 5508382 A JP5508382 A JP 5508382A JP 5508382 A JP5508382 A JP 5508382A JP S58172310 A JPS58172310 A JP S58172310A
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- JP
- Japan
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- substance
- preventive
- plaque
- dental
- inhibiting
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なう触の予防・治療剤に関する。
近年、わが国においても、食生活の向上、就中しよ糖の
過剰摂取によりう触（虫歯等）が増加している。しかし
ながら、う触に対する満足すべき予防・治療法が未だ提
供されておらず、その開発が待たれていた。
過剰摂取によりう触（虫歯等）が増加している。しかし
ながら、う触に対する満足すべき予防・治療法が未だ提
供されておらず、その開発が待たれていた。
重置勇者はこれについて研究を行った結果、口腔内細菌
による歯垢形成阻止物質に優れたう触の予防・治療効果
のあることを既に見出し、先に特許出願した（特願昭５
６−５１９８５号）。
による歯垢形成阻止物質に優れたう触の予防・治療効果
のあることを既に見出し、先に特許出願した（特願昭５
６−５１９８５号）。
更に１本発明者は抗う触作用ケ有する物質の探索を行な
ったところ、歯垢形成阻止物質と既に抗う触作用のある
ことが知られている歯垢溶解作用を有する物質を併用す
ると、夫々の単独に比較し抗う触作用が相乗的に増強さ
れることを艶出し、本発明を完成した。
ったところ、歯垢形成阻止物質と既に抗う触作用のある
ことが知られている歯垢溶解作用を有する物質を併用す
ると、夫々の単独に比較し抗う触作用が相乗的に増強さ
れることを艶出し、本発明を完成した。
−（なわち、本発明は歯垢形成阻止物質と歯垢溶解物′
Ａを含有するり触の予防・治療剤な提供するものである
。
Ａを含有するり触の予防・治療剤な提供するものである
。
本発明の有効成分の一つである１ｌｌＩ垢形成阻止物質
としては次のものが挙げられる。
としては次のものが挙げられる。
■ 口腔内細菌による不溶性グルカン合成を阻害する物
質 Ａ８ｐｅｒｇｉｌｌｕ８ ｔｅｒｒａｕｓが生産するム
タステイン等のかびが生産する活性物質、放＋Ｍｉｌｌ
が生産するリボシドリン（ｒｉｂＯｃｉｔｒｉｎ ）等
の活性物質、ａｍが生産するシクロデキストリン合成酵
素、デキストラン合成酵素、レバンシュクラーゼ等の活
性物質。
質 Ａ８ｐｅｒｇｉｌｌｕ８ ｔｅｒｒａｕｓが生産するム
タステイン等のかびが生産する活性物質、放＋Ｍｉｌｌ
が生産するリボシドリン（ｒｉｂＯｃｉｔｒｉｎ ）等
の活性物質、ａｍが生産するシクロデキストリン合成酵
素、デキストラン合成酵素、レバンシュクラーゼ等の活
性物質。
■ 口腔内ｍ菌の生育を阻害する物質
放線菌が生産するムタノリジン（ｍｕｔａｎｏｘｙｓｉ
ｎ）、口腔内ｍｓが生産するバクテリオシン、口腔内細
菌の生菌又は元凶等に対する抗血清、ペニシリン、セフ
ァロスポリン、カナマイシン等の抗生物質。
ｎ）、口腔内ｍｓが生産するバクテリオシン、口腔内細
菌の生菌又は元凶等に対する抗血清、ペニシリン、セフ
ァロスポリン、カナマイシン等の抗生物質。
■ その他
弗化ソーダ、モノフルオルリン酸ソーダ等の弗素化合物
；アレキシジン・ジヒドロクロリド、クロルヘキシジン
、メタ・フルオルヘキシジン・ジヒドロクロリド等のビ
ス・ビグアニド化合物；セチルピリジニウム・クロリド
、ドミフエン・プロミド等の四級アンモニウム塩；オレ
イルアミン・ハイドロクロリド、セチルアミン・ハイド
ロクロリド等の脂肪族アミン；ラウリル硫酸ナトリウム
、ヘキシルレゾルシノール等の陰イオン性界面活性剤。
；アレキシジン・ジヒドロクロリド、クロルヘキシジン
、メタ・フルオルヘキシジン・ジヒドロクロリド等のビ
ス・ビグアニド化合物；セチルピリジニウム・クロリド
、ドミフエン・プロミド等の四級アンモニウム塩；オレ
イルアミン・ハイドロクロリド、セチルアミン・ハイド
ロクロリド等の脂肪族アミン；ラウリル硫酸ナトリウム
、ヘキシルレゾルシノール等の陰イオン性界面活性剤。
これらの物質は楕裂品はもとより粗表品も使用でき′、
更に当該物Ｉｊｉを含む死細胞あるいは生細胞表品本使
用できる。当該物質の毒性は経口投与でＬＤ５ｏが１１
／／に！９以上で極めて低い。
更に当該物Ｉｊｉを含む死細胞あるいは生細胞表品本使
用できる。当該物質の毒性は経口投与でＬＤ５ｏが１１
／／に！９以上で極めて低い。
また、本発明のもう一つの有効成分である歯垢溶解物質
としては、たとえば、Ｐｅｎ１ｃｉｌｌｉｕｌ＋１、属
、デキストラナーゼ； Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕ８属、Ｔ
ｒｉｃｈｏｄｅｒａｎ属等のかび、放線菌又は＃Ｉ！Ｉ
ｌの生産するα−１゜６−グルカナーゼ、α−１，３−
グルカナーゼ等が挙げられる。
としては、たとえば、Ｐｅｎ１ｃｉｌｌｉｕｌ＋１、属
、デキストラナーゼ； Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕ８属、Ｔ
ｒｉｃｈｏｄｅｒａｎ属等のかび、放線菌又は＃Ｉ！Ｉ
ｌの生産するα−１゜６−グルカナーゼ、α−１，３−
グルカナーゼ等が挙げられる。
これら歯垢溶解物質はｎ製品はもとより粗製品も使用で
きる。当該物質の毒性は経口投、与でＬＤ、。
きる。当該物質の毒性は経口投、与でＬＤ、。
が５００■／ゆ以上と極めて低い。
上記歯垢形成阻止物質と歯垢溶解物質の配合比率は広範
囲に変え祷るが、１：５０〜５０：１（重Ｊｉ）が最も
好ましい。本発明のう触の予防・治療剤は両者を単に混
和するのみで本よいが、適当な賦形剤と共に粉剤、カプ
セル剤、錠剤、液剤等とすること本できる。また、菌み
かき製品や各種のしよ糖含有食品と混和することもでき
る。さらに、上記歯垢形成阻止物質及び歯垢溶解物質に
安定化剤ケ加えたり、あるいは固定化細胞として用いる
こともできると共に他のり触の予防・治療剤と併用する
こともできる。
囲に変え祷るが、１：５０〜５０：１（重Ｊｉ）が最も
好ましい。本発明のう触の予防・治療剤は両者を単に混
和するのみで本よいが、適当な賦形剤と共に粉剤、カプ
セル剤、錠剤、液剤等とすること本できる。また、菌み
かき製品や各種のしよ糖含有食品と混和することもでき
る。さらに、上記歯垢形成阻止物質及び歯垢溶解物質に
安定化剤ケ加えたり、あるいは固定化細胞として用いる
こともできると共に他のり触の予防・治療剤と併用する
こともできる。
本発明のり触の予防・−治療剤は経口、腹腔内あるいは
静脈内投与することができるが、一般には経口投与が好
適である。投与量は疾病の程度等により異なるが、通常
０．５〜２０００■／日、特に１〜１００ｍｇ／日を経
口投与することが好ましい。
静脈内投与することができるが、一般には経口投与が好
適である。投与量は疾病の程度等により異なるが、通常
０．５〜２０００■／日、特に１〜１００ｍｇ／日を経
口投与することが好ましい。
以Ｆに本発明の実施汐ＩＪ’ａｊあけて説明する。
実施例１
ｍ グルコース１％、デンジ７２％、ソイビーンミー
ル２％、リン酸−加里０．１優、硫酸マグネシウム（Ｍ
ｇ５Ｏａ・７Ｈ２０） ０．０５優！含む培地にムタス
株（倣工研菌寄第５８９１号）を接種して温度２５℃で
９日間好気的に培養した。得られた培養Ｆ液を硫安飽和
５０％として生成する沈＃を遠心分＃ＩＫより集め、５
ｍ、Ｍリン酸バッファー（Ｐ）′１７．１）に対して十
分透析した。次いで透析内液Ｖ＊＊堪醸でｐＨ５，５と
して生成する沈＃を遠心分離により集め、０．１Ｍ食墳
を含む５ｍＭリン酸バッファー（Ｐ）（６，９）に対し
て十分透析した。この内液ｖＯ，ＩＭ食増ヲ含む同バッ
ファーでａｌｉｌｉしたセファロース６Ｂのカラムにの
せ、展開して活性画分を採取した。この活性画分を蒸溜
水圧対して十分透析゛した後、凍結乾燥により「ムタス
テイン」ケ傅た。
ル２％、リン酸−加里０．１優、硫酸マグネシウム（Ｍ
ｇ５Ｏａ・７Ｈ２０） ０．０５優！含む培地にムタス
株（倣工研菌寄第５８９１号）を接種して温度２５℃で
９日間好気的に培養した。得られた培養Ｆ液を硫安飽和
５０％として生成する沈＃を遠心分＃ＩＫより集め、５
ｍ、Ｍリン酸バッファー（Ｐ）′１７．１）に対して十
分透析した。次いで透析内液Ｖ＊＊堪醸でｐＨ５，５と
して生成する沈＃を遠心分離により集め、０．１Ｍ食墳
を含む５ｍＭリン酸バッファー（Ｐ）（６，９）に対し
て十分透析した。この内液ｖＯ，ＩＭ食増ヲ含む同バッ
ファーでａｌｉｌｉしたセファロース６Ｂのカラムにの
せ、展開して活性画分を採取した。この活性画分を蒸溜
水圧対して十分透析゛した後、凍結乾燥により「ムタス
テイン」ケ傅た。
このムタステインは次の物性な有する。
（１）分子量は２０万以上であり、セファデックスＧ−
１００及びセファロース６Ｂのｌ’ｌし濾過によりボイ
ド・ボリュームに溶出される。
１００及びセファロース６Ｂのｌ’ｌし濾過によりボイ
ド・ボリュームに溶出される。
（２１紫外線吸収スペクトル二第１図
（３） 赤外線吸収スペクトル：第２図（４） タ
ンパク質の性′Ｊｉケ有し、約１０％の楯を含有する。
ンパク質の性′Ｊｉケ有し、約１０％の楯を含有する。
（５）水及び塩類溶液に可溶であるが、硫安飽和的５０
％で塩析される。またアセトン、エタノール、酢酸エチ
ル、ベンゼンに不溶。
％で塩析される。またアセトン、エタノール、酢酸エチ
ル、ベンゼンに不溶。
（６）ｐｉ−１７以上の緩衝液に浴鱗するが、…ろ〜５
．５で沈澱を生ずる。
．５で沈澱を生ずる。
＋７）ｐ）（９，１００℃、１０分の熱処理圧力して安
定０ （８）元素分析値 Ｃ：約４４％、 Ｈ：約７％、 Ｎ：約１２憾（９）呈
色反応 フェノール硫酸呈色反応（橙）、フォー ＩＪ ７量色
反応（青）。
定０ （８）元素分析値 Ｃ：約４４％、 Ｈ：約７％、 Ｎ：約１２憾（９）呈
色反応 フェノール硫酸呈色反応（橙）、フォー ＩＪ ７量色
反応（青）。
（２）デキストラン合成酵素を生′１てると玉翌ニーＬ
コーンステイープリカー２％％ｘ２ｕｐｏ、 ０．２％
、ＭｇＳＯ４・７Ｈ２００，０１％、Ｆｅ３Ｏ４・７’
！（ａＯｏ、ｏ ０１係、 Ｍｎ＋Ｊ２・４ＨｉＯＯ，
００１％、 ＮａＪ ｏ、ｏ Ｄ １ ％を含
むｐ）Ｉ ７．４の培地を用い、２６℃で２４時間好気
的に培養した。培養終了後、培ＩＩ液ケ濾過し、ｐ液ケ
採取した。Ｆ液に硫安ケ加え３０−７０％飽和で得られ
る沈澱を採取し、水に対して透析後に沖結乾燥を行ない
、［デキストラン合成酢７ ＬＭ Ｊケ得た。
コーンステイープリカー２％％ｘ２ｕｐｏ、 ０．２％
、ＭｇＳＯ４・７Ｈ２００，０１％、Ｆｅ３Ｏ４・７’
！（ａＯｏ、ｏ ０１係、 Ｍｎ＋Ｊ２・４ＨｉＯＯ，
００１％、 ＮａＪ ｏ、ｏ Ｄ １ ％を含
むｐ）Ｉ ７．４の培地を用い、２６℃で２４時間好気
的に培養した。培養終了後、培ＩＩ液ケ濾過し、ｐ液ケ
採取した。Ｆ液に硫安ケ加え３０−７０％飽和で得られ
る沈澱を採取し、水に対して透析後に沖結乾燥を行ない
、［デキストラン合成酢７ ＬＭ Ｊケ得た。
（３） レバンシュクラーゼを生産するＢ’ａｃｉｌ
ｌｕＢ８ｕｂｔｉｌｉ８８８５株［Ｄｒ、 Ｄｅｌａｐ
ｏｒｔｅ （’ＰＣＢ、 Ｐａｒｉｓ。
ｌｕＢ８ｕｂｔｉｌｉ８８８５株［Ｄｒ、 Ｄｅｌａｐ
ｏｒｔｅ （’ＰＣＢ、 Ｐａｒｉｓ。
Ｆｒａｎｃｅ ）が保存している〕’ｋｐ！６％、０．
１ ＭＫＮＯ３、［）、０７ Ｍ Ｋ２ＨＰＯ，、［１
，３Ｍ ＫＨ２ＰＯ４，０，５のＭＭｇＳＯａ 、 ０
．０’ ５ ｍＭ Ｆ＋３２（８０４）３．０．０５
ｍＭ ’ｚ＝ｓｏ、、０−０１ ’ｍＭ ＭＱＳＯ，，
１ｍＭ Ｏａ［Ｊ２から成る培地中で、５０°Ｃで好気
的に培養した。生育が対数増殖期の後半に入ったところ
で培養ケ止め、濾過に゛より炉液ン採取した。Ｐ准のＦ
ｉｌを５８５として、冷却下に攪拌しながら等量のアセ
トンＹｔｉ加した。生じた沈＃馨遠心分畦で巣め、アセ
トンで十分洗浄してｊｌｌＬ、ｒレバンシュクラーゼ」
を得た。
１ ＭＫＮＯ３、［）、０７ Ｍ Ｋ２ＨＰＯ，、［１
，３Ｍ ＫＨ２ＰＯ４，０，５のＭＭｇＳＯａ 、 ０
．０’ ５ ｍＭ Ｆ＋３２（８０４）３．０．０５
ｍＭ ’ｚ＝ｓｏ、、０−０１ ’ｍＭ ＭＱＳＯ，，
１ｍＭ Ｏａ［Ｊ２から成る培地中で、５０°Ｃで好気
的に培養した。生育が対数増殖期の後半に入ったところ
で培養ケ止め、濾過に゛より炉液ン採取した。Ｐ准のＦ
ｉｌを５８５として、冷却下に攪拌しながら等量のアセ
トンＹｔｉ加した。生じた沈＃馨遠心分畦で巣め、アセ
トンで十分洗浄してｊｌｌＬ、ｒレバンシュクラーゼ」
を得た。
（４） シクロデキストリン合成酵素を生産するＢａ
ｃｉｌｌｕｓ ｍａｃｅｒａｎｓ ＡＴｃＯ８５１４株
をオートミール５％、（ＮＨ４）２ＨＰＯ４０，５％、
Ｎａｇｆ’Ｏａ ０．２ ％ ％ＫｃｌＯ，０４％と微
量のＭｇ％Ｏａ 、 Ｍｎ、 Ｆｅ （５価）、Ｚｒ１
．Ｃｏの堪化物からなる培地（ｐ）１６．５）Ｋ接種し
、３７℃で１５時間好気的に培養した。培養Ｆ液を１０
分の１量に濃縮聾、それに冷却下に等量のアセトンを加
え、生じた沈＃を採取した。これを少量の水に溶解し、
保給乾燥し「シクロデキストリン合成酵素」な＋＠た。
ｃｉｌｌｕｓ ｍａｃｅｒａｎｓ ＡＴｃＯ８５１４株
をオートミール５％、（ＮＨ４）２ＨＰＯ４０，５％、
Ｎａｇｆ’Ｏａ ０．２ ％ ％ＫｃｌＯ，０４％と微
量のＭｇ％Ｏａ 、 Ｍｎ、 Ｆｅ （５価）、Ｚｒ１
．Ｃｏの堪化物からなる培地（ｐ）１６．５）Ｋ接種し
、３７℃で１５時間好気的に培養した。培養Ｆ液を１０
分の１量に濃縮聾、それに冷却下に等量のアセトンを加
え、生じた沈＃を採取した。これを少量の水に溶解し、
保給乾燥し「シクロデキストリン合成酵素」な＋＠た。
（５）デキストラナーゼヲ王呟てるＥｉｐｉｃａｒｉａ
ｖｉｏ−１ａｃｅａｅ ＩＦｏ ６１２０株ｔコーン
ステイープ１）カー２％、デキストラン２ ％ （−６
，５）からなる培地に接種し、６０℃で９１間好気的に
培養後、Ｍｕｒａｙａｍａらの方法（Ｍｕｒａｙａｍａ
、 Ｙ、、 Ｗａｄａ、 Ｈ＋。
ｖｉｏ−１ａｃｅａｅ ＩＦｏ ６１２０株ｔコーン
ステイープ１）カー２％、デキストラン２ ％ （−６
，５）からなる培地に接種し、６０℃で９１間好気的に
培養後、Ｍｕｒａｙａｍａらの方法（Ｍｕｒａｙａｍａ
、 Ｙ、、 Ｗａｄａ、 Ｈ＋。
Ｈａｙ ａ８ ｈ ｉ ＊ Ｈ−σｃｈｉｄａ、 Ｔ＋
ｌ Ｙｏｋｏｍｉｚｏ、ニー’＋ Ｈａｍａ−ｄａ、
Ｅ！、 ： ：ｒ、Ｄｅｎｔ、 Ｒ６８，、５２＊ ６
５８〜６６７（１９７５））により［スビカリア・デキ
ストラン−ｔｉ （１５，６デキストラナ一ゼ単位／〜
）ケ侍た０ （６）デキストラナーゼ７生４ｆるｆ：！ｈａｅｔｏｍ
ｉｕｔｎｇｒａｃ１１ｅ工Ｆ０２２５１株をデキストラ
ン（Ｔ−２０、ＯＯＭチ、コーンステイープリカー０．
５係ファルマメディア０．５％、ＫＨ２Ｐ０．０．２５
係、Ｍｇ５Ｏ，・７Ｈ２００，２５％（Ｐ）（６，０）
からなる培地に接種し、５０℃で９６時間好気的に培養
し、培養Ｆ液を採取した。この培養Ｆ液からＨａｔｔｏ
ｒｉらの方法［Ｈａｔｔｏｒｉ、 Ａ、、 ｌ６ｈｉｂ
ａＥｉｈｉ、 Ｋ、、 Ｍｉｎａｔｏ、 ｓ、：Ａｇｒ
ｉｃ、Ｂｉｏｌ、 Ｃｈｅｍ８．４５ ＊ ２４０９〜
２４１６（１９８１））により「ケトミウム・デキスト
ラナーゼＪ（７０５８Ｕ／〜）火傅た。
ｌ Ｙｏｋｏｍｉｚｏ、ニー’＋ Ｈａｍａ−ｄａ、
Ｅ！、 ： ：ｒ、Ｄｅｎｔ、 Ｒ６８，、５２＊ ６
５８〜６６７（１９７５））により［スビカリア・デキ
ストラン−ｔｉ （１５，６デキストラナ一ゼ単位／〜
）ケ侍た０ （６）デキストラナーゼ７生４ｆるｆ：！ｈａｅｔｏｍ
ｉｕｔｎｇｒａｃ１１ｅ工Ｆ０２２５１株をデキストラ
ン（Ｔ−２０、ＯＯＭチ、コーンステイープリカー０．
５係ファルマメディア０．５％、ＫＨ２Ｐ０．０．２５
係、Ｍｇ５Ｏ，・７Ｈ２００，２５％（Ｐ）（６，０）
からなる培地に接種し、５０℃で９６時間好気的に培養
し、培養Ｆ液を採取した。この培養Ｆ液からＨａｔｔｏ
ｒｉらの方法［Ｈａｔｔｏｒｉ、 Ａ、、 ｌ６ｈｉｂ
ａＥｉｈｉ、 Ｋ、、 Ｍｉｎａｔｏ、 ｓ、：Ａｇｒ
ｉｃ、Ｂｉｏｌ、 Ｃｈｅｍ８．４５ ＊ ２４０９〜
２４１６（１９８１））により「ケトミウム・デキスト
ラナーゼＪ（７０５８Ｕ／〜）火傅た。
＋７１ Ｔｒｉｃｈｏｄｅｒｍａ ｖｉｒｉｄｅの市
販酵素製品ＭＳｉｃｅｌａ、Ｅｌｅ（明治表巣株式会社
）をＨａｅｅｇａＷ＆らの方法［Ｈａｓｅｇａｖａ、
Ｓ、Ｎｏｒｄｉｎ、 Ｊ、 ａ、Ｋｉｒｋ−ｖｏｏｄ、
Ｓ、。
販酵素製品ＭＳｉｃｅｌａ、Ｅｌｅ（明治表巣株式会社
）をＨａｅｅｇａＷ＆らの方法［Ｈａｓｅｇａｖａ、
Ｓ、Ｎｏｒｄｉｎ、 Ｊ、 ａ、Ｋｉｒｋ−ｖｏｏｄ、
Ｓ、。
Ｊ、 Ｂｉｏｌ、 Ｃｈｅｍ、、 ２４４ 、５４６０
−５４７ ｒ（１９６９）］により処理して「トリコデ
ルマ・グルカナーゼ（ｅｎａｏ−α−１，５型） （１
２，８単位／〜）を得た。
−５４７ ｒ（１９６９）］により処理して「トリコデ
ルマ・グルカナーゼ（ｅｎａｏ−α−１，５型） （１
２，８単位／〜）を得た。
＋８１ ０．０５ Ｍリン酸バッファー（…６．５）、
１％ンヨ砧、０．０２％ＮａＮ３．５ｔｒｅｐｔｏｃｏ
ｃｃｕｓ ｚｕｔａｎｓＢ−１６株のデキストラン合成
配素（粗酊紫４０μＩりから成る全量１厩の反応液を小
試験管にとり、３０ｏの角度に立てて３７°Ｃで１６時
間反応ゼしめた。試＠管内壁の付看物（歯垢）を採取し
、３１の水にけんだくした後音波処理により均質液とし
た。均質液の５５０ ｎｍにおける吸光度ケ測足し１１
ｍ垢の生成量を求めた。一方、上述の反応液に歯垢形成
阻止物質と因赤溶解物質ケ単独もしくは適宜組み合わせ
て臨カロしく反応液全量１１１ｔ）、上述と同じ操作ン
行ない歯垢生成１を測定することにより歯垢生成に対す
る阻杏作用ケ求めた。この方法により歯垢形成請出物質
と歯垢溶解物質の単独及び組合わせによる図垢生成阻害
作用ケみた結果、表１に示′ｆ々：）〈夫々単独の作用
に比べ両者を組合わせると倒れの場合も効果は著明Ｋ１
％〈なった。
１％ンヨ砧、０．０２％ＮａＮ３．５ｔｒｅｐｔｏｃｏ
ｃｃｕｓ ｚｕｔａｎｓＢ−１６株のデキストラン合成
配素（粗酊紫４０μＩりから成る全量１厩の反応液を小
試験管にとり、３０ｏの角度に立てて３７°Ｃで１６時
間反応ゼしめた。試＠管内壁の付看物（歯垢）を採取し
、３１の水にけんだくした後音波処理により均質液とし
た。均質液の５５０ ｎｍにおける吸光度ケ測足し１１
ｍ垢の生成量を求めた。一方、上述の反応液に歯垢形成
阻止物質と因赤溶解物質ケ単独もしくは適宜組み合わせ
て臨カロしく反応液全量１１１ｔ）、上述と同じ操作ン
行ない歯垢生成１を測定することにより歯垢生成に対す
る阻杏作用ケ求めた。この方法により歯垢形成請出物質
と歯垢溶解物質の単独及び組合わせによる図垢生成阻害
作用ケみた結果、表１に示′ｆ々：）〈夫々単独の作用
に比べ両者を組合わせると倒れの場合も効果は著明Ｋ１
％〈なった。
以下余白
米ｉｓ垢溶解物質及び歯垢形成阻止物質それぞれ単独で
のｍ垢生成阻害活性が１５〜２５％となるようにそれぞ
れの鋪度ヲ調節した。
のｍ垢生成阻害活性が１５〜２５％となるようにそれぞ
れの鋪度ヲ調節した。
漸２５１ｇｌ１ｏａ社（米国）表。
米６カツコ内の数字は単独での歯垢生成阻害。
実施例２
ｓｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｍｕｔａｎθ６７１５株
ンショｌ！！５％を含むプレインハート・インフュージ
ョン培地（日水衾桑＃）４ｍｌに鈑捕し、６７°Ｃで１
８時間靜＆培髪した。培養液を遠心分離Ｋかけ沈澱物ケ
採取し、１Ｎ ＮａＯＨＬ／Ｃけんだくして３７℃で１
時間処理した。その後（げんだ〈液ケ遠心分離にかけ上
清を採取し、これにエタノールケ加えた（最終濃度４５
％ Ｖ／Ｖ ’）。生成した沈＃を遠心分離により採
取し、その童ヲ測定し歯垢生成量とした。
ンショｌ！！５％を含むプレインハート・インフュージ
ョン培地（日水衾桑＃）４ｍｌに鈑捕し、６７°Ｃで１
８時間靜＆培髪した。培養液を遠心分離Ｋかけ沈澱物ケ
採取し、１Ｎ ＮａＯＨＬ／Ｃけんだくして３７℃で１
時間処理した。その後（げんだ〈液ケ遠心分離にかけ上
清を採取し、これにエタノールケ加えた（最終濃度４５
％ Ｖ／Ｖ ’）。生成した沈＃を遠心分離により採
取し、その童ヲ測定し歯垢生成量とした。
上述の方法で困垢生成ＫＩ Ｊ活性ケ調べた結果、表２
の如く關垢溶解物實又は歯垢形成阻止物質単独の作用に
比べ両者ケ組合わゼると倒れの場合も効果は著明に上昇
した。
の如く關垢溶解物實又は歯垢形成阻止物質単独の作用に
比べ両者ケ組合わゼると倒れの場合も効果は著明に上昇
した。
米１歯垢溶解剤（実緬例１の方法で調衡又は入手）及び
歯垢形成阻止剤それぞれ単独での細垢生成阻害活性が１
５〜２５チとなるようそれぞれの濃度を調節。
歯垢形成阻止剤それぞれ単独での細垢生成阻害活性が１
５〜２５チとなるようそれぞれの濃度を調節。
米２カッコ内の数字は単独での歯垢生成阻害。
第１図はムタステインの紫外線吸収スペクトル、第２図
は同物質の赤外線吸収スペクトルである。 以上
は同物質の赤外線吸収スペクトルである。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 １ｍ歯垢形成阻止物質歯垢溶解物質を含有するこ
とを％黴とするう触の予防・治療剤。 ２、歯垢形成阻止物質が、口腔内線１ｉｃよる不溶性グ
ルカン合成を阻害する物質である特許請求の範囲ｔａ１
項記載のり触の予防・治療剤。 ６、歯垢形成阻止物質が、口腔内細菌の生育を阻害する
物質である特許請求の範囲＃！１項記載のり触の予防・
治療剤。 ４、歯垢形成阻止物質が、弗素化合物、ビス・ビグアニ
ド化合物、四級アンモニウム塩、脂肪族アミン及び隘イ
オン性界面活性剤から選ばれたものである特許請求の範
囲第１項記載のり触の予防・治療剤。 ５ 歯垢溶解物質が、口腔内細菌が合成する不溶性グル
カンのα−１，６−結合及び（又は）α−１，６−結合
を累解する酵素である特許請求の範囲第１項記載のり触
の予防・治療剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5508382A JPS58172310A (ja) | 1982-04-02 | 1982-04-02 | う蝕の予防・治療剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5508382A JPS58172310A (ja) | 1982-04-02 | 1982-04-02 | う蝕の予防・治療剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58172310A true JPS58172310A (ja) | 1983-10-11 |
| JPS6324488B2 JPS6324488B2 (ja) | 1988-05-20 |
Family
ID=12988815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5508382A Granted JPS58172310A (ja) | 1982-04-02 | 1982-04-02 | う蝕の予防・治療剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58172310A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2565485A1 (fr) * | 1984-06-12 | 1985-12-13 | Colgate Palmolive Co | Dentifrice stable contenant de la dextranase |
| JP2001151651A (ja) * | 1999-11-26 | 2001-06-05 | Earth Chem Corp Ltd | 口腔用組成物 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56110610A (en) * | 1980-02-06 | 1981-09-01 | Lion Corp | Composition for oral cavity |
-
1982
- 1982-04-02 JP JP5508382A patent/JPS58172310A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56110610A (en) * | 1980-02-06 | 1981-09-01 | Lion Corp | Composition for oral cavity |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2565485A1 (fr) * | 1984-06-12 | 1985-12-13 | Colgate Palmolive Co | Dentifrice stable contenant de la dextranase |
| JP2001151651A (ja) * | 1999-11-26 | 2001-06-05 | Earth Chem Corp Ltd | 口腔用組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6324488B2 (ja) | 1988-05-20 |
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