JPS58167595A - セフアロスポリン化合物 - Google Patents
セフアロスポリン化合物Info
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- JPS58167595A JPS58167595A JP58040828A JP4082883A JPS58167595A JP S58167595 A JPS58167595 A JP S58167595A JP 58040828 A JP58040828 A JP 58040828A JP 4082883 A JP4082883 A JP 4082883A JP S58167595 A JPS58167595 A JP S58167595A
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- cephalosporin
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/18—7-Aminocephalosporanic or substituted 7-aminocephalosporanic acids
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/26—Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は抗生物質活性を有するセファロスポリン化合物
の調製に使用されうる新規な化合物に関する。
の調製に使用されうる新規な化合物に関する。
本明細書でいう「セファロスポリン化合物」ti[J、
1ner、Chem、Soc、 J ffl 84 *
第3400員(1962年)の記載による「七ファム」
に関連して分類学的に命名されている。「セファム」な
る用語R11個の二重結合を有する基本的なセファム構
造を指称する。
1ner、Chem、Soc、 J ffl 84 *
第3400員(1962年)の記載による「七ファム」
に関連して分類学的に命名されている。「セファム」な
る用語R11個の二重結合を有する基本的なセファム構
造を指称する。
抗菌作用を有する多くのセファロスポリン化合物が当業
上知られている。一般に、これらは3−位に置換メチル
基を有し、そしてまた通常4−位がカルボキシ基によっ
て、そして7β−位がアシルアミド基によって置換され
ている。
上知られている。一般に、これらは3−位に置換メチル
基を有し、そしてまた通常4−位がカルボキシ基によっ
て、そして7β−位がアシルアミド基によって置換され
ている。
ある場合にはこれら化合物はさらにその他の位置、例え
ば2−位において(例えば1個または2個のメチル基ま
たはメチレン基によって)および/またId 7 a−
位において(例えば低級アルキル、アルコキシまたはア
ルキルチオ基によって)置換されていてもよい。
ば2−位において(例えば1個または2個のメチル基ま
たはメチレン基によって)および/またId 7 a−
位において(例えば低級アルキル、アルコキシまたはア
ルキルチオ基によって)置換されていてもよい。
5−置換基がアセトキシメチル基以外であるこの種のセ
ファロスポリン化合物ti3−7セトキシメチルセフア
ロスボリンのアセトキシ基を直接求核性置換することに
より調製されうる。
ファロスポリン化合物ti3−7セトキシメチルセフア
ロスボリンのアセトキシ基を直接求核性置換することに
より調製されうる。
後者の形式のセファロスポリン化合物は、3−アセトキ
シメチル置換基がセファロスポリンC中に存在するので
、かかる求核性置換反応の好都合な出発物質であると考
えられ、このものは発酔により産生されそして一般に抗
菌的に活性なセファロスポリンの調製に使用される出発
物質である。しかしながら、アセトキシ基は良好に離脱
する基でt−tfiいので、置換反応はいくつ力ψ求核
性試薬では不成功でありうるしそしてその他の場合でも
低収量である。
シメチル置換基がセファロスポリンC中に存在するので
、かかる求核性置換反応の好都合な出発物質であると考
えられ、このものは発酔により産生されそして一般に抗
菌的に活性なセファロスポリンの調製に使用される出発
物質である。しかしながら、アセトキシ基は良好に離脱
する基でt−tfiいので、置換反応はいくつ力ψ求核
性試薬では不成功でありうるしそしてその他の場合でも
低収量である。
発酵により産生されそして3−置換メチルセファロスポ
リンの調製に使用されうる代替出発物質はセファロスポ
リンCの3−ヒドロキシメチル類伊、体であるデスアセ
チルセファロスポリンCである。しかしながら、この出
発物質管用いる場合、所望の置換基を導入するためKは
反応順序のどこかの段階で容易に置換しうる置換基t5
−メチル基に(例えばヒドロキシ基のアシル化により)
導入する仁とが必要である。
リンの調製に使用されうる代替出発物質はセファロスポ
リンCの3−ヒドロキシメチル類伊、体であるデスアセ
チルセファロスポリンCである。しかしながら、この出
発物質管用いる場合、所望の置換基を導入するためKは
反応順序のどこかの段階で容易に置換しうる置換基t5
−メチル基に(例えばヒドロキシ基のアシル化により)
導入する仁とが必要である。
今やフェノキシアセトキシ基がかかる求核性置換反応に
おいて有効でそして特に有用な離脱性基であることが見
出された。
おいて有効でそして特に有用な離脱性基であることが見
出された。
3−フェノキシアセトキシメチル基V有するセファロス
ポリン化合物はこねまで伺ら詳細に記載さねていない。
ポリン化合物はこねまで伺ら詳細に記載さねていない。
多動のアシルオキシ基がセファロスポリンの3−位での
求核性置換反応のための置換しうる置換基として以前に
記載されている。すなわち、英国特許第1241657
号明細書にけ3−位に−CH2X基を有するセファロス
ポリン化合物が記載されており、この化合物はある範囲
の求核基と容易に求核性置換反応しうる。X基#′i4
より大きくないpKa値を有する酸HXの残基と定義さ
れ、そしてかかる酸の例にけα−炭素上に少くとも1個
の電子吸引性置換基を有する酢酸誘導体が包含される。
求核性置換反応のための置換しうる置換基として以前に
記載されている。すなわち、英国特許第1241657
号明細書にけ3−位に−CH2X基を有するセファロス
ポリン化合物が記載されており、この化合物はある範囲
の求核基と容易に求核性置換反応しうる。X基#′i4
より大きくないpKa値を有する酸HXの残基と定義さ
れ、そしてかかる酸の例にけα−炭素上に少くとも1個
の電子吸引性置換基を有する酢酸誘導体が包含される。
この意味においてはフェノキシ酢酸について例の記述も
ない。英国特許第1241657号明細書にはラクトン
化′を阻止するためKXがアシルオキシ基であるセファ
ロスポリンの4−カルボキシル基を保護する仁とが一般
に必要であると記載さカている。
ない。英国特許第1241657号明細書にはラクトン
化′を阻止するためKXがアシルオキシ基であるセファ
ロスポリンの4−カルボキシル基を保護する仁とが一般
に必要であると記載さカている。
英国特許91141295号明細書KFi、3−ヒドロ
キシメチルセファロスポリンの4−カルボキシル基をア
ラルキル化し、保護された化合物の3−ヒドロキシメチ
ル基をアシル化し、そして次に4−カルボキシル基から
アラルキル基を除去することにょる5−位にアシルオキ
シメチル基を有するセファロスポリン抗生物質化合物の
製法が記載されている。続くアシル化におけるラクトン
化を阻止するために4−カルボキシル基の保静か遂行さ
力、る。セファロスポリン生成物のアシルオキシ基はい
ずれのカルボキシルアシルオキシ基でもよくぞして3−
位のアシル部分#′i7−@鎖位のアシル基に関して同
様に定義されうると記載されている。適当な7−アシル
基のリストにはフェノキシアセチルが包含されているか
、しがし5−フェノキシアセトキシメチル基を有する化
合物は例示されていない。
キシメチルセファロスポリンの4−カルボキシル基をア
ラルキル化し、保護された化合物の3−ヒドロキシメチ
ル基をアシル化し、そして次に4−カルボキシル基から
アラルキル基を除去することにょる5−位にアシルオキ
シメチル基を有するセファロスポリン抗生物質化合物の
製法が記載されている。続くアシル化におけるラクトン
化を阻止するために4−カルボキシル基の保静か遂行さ
力、る。セファロスポリン生成物のアシルオキシ基はい
ずれのカルボキシルアシルオキシ基でもよくぞして3−
位のアシル部分#′i7−@鎖位のアシル基に関して同
様に定義されうると記載されている。適当な7−アシル
基のリストにはフェノキシアセチルが包含されているか
、しがし5−フェノキシアセトキシメチル基を有する化
合物は例示されていない。
離脱性基としてのフェノキシアセトキシ基の使用に関し
ては何の言及もない。
ては何の言及もない。
111J記ノように、本発明者ら#′iフェノキシアセ
トキシ基がセフ7aスポリンの3−位での求核性置換反
応にとって特に有用な離脱性基であることを舅、出し次
。特に、3−フェノキシアセトキシメチルセファロスポ
リン化合物の製造中またけ千わらとの引続いての求核性
置換反応中に、ラクトン化阻止のために4−カルボキシ
ル基を保護する必l!!けないことを見出し念。すなわ
ち、3−フェノキシアセトキシ基が通常の反応条件下に
、セファロスポリンの4−位の遊離カルボキシル基とい
がなる有意な程度にもラクトン形成を来さない・容易に
置換できかつ効果的な離脱性基であることを見出した。
トキシ基がセフ7aスポリンの3−位での求核性置換反
応にとって特に有用な離脱性基であることを舅、出し次
。特に、3−フェノキシアセトキシメチルセファロスポ
リン化合物の製造中またけ千わらとの引続いての求核性
置換反応中に、ラクトン化阻止のために4−カルボキシ
ル基を保護する必l!!けないことを見出し念。すなわ
ち、3−フェノキシアセトキシ基が通常の反応条件下に
、セファロスポリンの4−位の遊離カルボキシル基とい
がなる有意な程度にもラクトン形成を来さない・容易に
置換できかつ効果的な離脱性基であることを見出した。
それゆえたとえ4−カルボキシル基が保蹄さねていない
場合でも3−フェノキシアセトキシメチルセファロスポ
リン化合物祉高収量で調製できそしてまた3−(置換メ
チル)−セファロスポリンに高収率で変換されうる。そ
れゆえこの新規な中間体の使用は、4−カルボキシル基
を保饅しそして脱保護する工程を回避することKよりセ
ファロスポリ/抗生物質の製造の全工程における経済性
および効率の増大をもたらす。
場合でも3−フェノキシアセトキシメチルセファロスポ
リン化合物祉高収量で調製できそしてまた3−(置換メ
チル)−セファロスポリンに高収率で変換されうる。そ
れゆえこの新規な中間体の使用は、4−カルボキシル基
を保饅しそして脱保護する工程を回避することKよりセ
ファロスポリ/抗生物質の製造の全工程における経済性
および効率の増大をもたらす。
かよ’3VC,5−位がフェノキシアセトキシメチル基
でt換されたセファロスポリン化合物は本発明による新
規化合物であってこれらけ求核性試薬の残基を担持する
3−メチル基を有するセファロスポリン抗生物質合成に
おける特に有用な中間体である。
でt換されたセファロスポリン化合物は本発明による新
規化合物であってこれらけ求核性試薬の残基を担持する
3−メチル基を有するセファロスポリン抗生物質合成に
おける特に有用な中間体である。
従って、本発明けその一つの観点においては一般式
〔式中R1Jd水素原子またはアシル基を表わし、B2
1t水素原子またはカルボキシル保護基(例えばアルコ
ール、フェノール、シラノールオたけスタンナノールの
エステル形成性残基であってこれら残基は容易に除去さ
れうるものが好ましい)を表わしそしてR51j低級ア
ルキル、アルキルチオま声はアルコキシ基(例えばメト
キシ基)または好オしくけ水素原子を表わす〕を有する
化合物および適切な場合は酸または塩基とのそれらの塩
(例えばナトリウムま念はカリウム塩のようなアルカリ
金属塩、カルシウム塩のようなフルカリ土類金属塩、ア
ンモニウム塩および有機アミン塩、および無機1友は有
機酸例えば劃り硫酸、臭化水素酸、帽り酢酸、乳酸、マ
レイン酸、フマル酸、コハク酸、クエン酸、酒石酸、p
−トルエンスルホン酸t*tizタンスルホン酸との塩
)を提供するものである。
1t水素原子またはカルボキシル保護基(例えばアルコ
ール、フェノール、シラノールオたけスタンナノールの
エステル形成性残基であってこれら残基は容易に除去さ
れうるものが好ましい)を表わしそしてR51j低級ア
ルキル、アルキルチオま声はアルコキシ基(例えばメト
キシ基)または好オしくけ水素原子を表わす〕を有する
化合物および適切な場合は酸または塩基とのそれらの塩
(例えばナトリウムま念はカリウム塩のようなアルカリ
金属塩、カルシウム塩のようなフルカリ土類金属塩、ア
ンモニウム塩および有機アミン塩、および無機1友は有
機酸例えば劃り硫酸、臭化水素酸、帽り酢酸、乳酸、マ
レイン酸、フマル酸、コハク酸、クエン酸、酒石酸、p
−トルエンスルホン酸t*tizタンスルホン酸との塩
)を提供するものである。
一般式(1)の化合物において、R2#i好ましくは水
素原子である。しかしながらR2がカルボキシル保額基
を表わす場合、これは好都合KFi慣用のカルボキシル
保■基、例えばJ、F、W、McOmio氏編rPro
tective Gro+rps in Organi
c C’hemistryJ(プレナムプレス発行)に
記載されるものから選択されうる。
素原子である。しかしながらR2がカルボキシル保額基
を表わす場合、これは好都合KFi慣用のカルボキシル
保■基、例えばJ、F、W、McOmio氏編rPro
tective Gro+rps in Organi
c C’hemistryJ(プレナムプレス発行)に
記載されるものから選択されうる。
R1がアシル基である場合、これは例えばβ−ラクタム
技術において知られた広範囲の側鎖アシル基から選択さ
れうる。アシルアミド基がアミン、ヒドロキシ、カルボ
キシル基たけメルカプト基のよう力置換基を有する場合
、これらは適切に任意の慣用の保護基、例えば前記出版
物に記載されるような保護基により保額されうることが
認識されよう。
技術において知られた広範囲の側鎖アシル基から選択さ
れうる。アシルアミド基がアミン、ヒドロキシ、カルボ
キシル基たけメルカプト基のよう力置換基を有する場合
、これらは適切に任意の慣用の保護基、例えば前記出版
物に記載されるような保護基により保額されうることが
認識されよう。
従って例えばアミノ基は任意の以下の基で置換すること
罠より保護されうる。ホルオル、場合により置換されて
いてもよい低級アルカノイル例えばアセチルまたはクロ
ロアセチル、アリール低級アルカノイル例えばフェニル
アセチル、アリールオキシ低級アルカノイル例えばフェ
ノキシアセチル、アロイル例えばベンゾイル、場合によ
りを換されていてもよい低級アルコキシカルボニル例え
ばn−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、
第3ブトキシカルボニルt*t12,2.2− ) I
Jジクロロトキシカルボニル、アリール低級アルコキシ
カルボニル例えばベンジルオキシカルボニルまたはジフ
ェニルメトキシカルボニル、シクロアルコキシカルボニ
ル例えば1−アダマンチルオキシカルボニル、低級アル
キルスルホニル例えばメタンスルホニル、アリールスル
ホニルfFIJttfp−)ルエンスルホニル、スルフ
ィニル例LId o −t flニーFip −ニトロ
フェニルスルフィニル、アリールメチル例えばト1 フ
ェニルメチル、シッフ塩基を形成するアルデヒドおよび
ケトン例えばベンズアルデヒド、サリチルアルデヒドま
たはアセト酢酸エステルとの反応により形成されるイリ
デン基、または保護されたアミノ基の窒素原子が7タル
イミド壕友はジヒドロピリジン環のような複素瑛の一部
分を構成しうる。
罠より保護されうる。ホルオル、場合により置換されて
いてもよい低級アルカノイル例えばアセチルまたはクロ
ロアセチル、アリール低級アルカノイル例えばフェニル
アセチル、アリールオキシ低級アルカノイル例えばフェ
ノキシアセチル、アロイル例えばベンゾイル、場合によ
りを換されていてもよい低級アルコキシカルボニル例え
ばn−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、
第3ブトキシカルボニルt*t12,2.2− ) I
Jジクロロトキシカルボニル、アリール低級アルコキシ
カルボニル例えばベンジルオキシカルボニルまたはジフ
ェニルメトキシカルボニル、シクロアルコキシカルボニ
ル例えば1−アダマンチルオキシカルボニル、低級アル
キルスルホニル例えばメタンスルホニル、アリールスル
ホニルfFIJttfp−)ルエンスルホニル、スルフ
ィニル例LId o −t flニーFip −ニトロ
フェニルスルフィニル、アリールメチル例えばト1 フ
ェニルメチル、シッフ塩基を形成するアルデヒドおよび
ケトン例えばベンズアルデヒド、サリチルアルデヒドま
たはアセト酢酸エステルとの反応により形成されるイリ
デン基、または保護されたアミノ基の窒素原子が7タル
イミド壕友はジヒドロピリジン環のような複素瑛の一部
分を構成しうる。
ヒドロキシルおよびメルカプト保護基の例にけ前記のア
ミノ保護性カルボキシルおよびスルホニツクアシル基、
低級アルキル基例えば第5ブチル、アラルキル基例えば
ベンジル、ジフェニルメチルまたはトリフェニルメチル
、およびシリル基例えばトリメチルシリルが包含される
。
ミノ保護性カルボキシルおよびスルホニツクアシル基、
低級アルキル基例えば第5ブチル、アラルキル基例えば
ベンジル、ジフェニルメチルまたはトリフェニルメチル
、およびシリル基例えばトリメチルシリルが包含される
。
カルボキシル基は例えばB2について前記したようなエ
ステル形成性残基を用いてエステルを形成させることに
より保護されうる。従ってカルボキシル保護基の例には
未置換tたは置換アルキル基例えば第3ブチルおよび2
,2.2− トIJクロロエチル、未置換または置換ア
ラルキル基例えばp−メトキシベンジル、p−ニトロベ
ンジルおよびジフェニルメチル、およびシリル基例えば
トリメチルシリルが包含される。
ステル形成性残基を用いてエステルを形成させることに
より保護されうる。従ってカルボキシル保護基の例には
未置換tたは置換アルキル基例えば第3ブチルおよび2
,2.2− トIJクロロエチル、未置換または置換ア
ラルキル基例えばp−メトキシベンジル、p−ニトロベ
ンジルおよびジフェニルメチル、およびシリル基例えば
トリメチルシリルが包含される。
所望の場合は、保護基は当業上周知の方法例えば加水分
解的か、還元的かまたは酸で誘起され念解qMffより
適切にセファロスポリン化合物から除去されうる。しか
しながら、これら方法のいくつかFj−5−フェノキシ
アセチル基をも除去しうるので、フェノキシアセトキシ
置換基の置換後までいずれの保護基も除去しないことが
好ましい。
解的か、還元的かまたは酸で誘起され念解qMffより
適切にセファロスポリン化合物から除去されうる。しか
しながら、これら方法のいくつかFj−5−フェノキシ
アセチル基をも除去しうるので、フェノキシアセトキシ
置換基の置換後までいずれの保護基も除去しないことが
好ましい。
R1がアシル基を表わす場合に存在しうる具体的なアシ
ル基は例えば40個までの炭素原子を含有しそして下記
リストに説明されるが、こわがすべてではない。
ル基は例えば40個までの炭素原子を含有しそして下記
リストに説明されるが、こわがすべてではない。
(i) R’CnH2nC0−(ここでRaFi場合
により置換されていて屯よいアリール(炭素llま良は
複素衰入シクロアルキル、シクロアルカジェニルiたは
非芳香族またはメンイオン性複素環式基でありそしてn
tiOまたは1〜4の整数である)。この基の例には
フェニルアセチル、チェンー2−および−3−イルアセ
チル、フルー2−および−3−イルアセチル、3−およ
び4−イソオキサシリルアセチル、ピリジルアセチル、
テトラゾリルアセチル、チアゾリルアセチル、チアゾリ
ルアセチル、シクロヘキサジェニルアセチルまたはシト
ノンアセチル基が包含され、これらのいずれも場合によ
り例えばハロゲン原子またはニトロ、ヒトmlキシ、ア
ミン、低級アルキル、低級アルコキシまたは低級アシル
オキシ基によって置換さねていてよい。nが0以外であ
る場合、qIfにnが1である場合、アシル基のa−炭
素原子は例えばヒドロキシ、保験されたヒドロキシ(例
えばアセトキシのような低級アルカノイルオキシ)、ア
ミン、保護されたアミノ、カルボキシ、保護されたカル
ボキシ、スルホネート、ヒドロキシイミノ、アシルオキ
シイミノ(例えば、アセトキシイミノのような低級アル
カノイルオキシイミノtたはモノ−またはジ−クロロア
セトキシイミノのようが八日置換低級アルカノイルオキ
シイミノ)tたけエーテル化されたオキシイミノ(例え
ばメトキシイi)ま念は第3ブトキシイミノのような低
級アルコキシイミノ、カルボキシメトキシイミノまたは
2−カルボキシプロプ−2−オキシイミノのような置換
低級アルコキシイミノ、1〜カルボキシシクロブドー1
−オキシイミノのような低級シクロアルコキシイミノま
たは置換低級シクロアルコキシイミノ、またはフェノキ
シイミノのようなアリールオキシイミノ)基によって置
換さねうる。
により置換されていて屯よいアリール(炭素llま良は
複素衰入シクロアルキル、シクロアルカジェニルiたは
非芳香族またはメンイオン性複素環式基でありそしてn
tiOまたは1〜4の整数である)。この基の例には
フェニルアセチル、チェンー2−および−3−イルアセ
チル、フルー2−および−3−イルアセチル、3−およ
び4−イソオキサシリルアセチル、ピリジルアセチル、
テトラゾリルアセチル、チアゾリルアセチル、チアゾリ
ルアセチル、シクロヘキサジェニルアセチルまたはシト
ノンアセチル基が包含され、これらのいずれも場合によ
り例えばハロゲン原子またはニトロ、ヒトmlキシ、ア
ミン、低級アルキル、低級アルコキシまたは低級アシル
オキシ基によって置換さねていてよい。nが0以外であ
る場合、qIfにnが1である場合、アシル基のa−炭
素原子は例えばヒドロキシ、保験されたヒドロキシ(例
えばアセトキシのような低級アルカノイルオキシ)、ア
ミン、保護されたアミノ、カルボキシ、保護されたカル
ボキシ、スルホネート、ヒドロキシイミノ、アシルオキ
シイミノ(例えば、アセトキシイミノのような低級アル
カノイルオキシイミノtたはモノ−またはジ−クロロア
セトキシイミノのようが八日置換低級アルカノイルオキ
シイミノ)tたけエーテル化されたオキシイミノ(例え
ばメトキシイi)ま念は第3ブトキシイミノのような低
級アルコキシイミノ、カルボキシメトキシイミノまたは
2−カルボキシプロプ−2−オキシイミノのような置換
低級アルコキシイミノ、1〜カルボキシシクロブドー1
−オキシイミノのような低級シクロアルコキシイミノま
たは置換低級シクロアルコキシイミノ、またはフェノキ
シイミノのようなアリールオキシイミノ)基によって置
換さねうる。
この糧のα−置換アシル基の例には2−(フルー2−イ
ル)−2−ノドキシイミノアセチル、2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセチル
および2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(2−カルボキシプロプ−2−オキシイミノ)アセチル
が包含される。
ル)−2−ノドキシイミノアセチル、2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセチル
および2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(2−カルボキシプロプ−2−オキシイミノ)アセチル
が包含される。
(ii) cnH2n+1co (ここでnは0また
#i1〜7の整数である)。このアルキル基は直鎖状t
たは分枝鎖状であってよくそして酸素または硫黄が中間
に介在できそして/または例えばハロゲン原子、シアノ
基、カルボキシまたは保護され次カルボキシ基、アルコ
キシカルボニル基、ヒドロキシまたは保饅されたヒドロ
キシ基またはカルボキシ部分が場合により置換されてい
てよいカルボキシカルボニル基(Co−Coo)1)に
よって置換されていてよい。かかる基の例にはホルミル
、シアノアセチル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オク
タノイル、ブチルチオアセチルおよびカルボキシブタノ
イルが包含される。
#i1〜7の整数である)。このアルキル基は直鎖状t
たは分枝鎖状であってよくそして酸素または硫黄が中間
に介在できそして/または例えばハロゲン原子、シアノ
基、カルボキシまたは保護され次カルボキシ基、アルコ
キシカルボニル基、ヒドロキシまたは保饅されたヒドロ
キシ基またはカルボキシ部分が場合により置換されてい
てよいカルボキシカルボニル基(Co−Coo)1)に
よって置換されていてよい。かかる基の例にはホルミル
、シアノアセチル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オク
タノイル、ブチルチオアセチルおよびカルボキシブタノ
イルが包含される。
(…)
b
■
R”(CH2)pZC−CO−
c
(式中BPLけ前記(1)K定義された意味を有し、p
けOfたけ1であり、RbおよびReは同一または異な
りでそれぞれ水素、フェニル、ベンジル、フェネチルt
eは低級アルキルを表わしそしてz#i酸素またti硫
黄原子である)。この基の例にはフェノキシアセチルお
よびピリジルチオアセチルが包含される。
けOfたけ1であり、RbおよびReは同一または異な
りでそれぞれ水素、フェニル、ベンジル、フェネチルt
eは低級アルキルを表わしそしてz#i酸素またti硫
黄原子である)。この基の例にはフェノキシアセチルお
よびピリジルチオアセチルが包含される。
HOOC−CH・(CH2)sCO−
1!lH7
またはそのN−保−されたおよび/またはカルボキシル
保睦された誘導体。ここでアミノ保饅基および/lたは
カルボキシル保霞基は前記されたとおりである。
保睦された誘導体。ここでアミノ保饅基および/lたは
カルボキシル保霞基は前記されたとおりである。
本明細書で使用される「低級」なる用語は関係する基が
アルキル部分中忙望ましくFi1〜6個、好オしくti
1〜4個の炭素原子を含有することを示す。アリールお
よびアロイル基は好都合にはアリール部分中に6〜18
個の炭素原子を含有する。
アルキル部分中忙望ましくFi1〜6個、好オしくti
1〜4個の炭素原子を含有することを示す。アリールお
よびアロイル基は好都合にはアリール部分中に6〜18
個の炭素原子を含有する。
本発明による化合物は下記方法によりlIl製されうる
。この方法は本発明のもう一つの特徴を構成する。
。この方法は本発明のもう一つの特徴を構成する。
3−位にヒドロキシメチル基を有するセファミスポリン
化合物、より特別には式 (式中R1、R2およびR3d前記定義のとおりである
)を有する化合物オ逢は適切な場合はその壇をフェノキ
シアセチル化し、しかる後それぞわの場合において必要
ならばそして/または所望ならば任意の下記反応を任意
の適切な順序で実施しうる。
化合物、より特別には式 (式中R1、R2およびR3d前記定義のとおりである
)を有する化合物オ逢は適切な場合はその壇をフェノキ
シアセチル化し、しかる後それぞわの場合において必要
ならばそして/または所望ならば任意の下記反応を任意
の適切な順序で実施しうる。
(i) R’がアシルアミド基である化合物をN−親
子シル化して7−アミノ化合物を形成させる仁と、 (ii) R1が水素である化合物をN−アシル化し
て所望のアシルアミド基H1i形成させること、G11
) カルボキシル基を塩またはエステル機能に変換さ
せること、 lv) 任意のカルボキシル保霞基、〇−保饅基、8
−保農基および/またtiN−保饅基を除去する仁と、
および (V) 塩基性基を塩機能に変換させること。
子シル化して7−アミノ化合物を形成させる仁と、 (ii) R1が水素である化合物をN−アシル化し
て所望のアシルアミド基H1i形成させること、G11
) カルボキシル基を塩またはエステル機能に変換さ
せること、 lv) 任意のカルボキシル保霞基、〇−保饅基、8
−保農基および/またtiN−保饅基を除去する仁と、
および (V) 塩基性基を塩機能に変換させること。
この方法のフェノキシアセチル化段階は任意の好都合な
方法、例えば式(II)の化合物を適当なアシル化剤と
反応させることによシ遂行されうる。
方法、例えば式(II)の化合物を適当なアシル化剤と
反応させることによシ遂行されうる。
アシル化剤は好都合にはフェノキシ酢酸の反応性誘導体
例えばフェノキシアセチルハライド(例えばフェノキシ
アセチルクロライドt+けブロマイド)、着たけ無水物
i念はフェノキシ酢酸の活性化エステルでありうる。あ
るいFiiたフェノキシ酢酸それ自体がアシル化剤とし
て使用でき、その場合縮合剤例えばN、N’−ジシクロ
へキシルカルボジイミドまたはN−エチル−N′−γ−
ジメチルアミノプロピルカルボジイミドのようなカルボ
ジイミドが存在するのが望ましい。
例えばフェノキシアセチルハライド(例えばフェノキシ
アセチルクロライドt+けブロマイド)、着たけ無水物
i念はフェノキシ酢酸の活性化エステルでありうる。あ
るいFiiたフェノキシ酢酸それ自体がアシル化剤とし
て使用でき、その場合縮合剤例えばN、N’−ジシクロ
へキシルカルボジイミドまたはN−エチル−N′−γ−
ジメチルアミノプロピルカルボジイミドのようなカルボ
ジイミドが存在するのが望ましい。
フェノキシアセチル化は好6合にFi−so℃〜十50
℃好ましくFio℃〜+30℃で遂行される。
℃好ましくFio℃〜+30℃で遂行される。
この反応は好ましくは無水である不活性有機溶媒中でそ
してアシル化剤がアシルハライドである場合は望着しく
#′i酸結合剤の存在下に実施されるのが好都合である
。使用されうる溶媒の例には、ジメチルアセトアミドの
ようなアミド、テトラヒドロフランのようなエーテル、
アセトンのようなケトン、メチレンクロライドのような
・・ロケ゛ン化巌化水素およびアセトニトリルのよ5n
ニトリルが包含される。好ましい溶媒はジメチルアセト
アミドである。酸結合剤の例には第3アミン例えばトリ
エチルアミンまたはジメチルアニリン、無機塩基例えば
、炭酸カルシウムまたは重炭酸ナトリウム、およびアシ
ル化反応中に遊離されりI・ロゲン化水素を結合するオ
キシラン例えば低級1,2−アルキレンオキシド(例え
ば玉チレンオキシドまたはプロピレンオキシド)が包含
される。
してアシル化剤がアシルハライドである場合は望着しく
#′i酸結合剤の存在下に実施されるのが好都合である
。使用されうる溶媒の例には、ジメチルアセトアミドの
ようなアミド、テトラヒドロフランのようなエーテル、
アセトンのようなケトン、メチレンクロライドのような
・・ロケ゛ン化巌化水素およびアセトニトリルのよ5n
ニトリルが包含される。好ましい溶媒はジメチルアセト
アミドである。酸結合剤の例には第3アミン例えばトリ
エチルアミンまたはジメチルアニリン、無機塩基例えば
、炭酸カルシウムまたは重炭酸ナトリウム、およびアシ
ル化反応中に遊離されりI・ロゲン化水素を結合するオ
キシラン例えば低級1,2−アルキレンオキシド(例え
ば玉チレンオキシドまたはプロピレンオキシド)が包含
される。
フェノキシアセチル化反応が式(II) (式中R1は
水素である)の化合物を用いて実施される場合、得られ
る式(1)の化合物が7−フエツキシアセトアミド基な
らびに3−フェノキシアセトキシメチル基を有している
ことは認識されよう。
水素である)の化合物を用いて実施される場合、得られ
る式(1)の化合物が7−フエツキシアセトアミド基な
らびに3−フェノキシアセトキシメチル基を有している
ことは認識されよう。
同様に、式(1)中のB1が遊離の7ミノ基またはヒド
ロキシル基を含有するアシルアミド基である場合これら
は反応中にフェノキシアセチル化されよう。それゆえ使
用されるフェノキシアセチル化剤の量は出発物賞中にか
かる反応性の基がどれだけ存在するかに左右される。
ロキシル基を含有するアシルアミド基である場合これら
は反応中にフェノキシアセチル化されよう。それゆえ使
用されるフェノキシアセチル化剤の量は出発物賞中にか
かる反応性の基がどれだけ存在するかに左右される。
前記したように、3−位に容易に置換されうる置換基を
導入する場合ラクトンの形成tm止するためにアシル化
の間5−ヒドロキシメチルセファロスポリンの4−カル
ボキシル基會保霞することがこれまて一般に必要であっ
たが、驚ろくべきことに本発明のフェノキシアセチル化
法はたとえ出発セファロスポリンの4−位に遊離のカル
ボキシル基が存在していてもラクトン化することなく進
行することが見出された。
導入する場合ラクトンの形成tm止するためにアシル化
の間5−ヒドロキシメチルセファロスポリンの4−カル
ボキシル基會保霞することがこれまて一般に必要であっ
たが、驚ろくべきことに本発明のフェノキシアセチル化
法はたとえ出発セファロスポリンの4−位に遊離のカル
ボキシル基が存在していてもラクトン化することなく進
行することが見出された。
前記のN−説アシル化反応(1)#i常法例えば英国特
許第1041985号および同第1591437号各明
細書に記載の方法により遂行されうる。
許第1041985号および同第1591437号各明
細書に記載の方法により遂行されうる。
同様忙前記のN−アシル化反応01)は慣用の手段、例
えば英国特許第1399086号明細書忙記載の方法に
より実施されうる。
えば英国特許第1399086号明細書忙記載の方法に
より実施されうる。
前記反応(2)〜6/)も画業上周知の方法、例えば英
国特許第1599086号、同第1342241号およ
び同第2018764 A号各明細書に記載の方法によ
り遂行されうる。
国特許第1599086号、同第1342241号およ
び同第2018764 A号各明細書に記載の方法によ
り遂行されうる。
式(1)の出発化合物は既知化合物でありそして常法例
えば英13i11!!#許第1599086号明細書の
記載のようにして7−アミノ−5−ヒドロキシメチルセ
フ−3−エム−4−カルボン酸のN−アシル化により得
られうる。
えば英13i11!!#許第1599086号明細書の
記載のようにして7−アミノ−5−ヒドロキシメチルセ
フ−3−エム−4−カルボン酸のN−アシル化により得
られうる。
本発明による新規化合物は広いl1mの5−(置換メチ
ル)基を有するセファロスポリン化合物の製造に使用さ
れうる。従って、この化合物は窒素、硫黄および酸素含
有求核性試薬とのような求核性置換反応に付さねつる。
ル)基を有するセファロスポリン化合物の製造に使用さ
れうる。従って、この化合物は窒素、硫黄および酸素含
有求核性試薬とのような求核性置換反応に付さねつる。
これら反応は例えば英国特許第1599086号、同$
2025398号および同1N、 2027691号各
明細書に記載のような当業上訝知の方法と同様にして遂
行されうる。
2025398号および同1N、 2027691号各
明細書に記載のような当業上訝知の方法と同様にして遂
行されうる。
前記したように、5−置換メチル基金担持する抗菌的に
有用なセファロスポリン化合物の製法全体[bける基本
的出発物置は、一般にセファロスポリンC1すなわち(
6R,7R) −7−[D−5−アミノ−5−カルボキ
シはンタンアミド]−4−(アセトキシメチル)セフ−
3−エム−4−カルボン酸およびその塩例えばそのす)
IJウムfたけカリウム塩、またはデスアセチルセフ
ァロスポリンC1すなわちセファロスポリンCの3−ヒ
ドロキシメチル類似体シよびその塩である。セファロス
ポリンCけ例えば英国特許第1474519号および同
第1551212号各明細書に記載の方法によりデスア
セチルセファロスポリンCK変換されうる。本発明によ
る化合物はかかる全過程において、例えばデスアセチル
セファロスポリンCま次は本発明による化合物(Bjけ
N−保時され念アミノアジポイル基である)′f影形成
せるためKより好ましくはそのN−保農された誘導体を
フェノキシアセチル化することにより使用でき、し7か
るのち所望の最終生成物の3−位の基が求核性置換によ
り導入されうる。適切な場合は次にN−検層されたアミ
ノアジポイル基を最終セファロスポリン生成物中に所望
される7−アシル置換基で置換しうる。
有用なセファロスポリン化合物の製法全体[bける基本
的出発物置は、一般にセファロスポリンC1すなわち(
6R,7R) −7−[D−5−アミノ−5−カルボキ
シはンタンアミド]−4−(アセトキシメチル)セフ−
3−エム−4−カルボン酸およびその塩例えばそのす)
IJウムfたけカリウム塩、またはデスアセチルセフ
ァロスポリンC1すなわちセファロスポリンCの3−ヒ
ドロキシメチル類似体シよびその塩である。セファロス
ポリンCけ例えば英国特許第1474519号および同
第1551212号各明細書に記載の方法によりデスア
セチルセファロスポリンCK変換されうる。本発明によ
る化合物はかかる全過程において、例えばデスアセチル
セファロスポリンCま次は本発明による化合物(Bjけ
N−保時され念アミノアジポイル基である)′f影形成
せるためKより好ましくはそのN−保農された誘導体を
フェノキシアセチル化することにより使用でき、し7か
るのち所望の最終生成物の3−位の基が求核性置換によ
り導入されうる。適切な場合は次にN−検層されたアミ
ノアジポイル基を最終セファロスポリン生成物中に所望
される7−アシル置換基で置換しうる。
従って、中間体として、好ましい式(])の化合物には
デスアセチルセファロスポリンCから誘導され、そして
式 () (式中B4 #i水素でありそしてR5け例えば前記し
たような1価のアミノ保睡基であるか、またiJ R4
とR5とが一緒になって例えば前記したような2価のア
ミノ保霞基を構成する)を有する化合物およびその塩が
包含される。R4が水素でありセしてR5がN−ベンゾ
イル基であるのが好ましい。
デスアセチルセファロスポリンCから誘導され、そして
式 () (式中B4 #i水素でありそしてR5け例えば前記し
たような1価のアミノ保睡基であるか、またiJ R4
とR5とが一緒になって例えば前記したような2価のア
ミノ保霞基を構成する)を有する化合物およびその塩が
包含される。R4が水素でありセしてR5がN−ベンゾ
イル基であるのが好ましい。
本発明によるセファロスポリン抗生物質化合物の製造中
間体としてのそれらの主なる用途に加え、それら自体が
、黄色1葡球菌、大腸菌、プロピデンス種(Provi
dence sp@cies)およびインフルエンザ菌
のような広範なグラム陽性およびグラム陰性側1iK対
して抗菌作用を示す。式(1)の抗生物質化合物はこの
ように糧々の細菌感染の治療に使用されうる。
間体としてのそれらの主なる用途に加え、それら自体が
、黄色1葡球菌、大腸菌、プロピデンス種(Provi
dence sp@cies)およびインフルエンザ菌
のような広範なグラム陽性およびグラム陰性側1iK対
して抗菌作用を示す。式(1)の抗生物質化合物はこの
ように糧々の細菌感染の治療に使用されうる。
かかる化合物は一般に既知の抗菌的に活性なセファロス
ポリン中に存在する7−アシルアミド基を有していよう
。従って例えば式(1)の抗生物質化合物においてRI
Fi式 %式% ( (式中Flatj前記した意味、好ましくは場合により
置換されていてもよいフェニル、チェニル、フリル、イ
ンオキサシリル、ピリジル、テトラゾリル、チアゾリル
、チアジアゾリル、シクロヘキサジェニルまたけシトノ
ン基を意味し、 R(1は水素原子、場合により置換さ
れていて本よい低級アルキル着たけシクロアルキル基、
またけアシル基であり、そして−0Rd基はカルボニル
基罠対してシン配置にある)を有する基でありうる。
ポリン中に存在する7−アシルアミド基を有していよう
。従って例えば式(1)の抗生物質化合物においてRI
Fi式 %式% ( (式中Flatj前記した意味、好ましくは場合により
置換されていてもよいフェニル、チェニル、フリル、イ
ンオキサシリル、ピリジル、テトラゾリル、チアゾリル
、チアジアゾリル、シクロヘキサジェニルまたけシトノ
ン基を意味し、 R(1は水素原子、場合により置換さ
れていて本よい低級アルキル着たけシクロアルキル基、
またけアシル基であり、そして−0Rd基はカルボニル
基罠対してシン配置にある)を有する基でありうる。
本発明の抗生物質化合物は他の抗生物質と同様の任意の
慣用方法で投与用に処方で!!千れゆえ本発明はヒトま
念は動物用医薬に使用するのに適合した本発明による抗
生物質化合物からなる薬学的組成物をもその範囲内に包
含する。かかる組成物は任意の必要な薬学的担体またけ
賦形剤管用いて慣用の方法で使用するのに提供されうる
。
慣用方法で投与用に処方で!!千れゆえ本発明はヒトま
念は動物用医薬に使用するのに適合した本発明による抗
生物質化合物からなる薬学的組成物をもその範囲内に包
含する。かかる組成物は任意の必要な薬学的担体またけ
賦形剤管用いて慣用の方法で使用するのに提供されうる
。
本発明による抗生物質化合物は注射用に処方できそして
必要ならば防腐剤を添加してアンプ■・ゝ。
必要ならば防腐剤を添加してアンプ■・ゝ。
ル中で羊位薬量形態でかまたはバイアル容器中で提供さ
れうる。この組成物はtた油性着たは水性ビヒクル中の
懸濁液、溶液または乳濁液のような形態をもとることが
できそして懸濁剤、安定剤および/またけ分散剤のよう
な処方剤をも含有しうる。あるい#:tfた活性成分は
使用前に適鳩なビヒクル例えば滅菌され逢パイロジエン
不含水を用いて再構成する次めの粉末形態でありうる。
れうる。この組成物はtた油性着たは水性ビヒクル中の
懸濁液、溶液または乳濁液のような形態をもとることが
できそして懸濁剤、安定剤および/またけ分散剤のよう
な処方剤をも含有しうる。あるい#:tfた活性成分は
使用前に適鳩なビヒクル例えば滅菌され逢パイロジエン
不含水を用いて再構成する次めの粉末形態でありうる。
この抗生物質化合物はまた例えばカカオ脂または他のグ
リセリドのような慣用の生薬基剤を含有する生薬として
処方されうる。
リセリドのような慣用の生薬基剤を含有する生薬として
処方されうる。
動物医薬用の組成物は例えば長期持続性または速効性基
剤中における乳腺内製剤として処方されうる。
剤中における乳腺内製剤として処方されうる。
組成物は投与方法に応じて0.1s以上、例えば0.1
〜99チの活性物質を含有しうる。組成物が薬量単位か
らなる場合、各単位は好ましくは100〜3000■、
例えば200〜2000岬の活性成分を含有していよう
。成人したヒトの治療に使用される薬用量は投与の経路
および頻度に応じて好ましくij1日当り500〜12
000W、例えば1500〜9000岬である。例ズげ
成人したヒトの治療においては1日当り1000〜40
00岬の静脈または筋肉内投与で通常充分である。
〜99チの活性物質を含有しうる。組成物が薬量単位か
らなる場合、各単位は好ましくは100〜3000■、
例えば200〜2000岬の活性成分を含有していよう
。成人したヒトの治療に使用される薬用量は投与の経路
および頻度に応じて好ましくij1日当り500〜12
000W、例えば1500〜9000岬である。例ズげ
成人したヒトの治療においては1日当り1000〜40
00岬の静脈または筋肉内投与で通常充分である。
本発明による抗生物質化合物は抗生物質例えばはニジリ
ンt+け他のセファロスポリンのような他の治療剤と組
み合せて投与されうる。
ンt+け他のセファロスポリンのような他の治療剤と組
み合せて投与されうる。
以下の例により本発明を説明する。温度はすべてcyc
よる。
よる。
プロトン磁気共鳴(n、m、r、)スはクトルF′i1
00MH2で測定された。積分は帰属と一致する。カッ
プリング定数JijHvであり、サインは判定されなか
った。sw1重項、a=2重項、t−3重項、m=多重
項そしてABq−AB4重項である。
00MH2で測定された。積分は帰属と一致する。カッ
プリング定数JijHvであり、サインは判定されなか
った。sw1重項、a=2重項、t−3重項、m=多重
項そしてABq−AB4重項である。
TFAはトリフルオロ酢−である。
アンバーライト(Amberlite )T、、*2F
i米国ローム・アンド・ハース(Robm and H
aaFl)社から販売されている弱塩基性高分子量第2
アミンである。
i米国ローム・アンド・ハース(Robm and H
aaFl)社から販売されている弱塩基性高分子量第2
アミンである。
例 1
<6R,7R) −7−CD −5−ばンズアミドー5
−カルボキシはンタンアミド)−!5−(フェノキシア
セトキシメチル)セフ−3−エム−4−カルボン酸モノ
ナトリウム塩 N、N−ジメチルアセトアミド1od)中のカリウム(
6R,7R) −7−(D −5−アミノ−5−カルボ
キシ2ンタンアミド)−5−(ヒドロキシメチル)セフ
−5−エム−4−カルホキシレー)(&2f)に−5℃
で塩化ベンゾイル(2,8mg)を攪拌下に満願した。
−カルボキシはンタンアミド)−!5−(フェノキシア
セトキシメチル)セフ−3−エム−4−カルボン酸モノ
ナトリウム塩 N、N−ジメチルアセトアミド1od)中のカリウム(
6R,7R) −7−(D −5−アミノ−5−カルボ
キシ2ンタンアミド)−5−(ヒドロキシメチル)セフ
−5−エム−4−カルホキシレー)(&2f)に−5℃
で塩化ベンゾイル(2,8mg)を攪拌下に満願した。
室温で1時間攪拌を継続しそして0℃に冷却した後、フ
ェノキシアセチルクロライド(15yd)を満願した。
ェノキシアセチルクロライド(15yd)を満願した。
この混合物を周囲温度で1時間攪拌しそして次にメタノ
ール(2,5m)を添加した。15分間攪拌した後この
混合物を酢酸エチル(80m)と水(40m/)との間
に分配しそして有機層を蒸発させて泡状物(14,69
)f得、 コtLf7セ) y (40sd)中にとっ
た。メタノール(20m)中の無水酢酸ナトリウム(1
,64f)の溶液を加え、そして冷却下に熟成させたの
ち沈積し次結晶性固体を真空V過により集め、メタノー
ル/アセトン(1:2)およびアセトンで洗いそして室
温で真空下に乾燥させて標記化合物を得た。7.Of、
r (DM80−46) :1.30 ((1,J
eHz、 7−アミド−NH): 1.54
(d、 J7Fle。
ール(2,5m)を添加した。15分間攪拌した後この
混合物を酢酸エチル(80m)と水(40m/)との間
に分配しそして有機層を蒸発させて泡状物(14,69
)f得、 コtLf7セ) y (40sd)中にとっ
た。メタノール(20m)中の無水酢酸ナトリウム(1
,64f)の溶液を加え、そして冷却下に熟成させたの
ち沈積し次結晶性固体を真空V過により集め、メタノー
ル/アセトン(1:2)およびアセトンで洗いそして室
温で真空下に乾燥させて標記化合物を得た。7.Of、
r (DM80−46) :1.30 ((1,J
eHz、 7−アミド−NH): 1.54
(d、 J7Fle。
ベンズアミド−NH); 2.Q〜五2(ベンズアミド
−およびフェノキシ−): 4.50 (ad、 J
8.4H2,07H):!LO9((1,J 4H2,
C6H): 4.86および5.10 (ABq、 J
12Hz、 C5−CH2−); 5.24 (フェ
ノキシアセテート−〇)(2);および7.6−8.0
(−(CH2)2−C112−Co)。
−およびフェノキシ−): 4.50 (ad、 J
8.4H2,07H):!LO9((1,J 4H2,
C6H): 4.86および5.10 (ABq、 J
12Hz、 C5−CH2−); 5.24 (フェ
ノキシアセテート−〇)(2);および7.6−8.0
(−(CH2)2−C112−Co)。
例 2
(6B、7R) −7−CD −5−フェノキシアセト
アミド−5−カルボキシペンタンアミド〕−3−(フェ
ノキシアセトキシメチル)セフ−3−エム−4−カルボ
ン酸ジカリウム塩 カリウム(6Fl、7R) −7−(D −5−アミノ
−5−カルボキシはンタンアミド)−3−(ヒドロキシ
メチル)セフ−3−エム−4−カルボキシレート(6,
5f)およびN、N−ジメチルアセトアミド(24m)
からなる攪拌している混合物中ff1t下にフェノキシ
アセチルクロライド(4,8m)f20分間かけて加え
た。この反応混合物fO℃で1時間攪拌し、30分後に
プロピレンオキシ)’(1,4m)を加えた。周囲温度
で2時間経過後この混合物を水(10m)中の炭酸カリ
ウム(2,2F)の溶液で処理しそして攪拌しているア
セトン(650m)中に5分間か轄で加え友。生ずる懸
濁液を冷却下に熟成させそして上澄み液管領瀉して捨て
る。沈殿をアセトン(200m/)を用いてスラリーと
なし、固体tFjlKより集めそしてアセトンで洗いそ
して真空下に乾燥して標記化合物を得た。1o、5ta
黴量分析でKClの存在が示された。実測値:c、4五
59; H,五82;N、 5.064 K、 15.
5; C1,6,4’l、C3QH29Nj8011に
2十xcz 1.5としての理論fi : C,4&4
3; H,&52:N、 5.06’ K、 16.5
: C1,6,496,r (D20/NaHCC15
);2.5〜!L2 (2xフェニル) ; 4−42
(d+ J 5 Hv + C7−H);5−06
(+1. J 5H2,C6−H)i 4−98および
5.46 (ABQ 。
アミド−5−カルボキシペンタンアミド〕−3−(フェ
ノキシアセトキシメチル)セフ−3−エム−4−カルボ
ン酸ジカリウム塩 カリウム(6Fl、7R) −7−(D −5−アミノ
−5−カルボキシはンタンアミド)−3−(ヒドロキシ
メチル)セフ−3−エム−4−カルボキシレート(6,
5f)およびN、N−ジメチルアセトアミド(24m)
からなる攪拌している混合物中ff1t下にフェノキシ
アセチルクロライド(4,8m)f20分間かけて加え
た。この反応混合物fO℃で1時間攪拌し、30分後に
プロピレンオキシ)’(1,4m)を加えた。周囲温度
で2時間経過後この混合物を水(10m)中の炭酸カリ
ウム(2,2F)の溶液で処理しそして攪拌しているア
セトン(650m)中に5分間か轄で加え友。生ずる懸
濁液を冷却下に熟成させそして上澄み液管領瀉して捨て
る。沈殿をアセトン(200m/)を用いてスラリーと
なし、固体tFjlKより集めそしてアセトンで洗いそ
して真空下に乾燥して標記化合物を得た。1o、5ta
黴量分析でKClの存在が示された。実測値:c、4五
59; H,五82;N、 5.064 K、 15.
5; C1,6,4’l、C3QH29Nj8011に
2十xcz 1.5としての理論fi : C,4&4
3; H,&52:N、 5.06’ K、 16.5
: C1,6,496,r (D20/NaHCC15
);2.5〜!L2 (2xフェニル) ; 4−42
(d+ J 5 Hv + C7−H);5−06
(+1. J 5H2,C6−H)i 4−98および
5.46 (ABQ 。
J 12He、 C3−cTi2−): 5.72 (
−CTj−NH); 6.78および7、11 (AB
q 、 J 18 H2,2H: C7−H); 7.
72 (−CTj2CONF(−):&0〜a6 (4
H: C’H−CH2−C’H2)。
−CTj−NH); 6.78および7、11 (AB
q 、 J 18 H2,2H: C7−H); 7.
72 (−CTj2CONF(−):&0〜a6 (4
H: C’H−CH2−C’H2)。
例 3
(6R,7R) −7−CD −5−フェノキシアセト
了ミドー5−カルボキシペンタンアミド) −5−(フ
ェノキシアセトキシメチル)セフ−3−エム−4−カル
ボン酸モノナトリウム塩 カリウム((SR,7R) −7−(D −5−アきノ
ー5−カルボキシペンタンアミド)−5−(ヒドロキシ
メチシフセフ−3−エム−4−カルホキシレー)(4,
2F)およびN、N−ジメチルアセトアミド(15m+
/)の−10DK冷却され九攪拌している混合物中にフ
ェノキシアセチルクロライド(4,15g1りを20分
間かけて満願した。この混合物f25分間攪拌し、メタ
ノール(5mg)t−加え、そしてこの混合物を水(2
0m)およびメチレンクロライド(40m)の間に分配
した。有機層を分離し、水洗(!5X21)+/)L、
乾燥しそして蒸発させて油状物となし次。この油状物を
メタノール(25mg)中に溶解させそしてメタノール
(10−)中の無水酢酸ナトリウム(α82f)の溶液
を加え、そして冷却下に熟成させたのち、沈積した固体
t濾過により集め、メタノールで洗いそして真空下に乾
燥して標記化合物を得た。
了ミドー5−カルボキシペンタンアミド) −5−(フ
ェノキシアセトキシメチル)セフ−3−エム−4−カル
ボン酸モノナトリウム塩 カリウム((SR,7R) −7−(D −5−アきノ
ー5−カルボキシペンタンアミド)−5−(ヒドロキシ
メチシフセフ−3−エム−4−カルホキシレー)(4,
2F)およびN、N−ジメチルアセトアミド(15m+
/)の−10DK冷却され九攪拌している混合物中にフ
ェノキシアセチルクロライド(4,15g1りを20分
間かけて満願した。この混合物f25分間攪拌し、メタ
ノール(5mg)t−加え、そしてこの混合物を水(2
0m)およびメチレンクロライド(40m)の間に分配
した。有機層を分離し、水洗(!5X21)+/)L、
乾燥しそして蒸発させて油状物となし次。この油状物を
メタノール(25mg)中に溶解させそしてメタノール
(10−)中の無水酢酸ナトリウム(α82f)の溶液
を加え、そして冷却下に熟成させたのち、沈積した固体
t濾過により集め、メタノールで洗いそして真空下に乾
燥して標記化合物を得た。
4.2F、2m5LX(pH6の燐酸基): !538
(a 1130)および268nm (a 8825
)およびλ1nf: 26&5 (# 8625)およ
び27i5nm (g 7300ルr (DMBOd6
)”、 1.!58 ((!eJ 9Hg、 C7−N
H): 1.96 (d、 J 8Hz、フェノキシア
セトアミド−NH); 2.6−5.2 (2xフェニ
ル); 4.8〜!t4(C3−(J!2−); 5.
27 (フェノキシアセチル−(j(2);5.53(
フェノキシアセトアミド−CH2); 5.82 (
C’))−即);7.82 (−1’:’H2C0NH
−); ao 〜EL5 (4H: CH−CH2−C
)(7−、%カールフィッシャー法による水分含量1.
0畳、ナトリウム含量2.9憾、C30H29N501
1EINa+水分1嗟としての理論値五4%。
(a 1130)および268nm (a 8825
)およびλ1nf: 26&5 (# 8625)およ
び27i5nm (g 7300ルr (DMBOd6
)”、 1.!58 ((!eJ 9Hg、 C7−N
H): 1.96 (d、 J 8Hz、フェノキシア
セトアミド−NH); 2.6−5.2 (2xフェニ
ル); 4.8〜!t4(C3−(J!2−); 5.
27 (フェノキシアセチル−(j(2);5.53(
フェノキシアセトアミド−CH2); 5.82 (
C’))−即);7.82 (−1’:’H2C0NH
−); ao 〜EL5 (4H: CH−CH2−C
)(7−、%カールフィッシャー法による水分含量1.
0畳、ナトリウム含量2.9憾、C30H29N501
1EINa+水分1嗟としての理論値五4%。
例 4
(6R,7R) −7−アはノー3−(フェノキシアセ
トキシメチル)セフ−3−エム−4−カルボン酸ジメチ
ルアニリン(3,42sd)?含有するメチレンクロラ
イドC24d)中の(6R,7R) −7−(D−5−
ベンズアミド−5−カルボキシはンタンアミド)−!i
−(フェノキシアセトキシメチル)セフ−5−エムー4
−カルボン酸モノナトリウム塙(2,85F)の懸濁液
中にトリメチルクロロシラン(五44d)f加え、そし
てこの混合物を周囲温度で5分間攪拌した。得られる溶
液を一40℃に冷却しそして五塩化燐(2,79f)を
加えそしてこの混合物ヲ−30℃で1時間攪拌した。予
め0℃に冷却されたブタン−1,3−ジオール(178
d)およびメチレンクロライド(15sd)の混合物を
反応混合物に加オー九。その混合物を水(15m)で抽
出しそして抽出液をメチレンクロライド(5−)で洗っ
た。水層を5℃に冷却し、濃水酸化アンモニウム水溶液
を用いてpH五6に調整しそして生ずる懸濁液を10分
間にわたりアセトン(30mg)で処理した。固体を濾
過しそして濾過床を水およびアセトンで洗って標記化合
物を得た。2.5f、νma! (ヌジョール): 1
8(15m−’□−ラクタム)。τ(TFA): 2.
65〜五15(フェニル);4.65 (s、 C6お
よびC7−H)i 4.42および4.75 (ABq
。
トキシメチル)セフ−3−エム−4−カルボン酸ジメチ
ルアニリン(3,42sd)?含有するメチレンクロラ
イドC24d)中の(6R,7R) −7−(D−5−
ベンズアミド−5−カルボキシはンタンアミド)−!i
−(フェノキシアセトキシメチル)セフ−5−エムー4
−カルボン酸モノナトリウム塙(2,85F)の懸濁液
中にトリメチルクロロシラン(五44d)f加え、そし
てこの混合物を周囲温度で5分間攪拌した。得られる溶
液を一40℃に冷却しそして五塩化燐(2,79f)を
加えそしてこの混合物ヲ−30℃で1時間攪拌した。予
め0℃に冷却されたブタン−1,3−ジオール(178
d)およびメチレンクロライド(15sd)の混合物を
反応混合物に加オー九。その混合物を水(15m)で抽
出しそして抽出液をメチレンクロライド(5−)で洗っ
た。水層を5℃に冷却し、濃水酸化アンモニウム水溶液
を用いてpH五6に調整しそして生ずる懸濁液を10分
間にわたりアセトン(30mg)で処理した。固体を濾
過しそして濾過床を水およびアセトンで洗って標記化合
物を得た。2.5f、νma! (ヌジョール): 1
8(15m−’□−ラクタム)。τ(TFA): 2.
65〜五15(フェニル);4.65 (s、 C6お
よびC7−H)i 4.42および4.75 (ABq
。
、714Hz、 C5−CH2−); 5.15 (s
、 Ph0CH2−)および6.4 (s、 2H:
C2−H)oカールフィッシャー法による水分含量2.
Oq& 、実測値C,51,3; T(、4,5;
N。
、 Ph0CH2−)および6.4 (s、 2H:
C2−H)oカールフィッシャー法による水分含量2.
Oq& 、実測値C,51,3; T(、4,5;
N。
7.9%、C1681606B1.I2+H202,0
*とシテノjj論饋:C,51,6; )]、 4.
5; N、 7.5511゜例 5 (6B、7R) −7−(D −5−(n−ブトキシカ
ルボニルアミド)−5−カルボキシはンタンア電ド)−
!S−(フェノキシアセトキシメチル)セフ−3−エム
−4−カルボン酸モノナトリウム塩 カリウム(6R,7R) −7−(D −5−アミノ−
5−カルボキシはンタンアミド)−3−(ヒドロキシメ
チル)−セフ−5−エム−4−カルボキシレート(40
y)y水(200sd)中の重脚酸ナトIJ II)A
(17,2f)の攪拌している溶液中[加えた。得られ
る溶液にクロロ蟻酸n−ブチル(124d)を加えそし
てその混合物を周囲温度で1時間半攪拌した。反応混合
物を5℃に冷却しそして酢酸エチル/アセトン(2:1
)混合物(!500d)?用い燐酸を使用してpH2,
0で抽出した。
*とシテノjj論饋:C,51,6; )]、 4.
5; N、 7.5511゜例 5 (6B、7R) −7−(D −5−(n−ブトキシカ
ルボニルアミド)−5−カルボキシはンタンア電ド)−
!S−(フェノキシアセトキシメチル)セフ−3−エム
−4−カルボン酸モノナトリウム塩 カリウム(6R,7R) −7−(D −5−アミノ−
5−カルボキシはンタンアミド)−3−(ヒドロキシメ
チル)−セフ−5−エム−4−カルボキシレート(40
y)y水(200sd)中の重脚酸ナトIJ II)A
(17,2f)の攪拌している溶液中[加えた。得られ
る溶液にクロロ蟻酸n−ブチル(124d)を加えそし
てその混合物を周囲温度で1時間半攪拌した。反応混合
物を5℃に冷却しそして酢酸エチル/アセトン(2:1
)混合物(!500d)?用い燐酸を使用してpH2,
0で抽出した。
有機抽出Wlf−水酸化アンモニウム(α880,7.
52d)で処理しそしてこの懸濁液fO℃に冷却し、V
遇しそして一過床を酢酸エチル/アセトン(2:1)?
I合物およびアセトンで洗い、次に真空下に45℃で乾
燥しく6R,7R) −7−(D −5−(n−ブトキ
シカルボニルアミド)−5−カルボキシインタンアミド
)−3−(ヒドロキシメチル)セフ−3−エム−4−カ
ルボン酸モノアンモニウム塩を固体として得た。54.
7t0この固体(14,72f)IN、N−ジメチルア
セトアミド(45m)中のアセチルクロライド(2,1
3m)およびメタノール(1,2mQからなる攪拌して
いる混合物中に0℃で加えた。この混合物の温ft5℃
以下に保ってフェノキシアセチルクロライド(9,9d
、)f5分間かかつて添加した。仁の混合物を30分間
攪拌して周囲温度まで加熱せしめ、メタノール(10d
) f加えそしてこの混合物f5分間攪拌した。酢酸エ
チル(120m)および半飽和塩化ナトリウム水溶液(
120m/)の混合物を加え、上方の有機層を分離し、
そして半飽和塩化ナトリウム溶W!LC5y60yd)
で洗いそして蒸発させて油状物となす。この油状物をア
セトン(60m)中にとり、そしてメタノール(30m
)中の無水酢酸ナトリウム(2,46F )の溶液を加
えそして冷却下に熟成させたのち、沈積した固体を濾過
により集めそしてアセトン/メタノール(2:1)混合
物およびアセトンで洗いそして真空下に乾燥して標記化
合物を得た。1五Qf。
52d)で処理しそしてこの懸濁液fO℃に冷却し、V
遇しそして一過床を酢酸エチル/アセトン(2:1)?
I合物およびアセトンで洗い、次に真空下に45℃で乾
燥しく6R,7R) −7−(D −5−(n−ブトキ
シカルボニルアミド)−5−カルボキシインタンアミド
)−3−(ヒドロキシメチル)セフ−3−エム−4−カ
ルボン酸モノアンモニウム塩を固体として得た。54.
7t0この固体(14,72f)IN、N−ジメチルア
セトアミド(45m)中のアセチルクロライド(2,1
3m)およびメタノール(1,2mQからなる攪拌して
いる混合物中に0℃で加えた。この混合物の温ft5℃
以下に保ってフェノキシアセチルクロライド(9,9d
、)f5分間かかつて添加した。仁の混合物を30分間
攪拌して周囲温度まで加熱せしめ、メタノール(10d
) f加えそしてこの混合物f5分間攪拌した。酢酸エ
チル(120m)および半飽和塩化ナトリウム水溶液(
120m/)の混合物を加え、上方の有機層を分離し、
そして半飽和塩化ナトリウム溶W!LC5y60yd)
で洗いそして蒸発させて油状物となす。この油状物をア
セトン(60m)中にとり、そしてメタノール(30m
)中の無水酢酸ナトリウム(2,46F )の溶液を加
えそして冷却下に熟成させたのち、沈積した固体を濾過
により集めそしてアセトン/メタノール(2:1)混合
物およびアセトンで洗いそして真空下に乾燥して標記化
合物を得た。1五Qf。
λmax (pH6の燐酸塩): 337.5 (膚9
45)および262mm (g 7810)およびJi
nf: 265.5 (17680)および27&5
nm D 6500)、f (D20/NaHCO5)
: 2.5−il(フェニル); 4.59 (+1
. J’ 58m、 C7−H); 4.9 (aJ
5 Ha、 C6−H); 4.8−5.4 (PhO
CH2−およびC5−c旦2);5.92 (C)l−
NF(−および−CO2C■2−); 457および1
6.9(ABq 、T 18 HJ 2H:C2−H)
; 7.65 (−Cfj2−CONH−);82、−
88 C4H: cu−cu2−cH2−および4H:
−cu2−cr42−CB5)および9.14 (t
、 J 7Hz、 −CB5)。
45)および262mm (g 7810)およびJi
nf: 265.5 (17680)および27&5
nm D 6500)、f (D20/NaHCO5)
: 2.5−il(フェニル); 4.59 (+1
. J’ 58m、 C7−H); 4.9 (aJ
5 Ha、 C6−H); 4.8−5.4 (PhO
CH2−およびC5−c旦2);5.92 (C)l−
NF(−および−CO2C■2−); 457および1
6.9(ABq 、T 18 HJ 2H:C2−H)
; 7.65 (−Cfj2−CONH−);82、−
88 C4H: cu−cu2−cH2−および4H:
−cu2−cr42−CB5)および9.14 (t
、 J 7Hz、 −CB5)。
例 6
(6R,7B) −7−〔D −5−インブトキシカル
ボニルアミド−5−カルボキシズンタンアミド〕−3−
(フェノキシアセトキシメチル〕セフ−3−エム−4−
カルボン酸モ、ノナトリウム塩りロロ蝦酸イソブチル(
a2m)を使用する以外は例5の記載と同様に操作する
ことにより、カリウム(6R,7R) −7−(D −
5−アミノ−5−カルボキシはンタyアミド)−5−(
ヒドロキシメチル)セフ−5−エム−4−カルホキシレ
ー) (20f)を(6R,7B) −7−CD −5
−インブトキシカルボニルアミド−5−カルボキシはン
タンアミド)−3−(ヒドロキシメチル)セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸モノアンモニウム塩(固体1t8f
)に変換した。フェノキシアセチルクロライド(6,6
w1) 1−使用してこの固体(10,6f)?標記化
合物KlK換シftCF11t)。
ボニルアミド−5−カルボキシズンタンアミド〕−3−
(フェノキシアセトキシメチル〕セフ−3−エム−4−
カルボン酸モ、ノナトリウム塩りロロ蝦酸イソブチル(
a2m)を使用する以外は例5の記載と同様に操作する
ことにより、カリウム(6R,7R) −7−(D −
5−アミノ−5−カルボキシはンタyアミド)−5−(
ヒドロキシメチル)セフ−5−エム−4−カルホキシレ
ー) (20f)を(6R,7B) −7−CD −5
−インブトキシカルボニルアミド−5−カルボキシはン
タンアミド)−3−(ヒドロキシメチル)セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸モノアンモニウム塩(固体1t8f
)に変換した。フェノキシアセチルクロライド(6,6
w1) 1−使用してこの固体(10,6f)?標記化
合物KlK換シftCF11t)。
r (D2041aHCO3) : 2.6−3.15
(フェニル):4.41(tl、 J5 H2Cy−
H); 5.01 (d、、 J 5H2,C6−H)
;5−2 (ABq 、 J 14 H7,C5−CB
7−)’、 5.21 (Ph(lcp2−)i&0〜
6.35 (CリーNHおよび−c’o2c旦2−);
6.62および娠9S(ABq、 J 18 H2,
2H: C2−H); 7.65 (−CH2CONH
−):&0−EL5 [−CB(CT(3)2 k !
び4)(: CI(−CJ(2−C’H2−) オよび
9.1 (8,J 7 HG、 (CH3)2C)。λ
tnax (p)16燐酸塩): 559.5 Cm
820)および265mm (a 7995)およびλ
inf: 25&5 (a 7745); 266−5
(a 7995)および274mm (g 6610
)。ナトリウム含量A31C27H32011BN5N
&としての理論値ill。
(フェニル):4.41(tl、 J5 H2Cy−
H); 5.01 (d、、 J 5H2,C6−H)
;5−2 (ABq 、 J 14 H7,C5−CB
7−)’、 5.21 (Ph(lcp2−)i&0〜
6.35 (CリーNHおよび−c’o2c旦2−);
6.62および娠9S(ABq、 J 18 H2,
2H: C2−H); 7.65 (−CH2CONH
−):&0−EL5 [−CB(CT(3)2 k !
び4)(: CI(−CJ(2−C’H2−) オよび
9.1 (8,J 7 HG、 (CH3)2C)。λ
tnax (p)16燐酸塩): 559.5 Cm
820)および265mm (a 7995)およびλ
inf: 25&5 (a 7745); 266−5
(a 7995)および274mm (g 6610
)。ナトリウム含量A31C27H32011BN5N
&としての理論値ill。
例 7
(6R,7R) −7−CD −5−べ/グアミド−5
−カルボキシはンタンアミド]−5−(1−ピリジニウ
ムメチル)セフ−3−エム−4−カルボキシレート 巌酸水素す) IJウム(Q、66f)?含有する水(
14m)中に例1の生成物(5f)を溶解させた。
−カルボキシはンタンアミド]−5−(1−ピリジニウ
ムメチル)セフ−3−エム−4−カルボキシレート 巌酸水素す) IJウム(Q、66f)?含有する水(
14m)中に例1の生成物(5f)を溶解させた。
ピリジン(2,92m)およびチオシアン酸カリウム(
8,8f)を加λ−そしてこの混合物を55〜60℃で
40分間攪拌した。温かい混合物をアセトン(800m
)中に注ぎ、沈積した固体を真空濾過により集め、ア竜
トン次にジエチルエーテルで洗いそして短時間吸引した
。
8,8f)を加λ−そしてこの混合物を55〜60℃で
40分間攪拌した。温かい混合物をアセトン(800m
)中に注ぎ、沈積した固体を真空濾過により集め、ア竜
トン次にジエチルエーテルで洗いそして短時間吸引した
。
湿ったケーキを水(70m)中に溶解させ、そして蟻@
(2,86m)を謬論し次にこの混合物管ジエチルエー
テル(80m)中アンバーライ)I、A2樹脂(32m
)と約5分間攪拌した。有機層1水(16m)で逆洗し
そして合した水層をジエチルエーテルで抽出し次に回転
蒸発器で濃縮して少量(1五6t)となした。オルト燐
酸を満願してp)(+5.3から2.6に低下させそし
て冷却しつつ90分間熟成させたのち、結晶性生成物を
真空V過によ秒集め、冷水法にアセトンで洗いそして真
空下に室温で一夜乾燥して標記化合物1得た。
(2,86m)を謬論し次にこの混合物管ジエチルエー
テル(80m)中アンバーライ)I、A2樹脂(32m
)と約5分間攪拌した。有機層1水(16m)で逆洗し
そして合した水層をジエチルエーテルで抽出し次に回転
蒸発器で濃縮して少量(1五6t)となした。オルト燐
酸を満願してp)(+5.3から2.6に低下させそし
て冷却しつつ90分間熟成させたのち、結晶性生成物を
真空V過によ秒集め、冷水法にアセトンで洗いそして真
空下に室温で一夜乾燥して標記化合物1得た。
2.25f、 tlV(p)16の緩衡液): E:!
、 285 (λl!1laX1% 256.5)およびE、、、 283 (jmaX 2
5五5)。τ(TFA):なかんず< [198(d、
J 6H2,a−ピリジニウム);1.35 (t、
J 6H2,γ−ピリジニウム); 1.95 (t
、 y6Hw 、β−ピリジニウム):五80および4
.65 (ABq、 、T16 Hv、 −CH2−P
yr); &18および6に、65(ABq、J1B+
−1z、 5−C)(2−)。
、 285 (λl!1laX1% 256.5)およびE、、、 283 (jmaX 2
5五5)。τ(TFA):なかんず< [198(d、
J 6H2,a−ピリジニウム);1.35 (t、
J 6H2,γ−ピリジニウム); 1.95 (t
、 y6Hw 、β−ピリジニウム):五80および4
.65 (ABq、 、T16 Hv、 −CH2−P
yr); &18および6に、65(ABq、J1B+
−1z、 5−C)(2−)。
この標記化合物Fiヨーロッパ特許出願第70706号
明細書に記載されており、そしてその明細書に記載のよ
うに(6R,7R) −7−アミノ−3−(1−ヒIJ
’;ニウムメチル)セフ−3−エム−4−カルボキシ
レートジ塩酸塩の調製、続いて抗菌的に活性な7−アシ
ルアミド−3−ピリジニウムメチルセファロスポリンへ
の変換に使用されつる。
明細書に記載されており、そしてその明細書に記載のよ
うに(6R,7R) −7−アミノ−3−(1−ヒIJ
’;ニウムメチル)セフ−3−エム−4−カルボキシ
レートジ塩酸塩の調製、続いて抗菌的に活性な7−アシ
ルアミド−3−ピリジニウムメチルセファロスポリンへ
の変換に使用されつる。
例 8
(sR,7R) −7−((Z)−2−(フルー2−イ
ル)−2−ノドキシイミノアセトアミド) −5−(フ
ェノキシアセトキシメチル)セフ−3−エム−4−カル
ボン酸 (6R,7R) −5−(ヒドロキシメチル)−7−1
11s)−2−(フルー2−イル)−2−ノドキシイミ
ノアセトアミド〕セフ−3−エム−4−カルボンII(
30f)!rN、N−ジメチルアセトアミド(180d
)中に0℃で攪拌下に溶解させそしてフェノキシアセチ
ルクロライド(24m/)tM加処理した。この混合物
を3時間かかつて周囲温a″まで加温せしめ次に水(1
60m/)と酢酸エチル(300m)との間に分配、し
た。有機層を水、飽和食塩水および再ひ水で逐次的に洗
いそして次に減圧下に蒸発乾固させた。残留する油状物
を酢酸エチル(5011/)中に溶解させそして酢酸エ
チル(50m)中の2−エチルヘキサン酸ナトリウム(
13f)の溶液で処理した。生ずる溶液を減圧下に少量
となるまで蒸発させた。この油状生成物をエーテル(約
1t)と混合して固体を得た。
ル)−2−ノドキシイミノアセトアミド) −5−(フ
ェノキシアセトキシメチル)セフ−3−エム−4−カル
ボン酸 (6R,7R) −5−(ヒドロキシメチル)−7−1
11s)−2−(フルー2−イル)−2−ノドキシイミ
ノアセトアミド〕セフ−3−エム−4−カルボンII(
30f)!rN、N−ジメチルアセトアミド(180d
)中に0℃で攪拌下に溶解させそしてフェノキシアセチ
ルクロライド(24m/)tM加処理した。この混合物
を3時間かかつて周囲温a″まで加温せしめ次に水(1
60m/)と酢酸エチル(300m)との間に分配、し
た。有機層を水、飽和食塩水および再ひ水で逐次的に洗
いそして次に減圧下に蒸発乾固させた。残留する油状物
を酢酸エチル(5011/)中に溶解させそして酢酸エ
チル(50m)中の2−エチルヘキサン酸ナトリウム(
13f)の溶液で処理した。生ずる溶液を減圧下に少量
となるまで蒸発させた。この油状生成物をエーテル(約
1t)と混合して固体を得た。
この固体をν過し、エーテルでよく洗いそして真空下に
40℃で乾燥して標記化合物をそのナトリウム塩として
得た。43.4F。
40℃で乾燥して標記化合物をそのナトリウム塩として
得た。43.4F。
このナトリウム塩(10f)’lrl炭酸ナトリウム溶
液を添加してpH6となすことにより水(150m )
中に溶解させそして透明な溶液を酢酸エチル(150m
/)で抽出した。水層に新たな酢酸エチルを加えそして
この混合物を燐酸でpH2に酸性化した。層を分離しそ
して有機層を水洗しそして少量となる着で蒸発させ念。
液を添加してpH6となすことにより水(150m )
中に溶解させそして透明な溶液を酢酸エチル(150m
/)で抽出した。水層に新たな酢酸エチルを加えそして
この混合物を燐酸でpH2に酸性化した。層を分離しそ
して有機層を水洗しそして少量となる着で蒸発させ念。
油状の生成物をエーテル(100m/)で処理しそして
10分間攪拌し次に軽油(沸点60〜80℃)(100
mg)を添加して固体を沈殿させた。固体を濾過により
集め、軽油(沸点60〜80℃)で充分に次に真空下に
40℃で乾燥して標記化合物を粉末(4,5f)として
得た。r (DMSO−d、6): [132((1,
J9H2,C7−NH);2.21,3.52および五
42(多重項、フリルプロトン):2.6−3.2 (
m、フェニルプロトン); 4.22 (+1(1,J
9 H2および5 H2,C7−プロトン);4.90
および5.22(ABq。
10分間攪拌し次に軽油(沸点60〜80℃)(100
mg)を添加して固体を沈殿させた。固体を濾過により
集め、軽油(沸点60〜80℃)で充分に次に真空下に
40℃で乾燥して標記化合物を粉末(4,5f)として
得た。r (DMSO−d、6): [132((1,
J9H2,C7−NH);2.21,3.52および五
42(多重項、フリルプロトン):2.6−3.2 (
m、フェニルプロトン); 4.22 (+1(1,J
9 H2および5 H2,C7−プロトン);4.90
および5.22(ABq。
J1!I H2,C5−CH2): 5.20 (s、
・CH2−oph);および6.10 (s、−0Ck
j!、)、νmaX (ヌジョール):3400〜25
00 (結合した一0r−1)3 3285 (−NH
,); 1787(β−ラクタA); 1765 (
−0COCH2−); 175B (−CO2H);
1686および1554 (−CONH)cfn−j。
・CH2−oph);および6.10 (s、−0Ck
j!、)、νmaX (ヌジョール):3400〜25
00 (結合した一0r−1)3 3285 (−NH
,); 1787(β−ラクタA); 1765 (
−0COCH2−); 175B (−CO2H);
1686および1554 (−CONH)cfn−j。
例 9
ナトリウム(6R,7R) −3−フェノキシアセトキ
シメチル−7−[(Z)−2−(2−フェノキシアセト
アミドチアゾール−4−イル)−2−(2−カルボキシ
プロプ−2−オキシイミノ)−アセトアミド〕セフー3
−エム−4−カルボキシレート ナトリウム(6R,7R) −3−(ヒドロキシメチル
)−7−(シ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(2−カルボキシプロプ−2−オキシイミノ
)アセトアミド〕セフー3−エムー4−カルボキシレー
ト(4,6f)をOCで擾拌下にN、N−ジメチルア七
ドアミド(50m)中に懸濁させ、そしてフェノキシア
セチルクロライド(7,4m)を一度に加えた。この混
合物を0℃で30分間攪拌後、薄層クロマトグラフィー
〔シリカ、CI(Ct3/CH30H/CF(3COO
H(9: 2 : 1 ) ]では出発物質がBf[1
,20f有する生成物に完全に変換されたことが示され
た。抽出処理により、標記化合物がす) IJウム塩と
して単離された(450Tq)。RfQ、20〔シリカ
、CHCtV′メタノール/CR5C02H(9:2:
1 )]。τ(DMSO−(16) :α1B(d。
シメチル−7−[(Z)−2−(2−フェノキシアセト
アミドチアゾール−4−イル)−2−(2−カルボキシ
プロプ−2−オキシイミノ)−アセトアミド〕セフー3
−エム−4−カルボキシレート ナトリウム(6R,7R) −3−(ヒドロキシメチル
)−7−(シ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(2−カルボキシプロプ−2−オキシイミノ
)アセトアミド〕セフー3−エムー4−カルボキシレー
ト(4,6f)をOCで擾拌下にN、N−ジメチルア七
ドアミド(50m)中に懸濁させ、そしてフェノキシア
セチルクロライド(7,4m)を一度に加えた。この混
合物を0℃で30分間攪拌後、薄層クロマトグラフィー
〔シリカ、CI(Ct3/CH30H/CF(3COO
H(9: 2 : 1 ) ]では出発物質がBf[1
,20f有する生成物に完全に変換されたことが示され
た。抽出処理により、標記化合物がす) IJウム塩と
して単離された(450Tq)。RfQ、20〔シリカ
、CHCtV′メタノール/CR5C02H(9:2:
1 )]。τ(DMSO−(16) :α1B(d。
J9 Hv、 C7−NH);、 2.6〜i2
(m、 フェニルプロトン);S、28(8,アミノチ
アゾールプロトン)34.9〜5.6(多重項、アセチ
ルプロトンおよびC2−プロトン);およびC51(s
、 C(C!(5)2)、”maX (ヌジョール)3
700〜5100(NT(およびH2O); 1767
(β−ラクタム); 1679 (CONH);
15!S6 (CONH); 1602(CO2−
)ご1゜ 特許出願人 グラクツ・グループ・リミテッド代 理
人 弁理士 山 下 ・瞥2
(m、 フェニルプロトン);S、28(8,アミノチ
アゾールプロトン)34.9〜5.6(多重項、アセチ
ルプロトンおよびC2−プロトン);およびC51(s
、 C(C!(5)2)、”maX (ヌジョール)3
700〜5100(NT(およびH2O); 1767
(β−ラクタム); 1679 (CONH);
15!S6 (CONH); 1602(CO2−
)ご1゜ 特許出願人 グラクツ・グループ・リミテッド代 理
人 弁理士 山 下 ・瞥2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)3−位にフェノキシアセトキシメチル基を有するセ
ファロスポリン化合物。 2)一般式 (式中R1は水素原子またはアシル基を表わし、R2け
水素原子またはカルボキシル保護基1表わしそしてR3
Fi水素原子または低級アルキル、アルキルチオまたは
アルコキシ基を表わす)を有するセファロスポリン化合
物、および適切な場合はその塩。 3)R2が水素原子である前記特許請求の範囲第2項記
載の化合物。 c式中Ra1lt場合によシ置換されていてもよいアリ
ール(炭素mまたは複素It)、シクロアルキル、シク
ロアルカジェニルまたは非芳香族またはメソイオン性複
素環式基であり、R’i祉水重水素原子合により置換さ
れていてもよい低級アルキルまたはシクロアルキル基、
マたはアシル基であり、そして−OR+1基はカルボニ
ル基に対してシン配置にある〕を有する基であることか
らなる前記特許請求の範囲第2項および第3項のいずれ
かに記載の化合物。 5〕式 (式中F14 t’j水素でありそしてR5Fi1価の
アミノ保護基であるか、またFiB4とR5とが一緒罠
なって2価のアミノ保躾基を構成する)であることから
彦る前記特許請求の範囲第2項記載の化合物およびその
塩。 6)3−位にヒドロキシメチル基を有するセファロスポ
リン化合物をフェノキシアセチル化することからなる前
記特許請求の範囲第1項記載の化合物の製法。 7)式 (式中R1、R2およびp、SJd前記特許請求の範囲
第2項に定義されたとおりである)f有する化合物をフ
ェノキシアセチル化することからなる前記特許請求の範
囲第2項記載の化合物tたけ適切な場合はその塩の製法
。 8)フェノキシアセチル化後に任意の下記反応すなわち (i) R1がアシルアミド基である化合物のN−説
アシル化による7−アミノ化合物の形成、(ii)
R1が水素である化合物のN−アシル化による所望のア
シルアミド基の形成、 伽)塩またはエステル官能分へのカルボキシル基の変換
、 4v) カルボキシル保護基、〇−保−基、8−保護
基およびiiたはN−保護基の除去、および (v)塩官能分への塩基性基の変換 を任意の適当な順序で実施すること力≧らなる前記特許
請求の範囲第7項記載の方法。 9)前記特許請求の範囲第1項記載の化合物を求核置換
反応させて所望の3−置換基を形成させることからなる
5−(置換メチル)基を有するセファロスポリン化合物
の製法。 10)薬学的担体ま次は賦形剤と組み合せた前記特許請
求の範囲第1〜4項のいずれかの項に記載の抗生物質化
合物からなる薬学的組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8207429 | 1982-03-15 | ||
GB8207429 | 1982-03-15 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58167595A true JPS58167595A (ja) | 1983-10-03 |
Family
ID=10528997
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58040828A Pending JPS58167595A (ja) | 1982-03-15 | 1983-03-14 | セフアロスポリン化合物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0089216A3 (ja) |
JP (1) | JPS58167595A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4584371A (en) * | 1984-03-01 | 1986-04-22 | The Upjohn Company | Catalytic process for preparing 3-ester-methyl cephalosporins from desacetyl-7-aminocephalosporanic acid |
GB8611823D0 (en) * | 1986-05-15 | 1986-06-25 | Ici Plc | Process |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1141293A (en) * | 1964-12-23 | 1969-01-29 | Glaxo Lab Ltd | Cephemoic acids and derivatives thereof |
-
1983
- 1983-03-14 EP EP83301392A patent/EP0089216A3/en not_active Withdrawn
- 1983-03-14 JP JP58040828A patent/JPS58167595A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0089216A2 (en) | 1983-09-21 |
EP0089216A3 (en) | 1984-11-21 |
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